[發(fā)明專利]保持環(huán)和研磨設(shè)備

在審

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• 申請日: 2023-01-16
• 公開（公告）號: CN115958523A
• 公開（公告）日: 2023-04-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 汝浩
• 申請（專利權(quán)）人: 長鑫存儲技術(shù)有限公司
• 主分類號: B24B37/11
• 分類號: B24B37/11;B24B37/34;B24B57/02
• 代理公司: 北京律智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 孫寶海

1.一種保持環(huán)，其特征在于，包括：

環(huán)形本體，具有內(nèi)周壁、外周壁以及連接于所述內(nèi)周壁和所述外周壁的頂端的研磨表面；

所述環(huán)形本體還具有自所述研磨表面凹陷的多個間隔設(shè)置的溝槽，所述溝槽自所述內(nèi)周壁向所述外周壁延伸并貫通；

其中，所述溝槽的兩個側(cè)壁之間的寬度在垂直于所述溝槽底壁的方向上不完全相同，所有所述溝槽的兩個側(cè)壁底部之間的寬度之和大于或等于所有所述溝槽的兩個側(cè)壁頂部之間的寬度之和。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保持環(huán)，其特征在于，多個所述溝槽包括：

第一梯形槽，具有相對的第一底壁和第一開口，在垂直于所述第一底壁的方向上，所述第一梯形槽的寬度自所述第一底壁向所述第一開口的方向逐漸增大。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的保持環(huán)，其特征在于，多個所述溝槽還包括：

第二梯形槽，具有相對的第二底壁和第二開口，在垂直于所述第二底壁的方向上，所述第二梯形槽的寬度自所述第二底壁向所述第二開口的方向逐漸減小。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的保持環(huán)，其特征在于，所述第一梯形槽的第一開口的寬度與所述第二梯形槽的第二開口的寬度之和等于所述第一梯形槽的第一底壁的寬度與所述第二梯形槽的第二底壁的寬度之和。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的保持環(huán)，其特征在于，所述第一梯形槽在垂直于其延伸方向的橫截面具有第一形狀，所述第二梯形槽在垂直于其延伸方向的橫截面具有第二形狀，所述第一形狀在旋轉(zhuǎn)180°后與所述第二形狀重合。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的保持環(huán)，其特征在于，所述第一梯形槽和所述第二梯形槽的數(shù)量相同。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的保持環(huán)，其特征在于，所述第一梯形槽和所述第二梯形槽相鄰且等間隔設(shè)置。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保持環(huán)，其特征在于，多個所述溝槽包括：

擴(kuò)充槽，所述擴(kuò)充槽的兩個側(cè)壁的表面向相互遠(yuǎn)離的方向凹陷，且所述擴(kuò)充槽的開口的寬度等于所述擴(kuò)充槽的底壁的寬度。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的保持環(huán)，其特征在于，所述擴(kuò)充槽的兩個側(cè)壁的表面為弧形面或彎折面。

10.根據(jù)權(quán)利要求3至7中任一項(xiàng)所述的保持環(huán)，其特征在于，多個所述溝槽還包括：擴(kuò)充槽，所述擴(kuò)充槽的兩個側(cè)壁的表面為向相互遠(yuǎn)離的方向凹陷的弧形面，且所述擴(kuò)充槽的開口的寬度等于所述擴(kuò)充槽的底壁的寬度；

所述擴(kuò)充槽設(shè)于所述第一梯形槽和所述第二梯形槽之間。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保持環(huán)，其特征在于，所述溝槽的底壁的表面與所述研磨表面平行。

12.根據(jù)權(quán)利要求1、3和8中任意一項(xiàng)所述的保持環(huán)，其特征在于，所述環(huán)形本體的所述內(nèi)周壁的頂部設(shè)有周向延伸的環(huán)形槽，所述環(huán)形槽與多個所述溝槽連通。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的保持環(huán)，其特征在于，在垂直于所述研磨表面的方向上，所述環(huán)形槽的開口的尺寸小于所述溝槽的深度。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的保持環(huán)，其特征在于，還包括：緩沖墊，設(shè)于所述環(huán)形本體的內(nèi)周壁上；

所述緩沖墊的厚度為0.03mm～0.08mm。

15.一種研磨設(shè)備，用于研磨基板，其特征在于，包括：

研磨墊；

研磨頭，配置為在研磨期間抓取所述基板，并將所述基板抵靠于所述研磨墊進(jìn)行研磨；

如權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的保持環(huán)，安裝于所述研磨頭，配置為在研磨過程中固定所述基板，所述保持環(huán)的研磨表面朝向所述研磨墊；以及

研磨液供給裝置，配置為在研磨期間提供研磨液，所述研磨液通過所述保持環(huán)的溝槽流入以及流出所述研磨墊和所述基板之間。