[發明專利]一種金屬掩膜版光罩組件及金屬掩膜版基材的曝光方法在審
| 申請號： | 202310089665.3 | 申請日： | 2023-02-09 |
| 公開（公告）號： | CN116184772A | 公開（公告）日： | 2023-05-30 |
| 發明（設計）人： | 葉大成;朱友宏;趙敏;沈洵;徐華偉;夏金曉 | 申請（專利權）人： | 浙江眾凌科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 杭州凱知專利代理事務所(普通合伙) 33267 | 代理人： | 金國棟;孫安程 |
| 地址： | 314200 浙江省嘉興市海寧市海*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 金屬 掩膜版光罩 組件 掩膜版 基材 曝光 方法 | ||
1.一種金屬掩膜版光罩組件，其特征在于，包括：
光罩(1)，具有第一平面(11)和第二平面(12)，所述第一平面(11)具有切角(13)，所述切角(13)寬度D1小于光罩(1)厚度T的一半；
夾爪治具(2)，貼合于光罩(1)上下端面，包括治具本體(21)和設置于治具本體(21)一側且貼合切角(13)設置的貼合部(22)；
所述夾爪治具(2)的治具本體(21)擠壓于光罩(1)上下端面致使光罩(1)朝向第一平面(11)形成微小凸起。
2.根據權利要求1所述的一種金屬掩膜版光罩組件，其特征在于，所述切角(13)高度D2小于光罩(1)厚度T的一半。
3.根據權利要求2所述的一種金屬掩膜版光罩組件，其特征在于，所述切角(13)寬度D1、高度D2均大于2mm。
4.根據權利要求1所述的一種金屬掩膜版光罩組件，其特征在于，所述切角(13)的角度θ小于等于60度。
5.根據權利要求4所述的一種金屬掩膜版光罩組件，其特征在于，所述切角(13)的角度θ為45度。
6.一種金屬掩膜版基材的曝光方法，其特征在于，使用如權利要求1-5任一所述的一種金屬掩膜版光罩組件靠近基材進行雙面接觸式曝光，將光罩(1)上圖形轉印至光刻膠上。
7.根據權利要求6所述的一種金屬掩膜版基材的曝光方法，其特征在于，夾爪治具(2)從上下兩側貼合光罩(1)并施加一定擠壓力，使光罩(1)朝向第一平面(11)形成微小凸起。
8.根據權利要求7所述的一種金屬掩膜版基材的曝光方法，其特征在于，移動
夾爪治具(2)通過摩擦力驅動光罩(1)移動使其中部微小凸起先接觸基材，
光罩(1)邊緣后接觸基材。
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