[發(fā)明專利]一種線掃光學(xué)檢測結(jié)構(gòu)及同軸線掃光源的主光軸校準(zhǔn)方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202310028250.5
• 申請日: 2023-01-09
• 公開（公告）號: CN115931880A
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魏新和;龔海;李青巖;顧海鵬;楊彥琳;陳俊秀
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江大學(xué)湖州研究院
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88;G01N21/01
• 代理公司: 上海新隆知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31366
• 代理人: 劉蘭英

1.一種線掃光學(xué)檢測結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括線陣相機(jī)，光學(xué)鏡頭，同軸線掃光源和電動(dòng)直線位移臺，所述線陣相機(jī)、光學(xué)鏡頭和階梯狀樣品調(diào)節(jié)至同軸且階梯狀樣品處于光學(xué)鏡頭的前焦面上；所述同軸線掃光源固定于所述電動(dòng)直線位移臺上，并且移動(dòng)所述電動(dòng)直線位移臺改變所述同軸線掃光源位置進(jìn)行成像；量化成像所得圖片的偽影寬度，并進(jìn)一步得到光源發(fā)散角的正弦值；找到正弦值最小的地方，即為光源發(fā)散角最小的位置，該處就是同軸線掃光源的主軸。

2.一種同軸線掃光源的主光軸校準(zhǔn)方法，其特征在于，包括下列步驟：

(1)使用呈階梯狀分布的高反射率樣品，該樣品中心處為最高階梯，高度依次沿兩邊下降，單個(gè)階梯寬度在0.4mm，階梯之間的高度差為2mm；

(2)將線陣相機(jī)、光學(xué)鏡頭和階梯狀樣品調(diào)節(jié)至同軸，使線陣相機(jī)芯片的中心正對于階梯狀樣品中間最高階梯的中心；

(3)調(diào)節(jié)線陣相機(jī)、光學(xué)鏡頭的高度，使鏡頭到階梯狀樣品中心的距離等于鏡頭的焦距；

(4)采用環(huán)形光照明，驗(yàn)證樣品是否處于鏡頭的焦點(diǎn)位置，成像清晰則進(jìn)行下一步；

(5)將同軸線掃光源固定到單步行進(jìn)值為3um的電動(dòng)直線位移臺上，并將同軸線掃光源調(diào)節(jié)至合適高度，且靠近相機(jī)、鏡頭和樣品所處的軸的位置；

(6)打開同軸線掃光源對階梯狀樣品進(jìn)行照明并掃描成像；

(7)觀察成像效果，將產(chǎn)生的偽影寬度記錄下來，進(jìn)一步計(jì)算得出光源的發(fā)散角度；

(8)根據(jù)二分法移動(dòng)電動(dòng)直線位移臺，調(diào)節(jié)同軸線掃光源位置，重復(fù)步驟(6)、(7)，進(jìn)而確定發(fā)散角度最小的位置，即產(chǎn)生偽影最小或不產(chǎn)生偽影的位置，則該位置即為同軸線掃光源的主光軸；

(9)標(biāo)定此時(shí)同軸線掃光源的位置，標(biāo)定同軸線掃光源與鏡頭之間的相對位置。