[發(fā)明專利]指紋識(shí)別探針、顯影劑和介質(zhì)表面潛指紋熒光成像方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202310047431.2
• 申請(qǐng)日: 2023-01-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN116003380A
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-04-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李振;陳乙;謝育俊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 天津大學(xué)
• 主分類號(hào): C07D401/04
• 分類號(hào): C07D401/04;C07D417/04;C07D413/04;C07D213/74;C09K11/06;G01N21/64;G03C5/30
• 代理公司: 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 12201
• 代理人: 琪琛

1.一種指紋識(shí)別探針，其特征在于，具有如式(一)所示的結(jié)構(gòu)通式：

式(一)中，Ar為含氮原子的芳香雜環(huán)基團(tuán)中的一種；X為Cl^-,Br^-,I^-中的一種；R為以下基團(tuán)中的一種：

其中，n代表碳原子個(gè)數(shù)，n的取值范圍為1～5。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種指紋識(shí)別探針，其特征在于，Ar為式(二)到式(七)中的一種：

3.一種顯影劑，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-2中任一項(xiàng)所述的指紋識(shí)別探針，且使用的溶劑均為水。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種顯影劑，其特征在于，所述顯影劑的濃度為2×10^-5～1×10^-3摩爾/升。

5.一種介質(zhì)表面潛指紋熒光成像方法，其特征在于，使用如權(quán)利要求3-4中任一項(xiàng)所述顯影劑與附有潛指紋的介質(zhì)接觸一段時(shí)間后將介質(zhì)取出；在激發(fā)光照射下，所述顯影劑中的指紋識(shí)別探針發(fā)出熒光，實(shí)現(xiàn)對(duì)指紋紋路及細(xì)節(jié)特征的可視化，用于指紋顯影。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種介質(zhì)表面潛指紋熒光成像方法，其特征在于，所述顯影劑與所述附有潛指紋的介質(zhì)接觸的方式為所述顯影劑通過(guò)噴霧或滴涂覆蓋所述附有潛指紋的介質(zhì)，或者將所述附有潛指紋的介質(zhì)浸泡在所述顯影劑中。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種介質(zhì)表面潛指紋熒光成像方法，其特征在于，所述顯影劑與所述附有潛指紋的介質(zhì)接觸的時(shí)間為5～30s。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種介質(zhì)表面潛指紋熒光成像方法，其特征在于，所述紫外光的激發(fā)波長(zhǎng)為365～395nm。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種介質(zhì)表面潛指紋熒光成像方法，其特征在于，所述指紋顯影通過(guò)拍攝記錄。