[發(fā)明專利]顯示裝置和制造顯示裝置的方法

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• 申請日: 2023-01-13
• 公開（公告）號: CN116507164A
• 公開（公告）日: 2023-07-28
• 發(fā)明（設計）人: 梁伸赫;金志訓;姜東漢;李準起
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: H10K59/131
• 分類號: H10K59/131
• 代理公司: 北京金宏來專利代理事務所(特殊普通合伙) 11641
• 代理人: 李子光

1.一種顯示裝置，包括：

襯底，所述襯底包括顯示區(qū)域和在所述顯示區(qū)域外部的外圍區(qū)域；

顯示元件，所述顯示元件排列在所述顯示區(qū)域中；以及

焊盤，所述焊盤排列在所述外圍區(qū)域中，所述焊盤包括：

第一金屬層，

第二金屬層，所述第二金屬層布置在所述第一金屬層上，

第一金屬氧化物層，所述第一金屬氧化物層布置在所述第二金屬層上并且與所述第二金屬層面接觸，以及

氧化物導電層，所述氧化物導電層布置在所述第一金屬氧化物層上并且與所述第一金屬氧化物層面接觸。

2.根據權利要求1所述的顯示裝置，其中，所述氧化物導電層包括氧化銦錫。

3.根據權利要求1所述的顯示裝置，其中，所述氧化物導電層包括非晶氧化銦錫。

4.根據權利要求1所述的顯示裝置，其中，所述第一金屬氧化物層包括所述第二金屬層所包括的金屬的氧化物。

5.根據權利要求1所述的顯示裝置，其中，所述氧化物導電層在朝向所述第一金屬氧化物層的方向上的底表面具有比所述氧化物導電層的上表面的面積小的面積，并且所述氧化物導電層的側表面相對于所述第一金屬氧化物層的上表面傾斜。

6.根據權利要求5所述的顯示裝置，其中，所述第一金屬氧化物層的所述上表面的面積等于所述氧化物導電層在朝向所述第一金屬氧化物層的所述方向上的所述底表面的所述面積。

7.根據權利要求6所述的顯示裝置，還包括第二金屬氧化物層，所述第二金屬氧化物層在所述第二金屬層上以定位在所述第一金屬氧化物層外部。

8.根據權利要求7所述的顯示裝置，其中，所述第一金屬氧化物層和所述第二金屬氧化物層一體地形成為單個本體。

9.根據權利要求7所述的顯示裝置，其中，所述第一金屬氧化物層具有比所述第二金屬氧化物層的厚度大的厚度。

10.根據權利要求7所述的顯示裝置，其中，所述第一金屬氧化物層和所述第二金屬氧化物層包括相同的材料。

11.根據權利要求7所述的顯示裝置，其中，所述第一金屬氧化物層和所述第二金屬氧化物層包括所述第二金屬層所包括的金屬的氧化物。

12.根據權利要求7所述的顯示裝置，其中，所述第二金屬層包括銅，并且所述第一金屬氧化物層和所述第二金屬氧化物層包括氧化銅。

13.根據權利要求5所述的顯示裝置，其中，所述氧化物導電層的所述上表面的所述面積等于或小于所述第二金屬層的上表面的面積。

14.根據權利要求5所述的顯示裝置，其中，所述氧化物導電層的所述底表面與所述側表面之間的角度大于90°且小于或等于170°。

15.根據權利要求1所述的顯示裝置，其中，所述第一金屬層包括鈦。

16.根據權利要求1所述的顯示裝置，其中，所述氧化物導電層具有至的厚度。

17.根據權利要求1所述的顯示裝置，其中，所述第二金屬層的底表面的面積大于所述第二金屬層的上表面的面積，并且所述第二金屬層的側表面相對于所述第二金屬層的所述底表面傾斜。

18.根據權利要求17所述的顯示裝置，其中，所述第二金屬層的所述底表面與所述側表面之間的角度大于或等于30°且小于或等于70°。