[發明專利]一種用于碳化硅晶片拋光液的組合物、拋光液及其制備方法和應用

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• 申請號: 202310053346.7
• 申請日: 2023-02-02
• 公開（公告）號: CN116285698A
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發明（設計）人: 郝唯佑;翟虎;林宏達;孫金梅
• 申請（專利權）人: 浙江兆晶新材料科技有限公司;東旭科技集團有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;H01L21/04
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 陳靜

1.一種用于碳化硅晶片拋光液的組合物，其特征在于，該組合物中含有各自獨立保存或者兩者以上混合保存的以下組分：

磨料、分散穩定劑、化學添加劑、濕潤劑、納米粉末、pH調節劑、水；

所述磨料為氧化硅平均粒徑為80-120nm的納米氧化硅水溶膠和平均粒徑為10-120nm的氧化鋁中的至少一種；

所述納米粉末的平均粒徑為1-5nm；

所述化學添加劑為過氧化氫或氧化鉻；

以干基計，并以所述磨料、所述分散穩定劑、所述化學添加劑、所述濕潤劑、所述納米粉末、所述pH調節劑的總重量為基準，所述磨料的含量為5-26wt％，所述分散穩定劑的含量為40-60wt％，所述化學添加劑的含量為0.1-10wt％，所述濕潤劑的含量為0.1-10wt％，所述納米粉末的含量為0.1-8wt％，所述pH調節劑的含量為0.01-10wt％。

2.根據權利要求1所述的組合物，其特征在于，所述分散穩定劑選自六偏磷酸鈉、聚乙烯醇、聚丙二醇中的至少一種；和/或

所述濕潤劑選自乙醇胺、1,3-丁二醇和三乙醇胺中的至少一種；和/或

所述pH調節劑選自乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、N-(2-羥乙基)乙二胺、氫氧化鈉、氫氧化鉀中的至少一種。

3.一種制備碳化硅晶片拋光液的方法，其特征在于，該方法應用權利要求1或2中所述組合物中的各組分進行，包括：

(1)將水、分散穩定劑和磨料進行接觸混合I，得到混合物I；

(2)將化學添加劑、濕潤劑和所述混合物I進行接觸混合II，得到混合物II；

(3)將納米粉末和所述混合物II進行接觸混合III，得到拋光液；

其中，所述化學添加劑為過氧化氫或氧化鉻。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，在步驟(1)中，所述接觸混合I的操作在超聲的條件下進行，包括第一超聲處理、第二超聲處理、第三超聲處理、第四超聲處理；

其中，所述第一超聲處理至少滿足：頻率為40-60Hz，溫度為20-30℃，時間為5-20min；和/或

所述第二超聲處理至少滿足：頻率為80-120Hz，溫度為20-30℃，時間為5-20min；和/或

所述第三超聲處理至少滿足：頻率為180-220Hz，溫度為20-30℃，時間為5-20min；和/或

所述第四超聲處理至少滿足：頻率為450-550Hz，溫度為20-30℃，時間為5-20min。

5.根據權利要求3或4所述的方法，其特征在于，在步驟(2)中，所述接觸混合II在超聲的條件下進行，且至少滿足：頻率為30-50Hz，溫度為20-30℃，時間為2-10min。

6.根據權利要求3-5中任意一項所述的方法，其特征在于，在步驟(3)中，所述接觸混合III在超聲的條件下進行，且至少滿足：頻率為30-50Hz，溫度為20-30℃，時間為2-10min。

7.根據權利要求3-6中任意一項所述的方法，其特征在于，所述化學添加劑為氧化鉻；且使用pH調節劑將所述拋光液的pH調至3-6.5，得到碳面拋光液。

8.根據權利要求3-6中任意一項所述的方法，其特征在于，所述化學添加劑為過氧化氫；且使用pH調節劑將所述拋光液的pH調至7.5-11，得到硅面拋光液。

9.由權利要求3-8中任意一項所述的方法制備得到的碳化硅晶片拋光液。

10.權利要求9所述的碳化硅晶片拋光液在清洗碳化硅晶片制造領域中的應用。