[發明專利]制造覆蓋窗的方法以及制造包括覆蓋窗的顯示裝置的方法

在審

• 申請號: 202310028042.5
• 申請日: 2023-01-09
• 公開（公告）號: CN116425426A
• 公開（公告）日: 2023-07-14
• 發明（設計）人: 金柄范;金承;金勝鎬;樸喆民
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00;G09F9/30;B08B3/08;B08B11/04
• 代理公司: 北京金宏來專利代理事務所(特殊普通合伙) 11641
• 代理人: 李子光

1.一種制造覆蓋窗的方法，所述方法包括：

將母玻璃切割成面板玻璃；

對所述面板玻璃進行倒角；

用包含氟類化合物的第一蝕刻溶液蝕刻所述面板玻璃的整個表面；

用與所述第一蝕刻溶液不同的第二蝕刻溶液蝕刻所述面板玻璃的所述整個表面；以及

用堿性清潔溶液清潔所述面板玻璃。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述第一蝕刻溶液是酸性溶液，并且所述第二蝕刻溶液是堿性溶液。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，所述第一蝕刻溶液包括氫氟酸、氟化銨和氟化氫銨中的至少一種。

4.根據權利要求2所述的方法，其中，所述第二蝕刻溶液具有12或更大的pH。

5.根據權利要求4所述的方法，其中，所述第二蝕刻溶液包括氫氧化鈉和氫氧化鉀中的至少一種。

6.根據權利要求1所述的方法，其中，用所述第二蝕刻溶液的所述蝕刻在用所述第一蝕刻溶液的所述蝕刻之后被執行。

7.根據權利要求1所述的方法，其中，用所述第一蝕刻溶液的所述蝕刻包括通過將所述面板玻璃浸泡在所述第一蝕刻溶液中來蝕刻所述面板玻璃的所述整個表面，并且

用所述第二蝕刻溶液的所述蝕刻包括通過將所述面板玻璃浸泡在所述第二蝕刻溶液中來蝕刻所述面板玻璃的所述整個表面。

8.根據權利要求1所述的方法，其中，通過用所述第一蝕刻溶液的所述蝕刻的所述面板玻璃的厚度的減小尺寸與通過用所述第二蝕刻溶液的所述蝕刻的所述面板玻璃的厚度的減小尺寸之間的比率是4:1至9:1。

9.根據權利要求1所述的方法，還包括：

用酸性清潔溶液清潔所述面板玻璃，

其中，用所述酸性清潔溶液的所述清潔在用所述第二蝕刻溶液的所述蝕刻與用所述堿性清潔溶液的所述清潔之間被執行。

10.根據權利要求9所述的方法，其中，所述酸性清潔溶液具有2或更小的pH，并且所述酸性清潔溶液不包含氟。

11.根據權利要求9所述的方法，其中，所述堿性清潔溶液具有12或更大的pH，并且所述堿性清潔溶液包括氫氧化鈉和氫氧化鉀中的至少一種。

12.根據權利要求11所述的方法，其中，所述第二蝕刻溶液具有12或更大的pH，并且所述第二蝕刻溶液包括氫氧化鈉和氫氧化鉀中的至少一種，

其中，在用所述堿性清潔溶液的所述清潔中所述堿性清潔溶液的溫度低于在用所述第二蝕刻溶液的所述蝕刻中所述第二蝕刻溶液的溫度。

13.一種制造顯示裝置的方法，所述方法包括：

在襯底上形成薄膜晶體管；

在所述薄膜晶體管上方形成顯示元件，其中，所述顯示元件電連接到所述薄膜晶體管；

制造覆蓋窗；以及

將所述覆蓋窗布置在所述顯示元件之上，

其中，所述覆蓋窗的所述制造包括：

將母玻璃切割成面板玻璃；

對所述面板玻璃進行倒角；

用包含氟類化合物的第一蝕刻溶液蝕刻所述面板玻璃的整個表面；

用與所述第一蝕刻溶液不同的第二蝕刻溶液蝕刻所述面板玻璃的所述整個表面；以及

用堿性清潔溶液清潔所述面板玻璃。

14.根據權利要求13所述的方法，其中，所述第一蝕刻溶液是酸性溶液，并且所述第二蝕刻溶液是堿性溶液。

15.根據權利要求14所述的方法，其中，所述第一蝕刻溶液包括氫氟酸、氟化銨和氟化氫銨中的至少一種。

16.根據權利要求14所述的方法，其中，所述第二蝕刻溶液具有12或更大的pH。