[發明專利]一種先導式調節閥在審
| 申請號: | 202310090707.5 | 申請日: | 2023-02-09 |
| 公開(公告)號: | CN115929916A | 公開(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發明(設計)人: | 周忠云;郝嬌山;蔣永兵;何武;殷銘陽;周志強;劉蘭;粟鵬;蔣繼葦 | 申請(專利權)人: | 重慶川儀調節閥有限公司 |
| 主分類號: | F16K1/00 | 分類號: | F16K1/00;F16K1/32;F16K1/46;F16K35/00 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 周欣 |
| 地址: | 40070*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 先導 調節 | ||
本發明屬于調節閥技術領域,提供一種先導式調節閥。本發明包括閥體、套筒、閥塞、壓盤和連接盤,且所述閥體、套筒、閥塞、壓盤和連接盤形成有第一腔體,其中,所述套筒的側壁設置有節流孔;所述閥塞設置有與所述節流孔連通的第一介質通道;所述壓盤連接于所述閥塞上且設置有與所述第一腔體連通的第二介質通道;所述連接盤位于所述壓盤與閥塞之間形成有容置腔內并與驅動件連接,且在所述驅動件的作用下與所述壓盤貼合或分離,當所述連接盤與壓盤分離時形成第三介質通道,所述介質依次通過所述第一介質通道、第三介質通道和第二介質通道進入所述第一腔體。本發明解決了第一腔體內的介質不能對閥塞快速形成背壓的問題,且結構簡單、改造成本低。
技術領域
本發明涉及調節閥技術領域,特別是涉及一種先導式調節閥。
背景技術
調節閥的應用范圍非常廣泛,在石油、化工、電力、冶金和鋼鐵等各個領域都有被廣泛使用。現有結構的調節閥在閥門打開前,介質通過套筒與閥塞之間的間隙進入閥塞上方的腔體內,由于間隙很小導致進入腔體內的介質需要很長的時間才能對閥塞形成背壓,以對調節閥進行輔助密封。若將套筒與閥塞之間的間隙增大,將使得調節閥的閥門打開后,腔體內的介質不能快速泄壓,導致閥門出現震蕩的情況,影響調節閥對流量的調節精度。因此,需要一種新的技術方案解決上述問題。
發明內容
鑒于以上所述現有技術的缺點,本發明的目的在于提供一種先導式調節閥,用于解決現有技術中進入閥塞上方腔體內的介質無法快速對閥塞形成背壓的問題。
為實現上述目的及其他相關目的,本發明提供一種先導式調節閥,具體是這樣設置的:包括閥體、設置于閥體內的套筒、以及設置于所述套筒內的閥塞、壓盤和連接盤,且所述閥體、套筒、閥塞、壓盤和連接盤形成有第一腔體,所述閥體具有介質入口和介質出口,其中,所述套筒的側壁設置有節流孔,介質通過所述節流孔從所述閥體的介質入口進入所述套筒;所述閥塞設置有與所述節流孔連通的第一介質通道;所述壓盤連接于所述閥塞上,且所述壓盤與閥塞之間形成有容置腔,所述壓盤設置有與所述第一腔體連通的第二介質通道;所述連接盤位于所述容置腔內并與驅動件連接,且在所述驅動件的作用下與所述壓盤貼合或分離;當所述連接盤與壓盤分離時形成第三介質通道,所述第三介質通道分別與第一介質通道和第二介質通道連通,所述介質依次通過所述第一介質通道、第三介質通道和第二介質通道進入所述第一腔體。
可選地,所述閥塞還設置有第四介質通道,所述第四介質通道的內壁設置有第一階梯段和第二階梯段,所述第二階梯段設置于所述第一階梯段的下方,所述連接盤嵌設在所述第一階梯段內,所述壓盤壓設在所述第一階梯段上。
可選地,所述壓盤上設置有防轉件,所述壓盤與連接盤通過所述防轉件連接,所述連接盤沿著所述防轉件的軸線運動與所述壓盤貼合或分離。
可選地,所述連接盤靠近所述壓盤一端的周向側壁上設置有缺口,所述缺口在所述連接盤與壓盤閉合前與第一介質通道形成通路。
可選地,還包括閥芯,所述連接盤套設在所述閥芯上,且所述連接盤與閥芯同步運動。
可選地,所述閥芯的后端貫穿于所述第二介質通道和第一腔體且連接有所述驅動件,所述驅動件驅動所述閥芯的前端與所述第四介質通道閉合或分離,當所述閥芯的前端與第四介質通道分離時,介質通過所述第四介質通道從所述閥體的介質出口流出所述閥體。
可選地,所述連接盤設置有第五介質通道,所述第五介質通道與所述第二階梯段連通,所述第二階梯段內設置有彈性件,且所述彈性件套設在所述閥芯的前端上。
可選地,所述閥塞背離所述壓盤的一端設置有第一密封倒角部,所述套筒的內壁上設置有與所述第一密封倒角部配合的第二密封倒角部;當所述第一密封倒角部和第二密封倒角部分離時,介質通過所述第一密封倒角部和第二密封倒角部的間隙從所述閥體的介質出口流出所述閥體。
可選地,所述閥塞的外壁沿其周向設置有第一凹槽,所述第一凹槽與所述節流孔對應。
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