[發明專利]用于制備環保型清洗劑的組合物、環保型清洗劑及其制備方法和應用

在審

• 申請號: 202310028677.5
• 申請日: 2023-01-09
• 公開（公告）號: CN116286216A
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發明（設計）人: 李青;李赫然;帥旭東;陳富貴;陳哲
• 申請（專利權）人: 陜西東城皓宇新材料科技有限公司;東旭科技集團有限公司
• 主分類號: C11D1/86
• 分類號: C11D1/86;C11D3/20;C11D3/36;C11D3/60
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 陳靜

本發明涉及玻璃清洗技術領域，公開了一種用于制備環保型清洗劑的組合物、環保型清洗劑及其制備方法和應用。該組合物中含有以下組分：DL?酒石酸、酒石酸鈉、陰離子表面活性劑、陽離子表面活性劑、非離子表面活性劑、螯合劑、消泡劑、增稠劑、水。采用本發明提供的組合物制備得到的清洗劑無毒無害，無腐蝕性；廢液不會造成環境污染；并且使用該清洗劑清洗后的玻璃基片上不會殘留清洗液和水漬；且清洗劑的pH值處于弱酸和弱堿范圍內，不僅對玻璃基片有極好的清洗效果，而且經過清洗后的玻璃基片不會出現發藍及黑點的問題，能夠提高玻璃基片合格率。

技術領域

本發明涉及玻璃清洗技術領域，具體地，涉及用于制備環保型清洗劑的組合物、環保型清洗劑及其制備方法和應用。

背景技術

隨著半導體技術的快速發展，半導體產品逐漸趨向尺寸擴大化、工藝精益化、生產高精度化、設備高自動化，這一系列變化直接導致半導體生產系統及其生產工藝標準的要求提高。

液晶顯示器件、有機發光顯示器件等半導體產品的生產都需要在玻璃基片上進行多項工序，如拋光、鍍膜、光刻、蝕刻等，而這些工序中產生的大量微小粉塵極易附著于基片表面，影響基片清潔度，從而導致半導體產品質量不良。所以在半導體產品的工序中穿插著數道清洗工序以維持基片在生產過程中的表面清潔度從而改善前述問題。

目前，玻璃基片清洗工藝主要存在以下弊端：清洗完成后易在基片表面殘留清洗液或水漬；堿性清潔劑對于臟污去除效果欠佳，且強堿性清洗劑易使基片受侵蝕而發藍；酸性清洗劑難以控制酸度，酸度過高易在基片表面產生黑點，酸度過低清潔效果受影響；清洗工序產生的廢液不僅污染環境，而且容易對人體造成傷害。

如，CN111154560A公開了一種玻璃清洗劑，其特征在于，包括如下重量百分含量的各組分：有機酸5％-50％、非離子表面活性劑1％-6％、陰離子表面活性劑1％-5％、增稠劑1％-5％以及水34％-92％。雖然采用該玻璃清洗劑清洗的玻璃合格率均達到90％以上，滿足生產需求；但是，該現有技術存在腐蝕性，易在玻璃表面產生黑點，廢液具有污染性。

CN113773911A公開了一種微晶玻璃清洗劑，其特征在于，包括以下成分及份數：去離子水38-57.5份、無機堿12-18份、絡合劑25-35份、有機酸4-6份、蝕刻劑0.5-1份、表面活性劑1-2份。雖然該微晶玻璃清洗劑對微晶玻璃表面上的拋光粉有明顯的清洗能力，經過清洗后的微晶玻璃表面無色差，發霧與白點等腐蝕現象特別是鍍上AF膜之后，AF膜的抗摩擦試驗可達3000次以上。該微晶玻璃清洗劑的制備方法制作合理，工藝簡易，方便實現，生產效率高，能夠快速生產制備出需要的微晶玻璃清洗劑；但是，該現有技術屬于堿性清洗劑，易使基片受侵蝕而變色，且廢液具有污染性。

CN111793526A公開了一種環保玻璃清洗劑，其特征在于，包括以下成分(按質量百分比)：去離子水：40-50份、十二烷基苯磺酸鈉：6-10份、二氧基乙酸合銅：5-9份、葡萄糖酸鈉：5-8份、聚乙烯醇：10-14份、非離子型表面活性劑：5-8份、檸檬香精：4-6份、乙醇：6-8份、改性劑：1-3份、生物活性酶：4-8份。雖然。本發明清潔后玻璃基片上不留水痕，提高OLED玻璃基片的質量，不污染周圍環境，對人體無害，對設備和環境要求低，有效提高了生產效率，降低了清洗的時間；但是，該現有技術對于基片臟污清洗效果欠佳。

基于此，有必要提出一種弱酸堿性環保型玻璃清洗劑來解決以上問題。

發明內容

本發明的目的是為了克服現有技術存在的前述缺陷，提供一種能夠有效改善清洗后玻璃基片殘留清洗液及水漬問題，基片表面光亮清晰，且環保性能高，無毒無害，不會造成環境污染的弱酸堿性玻璃清洗劑。