[發明專利]一種抗反射涂料組合物及其制備方法以及光刻膠圖案的形成方法

有效

• 申請號: 202310094469.5
• 申請日: 2023-02-10
• 公開（公告）號: CN115948095B
• 公開（公告）日: 2023-09-12
• 發明（設計）人: 易榮坤;林國清;王靜;毛鴻超
• 申請（專利權）人: 廈門恒坤新材料科技股份有限公司
• 主分類號: C09D161/32
• 分類號: C09D161/32;C08G12/40;C08G12/12;G03F7/004
• 代理公司: 廈門荔信律和知識產權代理有限公司 35282
• 代理人: 賴秀華

1.?一種抗反射涂料組合物，其特征在于，所述抗反射涂料組合物中含有聚硫代縮醛、產酸劑、有機溶劑以及任選的添加劑；所述聚硫代縮醛包括衍生自式（1）所示硫代二醇的結構單元以及衍生自式（2）所示烷氧基甘脲的結構單元；

式（1）?式（2）

式（1）中，R₁表示氫、C₁～C₁₀的烷基、C₃～C₂₀的環烷基或C₆～C₂₀的芳香基，n表示1～10的整數；式（2）中，R₂、R₃、R₄和R₅各自獨立地表示-(CH₂)_a-O-(CH₂)_b-CH₃，a為1～6的整數，b為0～6的整數；R₆和R₇各自獨立地表示氫或C₁～C₁₀的烷基；

所述聚硫代縮醛按照以下方法制備得到：

S1、在NiCl₂·6H₂O的存在下，將式（3）所示的醛類化合物與式（4）所示的巰基醇進行縮合反應，得到縮合反應產物；

S2、將步驟S1所得縮合反應產物與式（2）所示的烷氧基甘脲進行縮合聚合反應；

式（3）?式（4）

式（3）中，R₁表示氫、C₁～C₁₀的烷基、C₃～C₂₀的環烷基或C₆～C₂₀的芳香基；式（4）中，n表示1～10的整數。

2.根據權利要求1所述的抗反射涂料組合物，其特征在于，以所述抗反射涂料組合物的總重量為基準，所述聚硫代縮醛的含量為1～10wt%，所述產酸劑的含量為0.01～5wt%，所述有機溶劑的含量為85～95wt%，所述添加劑的含量為0～5wt%。

3.根據權利要求1所述的抗反射涂料組合物，其特征在于，衍生自式（1）所示硫代二醇的結構單元與衍生自式（2）所示烷氧基甘脲的結構單元的摩爾比為(0.1～0.9):1。

4.根據權利要求1所述的抗反射涂料組合物，其特征在于，所述聚硫代縮醛的重均分子量Mw為2000～12000道爾頓，多分散度PDI為1.5～2.5。

5.根據權利要求1所述的抗反射涂料組合物，其特征在于，所述醛類化合物與巰基醇的摩爾比為1:(2～2.5)；所述NiCl₂·6H₂O的用量為醛類化合物和巰基醇總重量的0.5～2%。

6.根據權利要求1所述的抗反射涂料組合物，其特征在于，步驟S1中，所述縮合反應的條件包括溫度為20～35℃，時間為1～2h。

7.根據權利要求1所述的抗反射涂料組合物，其特征在于，步驟S2中，所述縮合聚合反應的條件包括溫度為80～100℃，時間為2～10h。

8.權利要求1～7中任意一項所述的抗反射涂料組合物的制備方法，其特征在于，該方法包括將聚硫代縮醛、產酸劑、有機溶劑以及任選的添加劑混合均勻。

9.一種光刻膠圖案的形成方法，其特征在于，該方法包括將權利要求1～7中任意一項所述的抗反射涂料組合物施加至基底上并進行熱處理，以在基底上形成底部抗反射涂層，再在底部抗反射涂層上形成光刻膠抗蝕層，之后將光刻膠抗蝕層曝光并顯影從而形成光刻膠圖案。