[發(fā)明專利]曝光方法、曝光裝置以及物品的制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202310085005.8 | 申請日： | 2023-01-17 |
| 公開（公告）號： | CN116482946A | 公開（公告）日： | 2023-07-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 白尾纮祥;木島渉;米田慎吾;北川純;高井雄大 | 申請（專利權(quán)）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人： | 孫蕾 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 曝光 方法 裝置 以及 物品 制造 | ||
本發(fā)明涉及曝光方法、曝光裝置以及物品的制造方法。一種在基板的第1拍攝區(qū)域曝光原版的圖案，在與前述第1拍攝區(qū)域的一部分重復(fù)的第2拍攝區(qū)域曝光原版的圖案的曝光方法，包含：第1測量工序，測量與前述第1拍攝區(qū)域?qū)?yīng)的對準(zhǔn)標(biāo)記的位置；以及曝光工序，基于在前述第1測量工序中測量出的結(jié)果進(jìn)行曝光，在前述曝光工序中，基于在前述第1測量工序中測量出的前述對準(zhǔn)標(biāo)記的位置信息進(jìn)行前述第1拍攝區(qū)域的對位，使用用于前述第1拍攝區(qū)域的對位的對準(zhǔn)標(biāo)記的位置信息進(jìn)行前述第2拍攝區(qū)域的對位。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及曝光方法、曝光裝置以及物品的制造方法。
背景技術(shù)
在液晶面板、有機EL顯示器等的制造中，使用將原版(掩模)的圖案經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)對涂敷了感光劑的基板(玻璃基板)進(jìn)行曝光的曝光裝置。近年，大面積的面板的需求高漲，隨之要求曝光裝置曝光的區(qū)域的大面積化。
在日本特開2015-12258號公報中，公開有以相鄰的拍攝區(qū)域的一部分重合的方式曝光的被稱為所謂的接合曝光的曝光方法，能夠?qū)Υ竺娣e的曝光區(qū)域進(jìn)行曝光。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題
然而，在進(jìn)行接合曝光中的上層和底層的重疊時，由于在底層形成的對準(zhǔn)標(biāo)記的測量引起的吞吐量的降低可能成為課題。例如，在以接合曝光的方式對3個拍攝區(qū)域相鄰的上層進(jìn)行曝光時，一般情況下分別測量與各拍攝區(qū)域?qū)?yīng)的、在底層形成的對準(zhǔn)標(biāo)記。由此，計算出底層中的圖案和上層中的圖案的偏差量。然而，在分別測量與各拍攝區(qū)域?qū)?yīng)的對準(zhǔn)標(biāo)記時，需要將測量對準(zhǔn)標(biāo)記的測量部驅(qū)動至能夠測量對準(zhǔn)標(biāo)記的位置，因此有吞吐量降低之虞。
因此，本發(fā)明的目的在于提供在提高接合曝光中的吞吐量方面有利的曝光方法。
為了達(dá)成上述目的，作為本發(fā)明的一方面的曝光方法的特征在于，所述曝光方法在基板的第1拍攝區(qū)域曝光原版的圖案，在與所述第1拍攝區(qū)域的一部分重復(fù)的第2拍攝區(qū)域曝光原版的圖案，所述曝光方法包含：第1測量工序，測量與所述第1拍攝區(qū)域?qū)?yīng)的對準(zhǔn)標(biāo)記的位置；以及曝光工序，基于在所述第1測量工序中測量出的結(jié)果進(jìn)行曝光，在所述曝光工序中，基于在所述第1測量工序中測量出的所述對準(zhǔn)標(biāo)記的位置信息進(jìn)行所述第1拍攝區(qū)域的對位，使用用于所述第1拍攝區(qū)域的對位的對準(zhǔn)標(biāo)記的位置信息進(jìn)行所述第2拍攝區(qū)域的對位。
根據(jù)以下描述的示例性實施例(參考附圖)，本發(fā)明的進(jìn)一步的特征將變得顯而易見。
附圖說明
圖1是示出曝光裝置的結(jié)構(gòu)的概略圖。
圖2是示出對準(zhǔn)觀察儀和離軸觀察儀的配置的圖。
圖3是示出第1實施方式中的拍攝區(qū)域的配置的圖。
圖4是示出省略測量的拍攝區(qū)域的決定處理的流程圖。
圖5是示出第1實施方式中的曝光處理的流程的流程圖。
圖6是示出2個拍攝區(qū)域的配置的圖。
圖7是示出4個以上的拍攝區(qū)域的配置的圖。
圖8是示出第2實施方式中的曝光處理的流程的流程圖。
(附圖標(biāo)記說明)
30：原版；60：基板；70：控制部；100：曝光裝置；AM：對準(zhǔn)標(biāo)記；S1：第1拍攝區(qū)域；S2：第2拍攝區(qū)域；S3：第3拍攝區(qū)域。
具體實施方式
以下，基于所附的附圖，詳細(xì)地說明本發(fā)明的優(yōu)選實施方式。另外，在各圖中，對相同的構(gòu)件賦予相同的附圖標(biāo)記，并省略重復(fù)的說明。
第1實施方式
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