[發明專利]帶防反射膜的透明基體和圖像顯示裝置在審
| 申請號: | 202310052217.6 | 申請日: | 2023-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN116466419A | 公開(公告)日: | 2023-07-21 |
| 發明(設計)人: | 竹本和矢;河合啟介;藤原晃男;高星英明 | 申請(專利權)人: | AGC株式會社 |
| 主分類號: | G02B1/115 | 分類號: | G02B1/115;G02B5/02;G02B1/18;G09F9/00;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 趙青 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反射 透明 基體 圖像 顯示裝置 | ||
1.一種帶防反射膜的透明基體,具備:具有二個主面的透明基體以及在該透明基體的一個主面上依次具有的擴散層和防反射膜,
(A)所述帶防反射膜的透明基體的最表面的光反射率SCI?Y為1%以下,
(B)所述防反射膜為層疊有至少2層的折射率彼此不同的電介質層而成的層疊結構,
(C)所述帶防反射膜的透明基體的最表面的漫反射率SCE?Y與所述帶防反射膜的透明基體的最表面的光反射率SCI?Y之比、即SCE?Y/SCI?Y為0.15以上。
2.根據權利要求1所述的帶防反射膜的透明基體,其中,所述透明基體與所述擴散層的層疊體的霧度值為10%以上。
3.根據權利要求1所述的帶防反射膜的透明基體,其中,光透射率Y為20~90%。
4.根據權利要求1所述的帶防反射膜的透明基體,其中,所述防反射膜的薄層電阻為104Ω/□以上。
5.根據權利要求1所述的帶防反射膜的透明基體,其中,D65光源下的透射色中的b*值為5以下。
6.根據權利要求1所述的帶防反射膜的透明基體,其中,所述電介質層中的至少1層主要由Si的氧化物構成,所述層疊結構的層中的另外的至少1層主要由混合氧化物構成,該混合氧化物是選自由Mo和W構成的A組中的至少一種氧化物與選自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn和In構成的B組中的至少一種氧化物的混合氧化物,相對于該混合氧化物中含有的A組的元素和該混合氧化物中含有的B組的元素的合計,該混合氧化物中含有的B組的元素的含有率為65質量%以下。
7.根據權利要求1所述的帶防反射膜的透明基體,其中,在所述防反射膜上進一步具有防污膜。
8.根據權利要求1所述的帶防反射膜的透明基體,其中,所述透明基體包含玻璃。
9.根據權利要求1所述的帶防反射膜的透明基體,其中,所述透明基體包含選自聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、丙烯酸、有機硅或三乙酰纖維素中的至少一種樹脂。
10.根據權利要求1所述的帶防反射膜的透明基體,其中,所述透明基體為玻璃與選自聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、丙烯酸、有機硅或三乙酰纖維素中的至少一種樹脂的層疊體。
11.根據權利要求8所述的帶防反射膜的透明基體,其中,所述玻璃經化學強化。
12.根據權利要求1所述的帶防反射膜的透明基體,其中,所述透明基體在具有所述防反射膜的一側的主面實施了防眩處理。
13.一種圖像顯示裝置,具備權利要求1~12中任一項所述的帶防反射膜的透明基體。
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