[發(fā)明專利]一種泥頁(yè)巖孔隙表面粗糙度分析、建模方法及系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202310040752.X | 申請(qǐng)日: | 2023-01-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN116245819A | 公開(公告)日: | 2023-06-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡笑非;鄧虎成;龐宇;杜宇;雷思凡;解馨慧 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 成都理工大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06T7/00 | 分類號(hào): | G06T7/00;G01B15/08;G06T3/40;G16C60/00 |
| 代理公司: | 成都知棋知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 51325 | 代理人: | 馬曉靜 |
| 地址: | 610059 四川省成都*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 頁(yè)巖 孔隙 表面 粗糙 分析 建模 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種泥頁(yè)巖孔隙表面粗糙度分析、建模方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一:先根據(jù)實(shí)際分析需要制備泥頁(yè)巖樣品,再對(duì)制備出的泥頁(yè)巖樣品進(jìn)行新鮮斷面截取,接著在泥頁(yè)巖樣品上除新鮮斷面以外的面涂覆包裹導(dǎo)電膠,得到被導(dǎo)電膠半包裹的泥頁(yè)巖樣品,隨后對(duì)被導(dǎo)電膠半包裹的泥頁(yè)巖樣品表面鍍金顆粒處理,然后將鍍金顆粒處理后的泥頁(yè)巖樣品固定在掃描電鏡觀察臺(tái)上;
步驟二:先對(duì)掃描電鏡觀察臺(tái)上的掃描電鏡儀器進(jìn)行掃描參數(shù)進(jìn)行設(shè)定,再在設(shè)定的固定掃描參數(shù)下對(duì)泥頁(yè)巖樣品的新鮮斷面進(jìn)行圖像掃描,并基于連續(xù)移動(dòng)掃描拍攝的方法獲取一組以上的泥頁(yè)巖樣品新鮮斷面照片;
步驟三:將步驟二中拍攝的泥頁(yè)巖樣品新鮮斷面照片進(jìn)行連續(xù)拼接,形成大面積泥頁(yè)巖斷面照片;
步驟四:采用圖像處理軟件將步驟三中拼接得到的大面積泥頁(yè)巖斷面照片進(jìn)行圖像處理,獲取大面積泥頁(yè)巖斷面照片的孔隙粗糙度三維立體圖像、粗糙度參數(shù)值以及孔隙結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù);
步驟五:根據(jù)步驟四中獲取的大面積泥頁(yè)巖斷面照片的孔隙粗糙度三維立體圖像、粗糙度參數(shù)值以及孔隙結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)獲取,實(shí)際泥頁(yè)巖樣品粗糙度優(yōu)勢(shì)特征和孔徑分布優(yōu)勢(shì)分布范圍,并建立具有粗糙度的多孔徑泥頁(yè)巖納米級(jí)分子孔隙結(jié)構(gòu)模型。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種泥頁(yè)巖孔隙表面粗糙度分析、建模方法,其特征在于:所述步驟一中,所述導(dǎo)電膠的主要成分為銀粉,所述泥頁(yè)巖樣品的表面鍍金顆粒處理操作在真空環(huán)境下進(jìn)行。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種泥頁(yè)巖孔隙表面粗糙度分析、建模方法,其特征在于:所述步驟二中,所述掃描電鏡儀器為場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡,所述設(shè)定的固定掃描參數(shù)包括固定放大倍數(shù)、固定對(duì)比度和固定-亮度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種泥頁(yè)巖孔隙表面粗糙度分析、建模方法,其特征在于:所述步驟四中,對(duì)大面積泥頁(yè)巖斷面照片進(jìn)行圖像處理的具體步驟為:
S1、先調(diào)整大面積泥頁(yè)巖斷面照片的灰度值截取范圍,并提取大面積泥頁(yè)巖斷面孔隙,獲得孔隙形貌照片;
S2、接著對(duì)孔隙形貌照片中的孔隙結(jié)構(gòu)的面積和圓度設(shè)定過(guò)濾范圍,并經(jīng)過(guò)濾后對(duì)孔隙結(jié)構(gòu)的真實(shí)孔隙灰度值和半徑數(shù)據(jù)進(jìn)行提?。?/p>
S3、再獲得大面積泥頁(yè)巖斷面的灰度值粗糙度分布三維立體分布圖;
S4、然后將孔隙形貌照片用圖像處理軟件進(jìn)行粗糙度分析,并通過(guò)圖像處理軟件得到反應(yīng)粗糙度的灰度值分布特征曲線圖,同時(shí)利用圖像處理軟件得到孔隙粗糙度三維立體圖像及粗糙度參數(shù)值。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種泥頁(yè)巖孔隙表面粗糙度分析、建模方法,其特征在于:所述S4中,采用的圖像處理軟件為ImageJ軟件,孔隙形貌照片采用ImageJ軟件中的SurfCharJ插件進(jìn)行粗糙度分析,反應(yīng)粗糙度的灰度值分布特征曲線圖采用ImageJ軟件中的PlotProfile工具獲取。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種泥頁(yè)巖孔隙表面粗糙度分析、建模方法,其特征在于:所述步驟五中,建立的多孔徑泥頁(yè)巖納米級(jí)分子孔隙結(jié)構(gòu)模型的主要孔隙結(jié)構(gòu)為有機(jī)質(zhì)孔隙和粘土礦物孔隙,通過(guò)多孔徑泥頁(yè)巖納米級(jí)分子孔隙結(jié)構(gòu)模型反應(yīng)泥頁(yè)巖斷面的孔隙特征。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種泥頁(yè)巖孔隙表面粗糙度分析、建模方法,其特征在于:所述步驟五中,建立模型時(shí),根據(jù)泥頁(yè)巖樣品的晶胞單元分子式,提供一種有機(jī)質(zhì)單元分子結(jié)構(gòu)和三種粘土礦物單元分子結(jié)構(gòu),所述有機(jī)質(zhì)單元分子結(jié)構(gòu)的分子式為:石墨有機(jī)質(zhì)C,所述三種粘土礦物單元分子結(jié)構(gòu)的分子式分別為:Na-蒙脫石Na0.75(Si7.75Al0.25)(Al3.5Mg0.5)O20(OH)4、K-伊利石K(Si7Al)Al4O20(OH)4、高嶺石Al4Si4O10(OH)8。
8.一種泥頁(yè)巖孔隙表面粗糙度分析、建模系統(tǒng),其特征在于:包括用于對(duì)泥頁(yè)巖孔隙粗糙度和孔徑結(jié)構(gòu)進(jìn)行確定的參數(shù)確定模塊、用于泥頁(yè)巖孔隙粗糙度和孔徑分別進(jìn)行處理的參數(shù)處理模塊以及用于建立反應(yīng)孔隙特征的分子結(jié)構(gòu)模型的模型建立模塊,所述參數(shù)確定模塊通過(guò)參數(shù)處理模塊與模型建立模塊連接。
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