[發(fā)明專利]任意時(shí)間波形光脈沖產(chǎn)生裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202310020593.7 | 申請(qǐng)日: | 2023-01-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN116224611A | 公開(公告)日: | 2023-06-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃大杰;范薇;李國(guó)揚(yáng);杜彤耀;程賀;李學(xué)春;朱健強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | G02B27/42 | 分類號(hào): | G02B27/42;G02B27/09;G02B6/42;H01S3/11 |
| 代理公司: | 上海恒慧知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 張寧展 |
| 地址: | 201800 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 任意 時(shí)間 波形 脈沖 產(chǎn)生 裝置 | ||
1.一種任意時(shí)間波形光脈沖產(chǎn)生裝置,包括短脈沖光源,其特征在于:還包括沿該短脈沖光源傳輸方向依次設(shè)置的分光元件、準(zhǔn)直與擴(kuò)束系統(tǒng)、第一成像系統(tǒng)、光柵、第二成像系統(tǒng)、空間整形元件、耦合透鏡和單模光纖;
所述的短脈沖光源輸出的短脈沖光,經(jīng)過所述的分光元件后,反射光作為短脈沖種子源,透射光依次經(jīng)過所述的準(zhǔn)直與擴(kuò)束系統(tǒng)和第一成像系統(tǒng)后,以入射角θg照射所述光柵的有效通光區(qū)域,使經(jīng)該光柵反射后的衍射光脈沖相位波前與強(qiáng)度波前存在傾斜,所述衍射光經(jīng)第二成像系統(tǒng)后,以入射角θSLM照射所述空間整形元件,使所述空間整形元件與光柵成精確物、像關(guān)系,所述空間整形元件上加載有透過率或相位分布,使光斑覆蓋區(qū)域在調(diào)制維度上的分布與空間透過率分布存在線性對(duì)應(yīng)關(guān)系。
2.如權(quán)利要求1所述的任意時(shí)間波形光脈沖產(chǎn)生裝置,其特征在于:所述的短脈沖光源的時(shí)間寬度tin接近傅里葉變換的短脈沖極限。
3.如權(quán)利要求1所述的任意時(shí)間波形光脈沖產(chǎn)生裝置,其特征在于:所述的短脈沖光源輸出的短脈沖光,依次經(jīng)過所述的分光元件、準(zhǔn)直與擴(kuò)束系統(tǒng)、第一成像系統(tǒng)后,以一定入射角照射在所述的光柵上,該入射角滿足光柵方程。
4.如權(quán)利要求1或3所述的任意時(shí)間波形光脈沖產(chǎn)生裝置,其特征在于:所述的短脈沖光源輸出的短脈沖光,依次經(jīng)過所述的分光元件、準(zhǔn)直與擴(kuò)束系統(tǒng)、第一成像系統(tǒng)后,以一定入射角和一定光斑尺寸照射在所述的光柵上,光斑尺寸與光柵的有效通光區(qū)域盡可能接近。
5.如權(quán)利要求1所述的任意時(shí)間波形光脈沖產(chǎn)生裝置,其特征在于:所述的短脈沖光源輸出的短脈沖光,依次經(jīng)過所述的分光元件、準(zhǔn)直與擴(kuò)束系統(tǒng)、第一成像系統(tǒng)、所述的光柵、所述的第二成像系統(tǒng)后照射在所述的空間整形元件上,光斑尺寸與所述的空間整形元件的有效工作區(qū)域盡可能接近。
6.如權(quán)利要求1所述的任意時(shí)間波形光脈沖產(chǎn)生裝置,其特征在于:所述的空間整形元件以一定角度傾斜,傾斜角度與所示的光柵的傾斜角度滿足所述的第二成像系統(tǒng)的物像關(guān)系。
7.如權(quán)利要求1所述的任意時(shí)間波形光脈沖產(chǎn)生裝置,其特征在于:所述的耦合透鏡為消像差透鏡,使匯聚光斑尺寸接近衍射極限尺寸。
8.如權(quán)利要求1所述的任意時(shí)間波形光脈沖產(chǎn)生裝置,其特征在于:所述的單模光纖的數(shù)值孔徑大于所述的耦合透鏡匯聚光束的數(shù)值孔徑。
9.如權(quán)利要求1-8任一所述的任意時(shí)間波形光脈沖產(chǎn)生裝置,其特征在于:所述空間整形元件的入射角θSLM與光柵的入射角θg滿足關(guān)系:tan(θSLM)=M2·tan(θg),其中,M2為第二成像系統(tǒng)的放大倍率。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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