[發(fā)明專利]一種清潔檢測設(shè)備、清潔及檢測方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202310070653.6
• 申請日: 2023-02-06
• 公開（公告）號: CN115979172A
• 公開（公告）日: 2023-04-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 何家冰;王朝成;楊豪;李勇;李文龍
• 申請（專利權(quán)）人: 晶科能源股份有限公司;浙江晶科能源有限公司
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24;H02S40/10
• 代理公司: 北京匯思誠業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11444
• 代理人: 周放

1.一種清潔檢測設(shè)備，其特征在于，用于輥體(1)，所述清潔檢測設(shè)備包括：

主體部(2)，用于安裝所述輥體(1)；

清潔單元(3)，所述清潔單元(3)安裝于所述主體部(2)，且能夠沿第一方向相對于所述主體部(2)移動，用于清潔所述輥體(1)；

檢測裝置(4)，所述檢測裝置(4)安裝于所述主體部(2)，且能夠相對于所述主體部(2)移動，用于檢測完成清潔后的所述輥體(1)；

其中，所述清潔單元(3)包括清潔裝置(31)和清潔刷(32)，所述清潔刷(32)連接于所述清潔裝置(31)的一側(cè)，沿所述第一方向，所述清潔裝置(31)開設(shè)有多個清潔通道(311)，用于向所述輥體(1)噴射液體或氣體，所述清潔刷(32)用于清刷所述輥體(1)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔檢測設(shè)備，其特征在于，所述清潔刷(32)包括本體部(321)、轉(zhuǎn)動部(322)及刷毛部(323)，所述本體部(321)用于與所述主體部(2)連接，所述轉(zhuǎn)動部(322)的一端與所述主體部(2)可轉(zhuǎn)動地連接，另一端與所述刷毛部(323)連接，所述刷毛部(323)用于與所述輥體(1)接觸。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔檢測設(shè)備，其特征在于，所述主體部(2)設(shè)置有沿所述第一方向延伸的第一導(dǎo)軌(21)，所述清潔刷(32)連接于所述第一導(dǎo)軌(21)并能夠沿所述第一導(dǎo)軌(21)運動，所述清潔單元(3)還包括第一連接件(33)，所述第一連接件(33)一端與所述清潔刷(32)連接，另一端與所述清潔裝置(31)連接，所述清潔裝置(31)在所述清潔刷(32)的帶動下同步沿所述第一導(dǎo)軌(21)延伸方向移動。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔檢測設(shè)備，其特征在于，所述清潔裝置(31)包括進氣管(312)和進液管(313)，所述進氣管(312)和所述進液管(313)均與多個所述清潔通道(311)連通。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔檢測設(shè)備，其特征在于，所述清潔檢測設(shè)備還包括第一驅(qū)動裝置(5)和第二連接件(6)，所述第一驅(qū)動裝置(5)能夠安裝于所述主體部(2)，所述第二連接件(6)一端與所述第一驅(qū)動裝置(5)連接，另一端與所述檢測裝置(4)連接，所述第一驅(qū)動裝置(5)能夠通過所述第二連接件(6)帶動所述檢測裝置(4)沿第二方向運動，所述第二方向與所述第一方向相交。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清潔檢測設(shè)備，其特征在于，所述主體部(2)還設(shè)置有沿所述第一方向延伸的第二導(dǎo)軌(22)和沿第三方向延伸的第三導(dǎo)軌(23)，所述第三方向與所述第一方向、所述第二方向相交，其中所述第三導(dǎo)軌(23)與所述第二導(dǎo)軌(22)連接，且能夠沿所述第二導(dǎo)軌(22)移動，所述第一驅(qū)動裝置(5)設(shè)置于所述第三導(dǎo)軌(23)，且能夠沿所述第三導(dǎo)軌(23)移動。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的清潔檢測設(shè)備，其特征在于，所述主體部(2)設(shè)置有第一安裝支架(25)，用于安裝所述輥體(1)，所述第一安裝支架(25)設(shè)置有第二驅(qū)動裝置(26)，用于驅(qū)動所述輥體(1)轉(zhuǎn)動。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的清潔檢測設(shè)備，其特征在于，所述清潔檢測設(shè)備還包括周轉(zhuǎn)裝置(7)，所述周轉(zhuǎn)裝置(7)與所述主體部(2)分體設(shè)置并能夠相對于所述主體部(2)移動，用于將所述輥體(1)轉(zhuǎn)運至所述主體部(2)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的清潔檢測設(shè)備，其特征在于，所述主體部(2)的底部具有排液孔(8)和導(dǎo)流臺(9)，所述導(dǎo)流臺(9)的高度向靠近所述排液孔(8)的一側(cè)逐漸降低。