[發(fā)明專利]鉻蝕刻液、鉻蝕刻液的制備方法及鉻蝕刻液的回收方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202310028566.4 | 申請日: | 2023-01-09 |
| 公開(公告)號: | CN116162935A | 公開(公告)日: | 2023-05-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 童晨;吳海燕;陳桂紅;孫元;韓成強 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山晶科微電子材料有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/26 | 分類號: | C23F1/26;C23F1/46;C23F3/06;C02F9/00;C01F17/235;C01G37/00;C02F1/66;C02F1/72;C02F1/36;C02F1/00;C02F1/04;C02F1/70;C02F103/16 |
| 代理公司: | 北京維正專利代理有限公司 11508 | 代理人: | 施青青 |
| 地址: | 215000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 蝕刻 制備 方法 回收 | ||
1.鉻蝕刻液,其特征在于:原料按重量份包括如下組分:
硝酸鈰銨25-45份;
非氧化性酸2-8份;
過氧化氫3-12份;
穩(wěn)定劑1-3份;
蝕刻拋光劑0.5-1.5份;
消泡劑0.2-0.7份;
去離子水50-90份。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鉻蝕刻液,其特征在于:所述非氧化性酸為稀鹽酸、氫氟酸、檸檬酸、酒石酸其中的一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鉻蝕刻液,其特征在于:所述穩(wěn)定劑為二乙烯三胺五乙酸五鈉、羥基乙叉二膦酸、2-羥基膦酰基乙酸、8—羥基喹啉其中的一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鉻蝕刻液,其特征在于:所述蝕刻拋光劑按重量份包括:醇醚磷酸酯5-10份、芐叉丙酮1.5-5份、1.2-3.5份、苯并三氮唑1-3份、去離子水20-45份。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的鉻蝕刻液,其特征在于:所述消泡劑為聚氧丙基甘油醚、甲基硅油、月桂酸、脂肪酸酰胺其中的一種。
6.如權(quán)利要求1-5任一所述的鉻蝕刻液的制備方法,其特征在于:包括以下步驟:
將25-45份硝酸鈰銨加入30-50份去離子水中充分溶解混勻,得到硝酸鈰銨水溶液;繼續(xù)向硝酸鈰銨水溶液中加入2-8份非氧化性酸、3-12份過氧化氫以及1-3份穩(wěn)定劑,混合均勻得到預(yù)混物A;將0.5-1.5份蝕刻拋光劑、0.2-0.7份消泡劑加入20-40去離子水中,混合均勻得到預(yù)混物B;
將預(yù)混物A加入到預(yù)混物B中,混合均勻后,過濾得到所述鉻蝕刻液。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鉻蝕刻液的制備方法,其特征在于:包括以下步驟:
將5-10份醇醚磷酸酯、1.5-5份芐叉丙酮、1-3份苯并三氮唑、1.2-3.5三硬脂酸甘油酯加入至20-45份去離子水中,攪拌均勻,調(diào)節(jié)pH得到所述蝕刻拋光劑。
8.如權(quán)利要求1-7任一所述的鉻蝕刻液的廢液回收方法,其特征在于:包括以下步驟:
S1.將鉻蝕刻液的廢液離心后,于上層液體中加入過氧化氫得到氧化液;調(diào)節(jié)氧化液pH至6-8,過濾后分別得到粗氫氧化鈰固體沉淀和過濾液;
S2.將粗氫氧化鈰固體沉淀加入濃鹽酸溶液中溶解得到溶解液,繼續(xù)向溶解液中加入過氧化氫得到氧化溶液,調(diào)節(jié)氧化溶液pH至3-5,煮沸后過濾,得到純氫氧化鈰固體沉淀;
S3.將純氫氧化鈰固體沉淀溶解于硝酸溶液中,得到六硝酸根合鈰酸溶液,向六硝酸根合鈰酸溶液中加入硝酸銨,得到含硝酸鈰銨的混合溶液,對混合溶液進行濃縮結(jié)晶,過濾后烘干獲得硝酸鈰銨固體;
S4.向步驟S1中得到的過濾液中加入稀鹽酸溶液調(diào)節(jié)pH至2-3,繼續(xù)向過濾液中加入亞硫酸鈉,充分還原后,向過濾液中加入氫氧化鈉溶液調(diào)節(jié)pH至6-8.5,過濾得到氫氧化鉻沉淀。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鉻蝕刻液的回收方法,其特征在于:S1所述的過氧化氫與上層液體的重量比為(4-7):1。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鉻蝕刻液的回收方法,其特征在于:T3所述亞硫酸鈉與過濾液的重量比為(3-8):1。
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