[發(fā)明專利]一種基于衛(wèi)星激光通信的濾波片

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202310083192.6
• 申請日: 2023-02-08
• 公開（公告）號: CN115808733B
• 公開（公告）日: 2023-05-23
• 發(fā)明（設計）人: 吳世臣;胡芬;陳彧龍;程瑩;李秋園;張柯;陳奕辛
• 申請（專利權）人: 南京英田光學工程股份有限公司
• 主分類號: G02B5/28
• 分類號: G02B5/28
• 代理公司: 南京眾聯專利代理有限公司 32206
• 代理人: 許小莉

1.一種基于衛(wèi)星激光通信的濾波片，其特征在于，所述濾波片包括基底玻璃層以及基底玻璃層兩側的鍍膜層，所述基底玻璃層兩側的鍍膜層包括入射光側的全介質F-P窄帶膜系和出射光側的長短波通膜系疊加，所述全介質F-P窄帶膜系表示為(HLH)^S₁?2L(HLH)^S₁；所述長短波通膜系疊加表示為(0.5H?L?0.5H)^S₂(0.5L?H?0.5L^)^S₃；其中H為高折射率材料，L為低折射率材料，S₁，S₂，S₃為迭代次數；

所述高折射率材料選取透明區(qū)1～9um，折射率3.4的Si；低折射率材料選取透明區(qū)0.2～9um，折射率1.45的SiO₂；

所述全介質F-P窄帶膜系0.9倍峰值透過率帶寬由式(1)決定；峰值透過率由式(2)決定，長短波通膜系截止區(qū)由式(3)決定：

式中，Δλ為窄帶濾波片帶寬，λ₀為中心波長，m為干涉級次，R為反射率，為間隔層兩側平均反射率，T_max為最大透過率，T₁為全介質F-P窄帶膜系(HLH)^S₁?2L(HLH)^S₁中以2L作為間隔層左側膜堆結構(HLH)^S₁透過率，T₂為全介質F-P窄帶膜系(HLH)^S₁?2L(HLH)^S₁中以2L作為間隔層右側膜堆結構(HLH)^S₁透過率，δ為截止區(qū)邊界，n_H為高折射率材料的折射率，n_L為低折射率材料的折射率。

2.根據權利要求1所述的一種基于衛(wèi)星激光通信的濾波片，其特征在于，所述基底玻璃層兩側的鍍膜層采用電子束熱蒸發(fā)的方法進行雙面膜層制備；蒸鍍過程采用RF離子源助鍍。