[發(fā)明專利]產(chǎn)品圖像缺陷檢測(cè)方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202310033733.4
• 申請(qǐng)日: 2023-01-10
• 公開（公告）號(hào): CN116030016A
• 公開（公告）日: 2023-04-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙哲;肖圣端;張權(quán);王剛;呂炎州;英高海
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣州市易鴻智能裝備有限公司
• 主分類號(hào): G06T7/00
• 分類號(hào): G06T7/00;G06T7/136
• 代理公司: 廣州駿思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44425
• 代理人: 張金龍

1.一種產(chǎn)品圖像缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，包括以下步驟：

獲取待檢測(cè)的產(chǎn)品圖像；

將所述產(chǎn)品圖像輸入訓(xùn)練好的語(yǔ)義分割模型，得到缺陷預(yù)測(cè)二值圖；

將所述產(chǎn)品圖像輸入訓(xùn)練好的關(guān)鍵點(diǎn)監(jiān)測(cè)模型，得到所述產(chǎn)品圖像中所有缺陷點(diǎn)對(duì)應(yīng)的坐標(biāo)；

將所述缺陷點(diǎn)對(duì)應(yīng)的坐標(biāo)投射到所述缺陷預(yù)測(cè)二值圖中，遍歷所有缺陷預(yù)測(cè)區(qū)域，當(dāng)所述缺陷預(yù)測(cè)區(qū)域內(nèi)包含缺陷點(diǎn)對(duì)應(yīng)的坐標(biāo)，則判定該缺陷預(yù)測(cè)區(qū)域?yàn)檎鎸?shí)缺陷區(qū)域。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種產(chǎn)品圖像缺陷檢測(cè)方法，其特征在于：

所述語(yǔ)義分割模型為deeplab?v3模型。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種產(chǎn)品圖像缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，所述deeplab?v3模型的訓(xùn)練過程包括：

獲取語(yǔ)義分割數(shù)據(jù)集，所述數(shù)據(jù)集包括多張產(chǎn)品圖像，每張產(chǎn)品圖像包括對(duì)應(yīng)的缺陷標(biāo)注；

構(gòu)建deeplab?v3模型，其中，所述deeplab?v3模型的損失函數(shù)為逐像素的交叉熵?fù)p失；

使用所述語(yǔ)義分割數(shù)據(jù)集訓(xùn)練所述deeplab?v3模型，得到訓(xùn)練好的語(yǔ)義分割模型；其中，訓(xùn)練采用poly學(xué)習(xí)率策略，初始學(xué)習(xí)率設(shè)置為0.007。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種產(chǎn)品圖像缺陷檢測(cè)方法，其特征在于：

所述關(guān)鍵點(diǎn)檢測(cè)模型為SimpleBaselines模型。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種產(chǎn)品圖像缺陷檢測(cè)方法，其特征在于，所述SimpleBaselines模型的訓(xùn)練過程包括：

獲取關(guān)鍵點(diǎn)檢測(cè)數(shù)據(jù)集，所述數(shù)據(jù)集包括多張產(chǎn)品圖像，每張產(chǎn)品圖像包括對(duì)應(yīng)的缺陷關(guān)鍵點(diǎn)坐標(biāo)標(biāo)注；

構(gòu)建所述SimpleBaselines模型，其中，所述SimpleBaselines模型的損失函數(shù)為均方誤差，優(yōu)化算法為Adam，batch?size＝32；num?epochs＝30；lr＝0.01；

使用所述關(guān)鍵點(diǎn)檢測(cè)數(shù)據(jù)集對(duì)所述SimpleBaselines模型進(jìn)行訓(xùn)練至收斂，得到訓(xùn)練好的關(guān)鍵點(diǎn)檢測(cè)模型。

6.一種產(chǎn)品圖像缺陷檢測(cè)裝置，其特征在于，包括：

產(chǎn)品圖像獲取模塊，用于獲取待檢測(cè)的產(chǎn)品圖像；

缺陷預(yù)測(cè)二值圖獲取模塊，用于將所述產(chǎn)品圖像輸入訓(xùn)練好的語(yǔ)義分割模型，得到缺陷預(yù)測(cè)二值圖；

缺陷點(diǎn)坐標(biāo)獲取模塊，用于將所述產(chǎn)品圖像輸入訓(xùn)練好的關(guān)鍵點(diǎn)監(jiān)測(cè)模型，得到所述產(chǎn)品圖像中所有缺陷點(diǎn)對(duì)應(yīng)的坐標(biāo)；

缺陷區(qū)域判定模塊，用于將所述缺陷點(diǎn)對(duì)應(yīng)的坐標(biāo)投射到所述缺陷預(yù)測(cè)二值圖中，遍歷所有缺陷預(yù)測(cè)區(qū)域，當(dāng)所述缺陷預(yù)測(cè)區(qū)域內(nèi)包含缺陷點(diǎn)對(duì)應(yīng)的坐標(biāo)，則判定該缺陷預(yù)測(cè)區(qū)域?yàn)檎鎸?shí)缺陷區(qū)域。

7.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括：

至少一個(gè)存儲(chǔ)器以及至少一個(gè)處理器；

所述存儲(chǔ)器，用于存儲(chǔ)一個(gè)或多個(gè)程序；

當(dāng)所述一個(gè)或多個(gè)程序被所述至少一個(gè)處理器執(zhí)行，使得所述至少一個(gè)處理器實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-5任一所述的一種產(chǎn)品圖像缺陷檢測(cè)方法的步驟。

8.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其特征在于：

所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-5任一所述的一種產(chǎn)品圖像缺陷檢測(cè)方法的步驟。