[發(fā)明專利]一種高通量壓力控制器及平行反應(yīng)系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202310013915.5
• 申請日: 2023-01-05
• 公開（公告）號: CN116272719A
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 雷軍虎
• 申請（專利權(quán)）人: 漢德精工（廈門）科技有限公司
• 主分類號: B01J19/00
• 分類號: B01J19/00;G05D16/20
• 代理公司: 廈門荔信律和知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35282
• 代理人: 馬永杰

本發(fā)明公開了一種高通量壓力控制器及平行反應(yīng)系統(tǒng)，涉及高通量平行反應(yīng)系統(tǒng)的壓力調(diào)控領(lǐng)域，其包括：第一層板、第二層板和活動構(gòu)件，第一層板開設(shè)有流入通道和流出通道；第二層板開設(shè)有平衡流道，并與第一層板之間設(shè)有腔室；活動構(gòu)件位于腔室內(nèi)，并活動于第一位置和第二位置之間；其中，活動構(gòu)件將腔室分隔為流體空間和壓力控制空間，流體空間連通流入通道和流出通道，壓力控制空間連通平衡流道；該高通量壓力控制器還包括能夠控制平衡流體壓力的平衡流體控制系統(tǒng)；平行反應(yīng)系統(tǒng)包括上述高通量壓力控制器。本發(fā)明可以通過活動構(gòu)件同時(shí)控制多路流體通道的開閉，進(jìn)而調(diào)控其體系壓力，無需在每個(gè)反應(yīng)器出口處各設(shè)置一個(gè)背壓閥。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及高通量平行反應(yīng)系統(tǒng)的壓力調(diào)控領(lǐng)域，具體涉及一種高通量壓力控制器及平行反應(yīng)系統(tǒng)。

背景技術(shù)

高通量平行反應(yīng)系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于化學(xué)反應(yīng)研究中，該系統(tǒng)中平行放置有多個(gè)反應(yīng)器，該反應(yīng)器通常為流通式反應(yīng)器。為了對比分析在不同反應(yīng)器中所執(zhí)行的實(shí)驗(yàn)結(jié)果，精確控制各反應(yīng)器的溫度、壓力及空速等工藝條件至關(guān)重要。

當(dāng)利用傳統(tǒng)的小型固定床/流化床反應(yīng)器能夠合成某一化合物時(shí)，為了進(jìn)行小規(guī)模的生產(chǎn)，多個(gè)這種小型反應(yīng)器被并聯(lián)布置。而在這些并聯(lián)反應(yīng)器中使用壓力等反應(yīng)條件應(yīng)與原始的單個(gè)反應(yīng)器相同，確保所有反應(yīng)器中的反應(yīng)條件相同是規(guī)模化合成這一化合物的關(guān)鍵。

傳統(tǒng)反應(yīng)系統(tǒng)的壓力調(diào)節(jié)控制是通過設(shè)置在反應(yīng)器出口的背壓閥來實(shí)現(xiàn)，每個(gè)反應(yīng)器通道需各配置一個(gè)對應(yīng)的背壓閥，這顯然是不利的，因?yàn)楸硥洪y通常成本較高且占用空間很大。

綜上所述，發(fā)明人在實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)方案時(shí)，發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有高通量壓力控制器存在以下技術(shù)問題：

現(xiàn)有高通量壓力控制器需要在每個(gè)反應(yīng)器出口處各設(shè)置一個(gè)背壓閥，造成設(shè)備成本提高且占用空間較大的問題。

發(fā)明內(nèi)容

(一)解決的技術(shù)問題

本發(fā)明提供了一種高通量壓力控制器及平行反應(yīng)系統(tǒng)，通過一個(gè)壓力控制器實(shí)現(xiàn)對多路通道壓力的同時(shí)控制，可解決現(xiàn)有高通量壓力控制器設(shè)備成本較高且占用空間較大的問題。

(二)技術(shù)方案

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種高通量壓力控制器，包括：

第一層板，開設(shè)有流入通道和流出通道；

第二層板，開設(shè)有平衡流道，所述第一層板與第二層板之間設(shè)有腔室；

活動構(gòu)件，可拆卸的設(shè)置于所述腔室內(nèi)，并活動于第一位置和第二位置之間；

其中，所述活動構(gòu)件將所述腔室分隔為流體空間和壓力控制空間，所述流體空間連通所述流入通道和所述流出通道，所述壓力控制空間連通所述平衡流道；在所述第一位置，所述活動構(gòu)件分隔所述流入通道和所述流出通道，在所述第二位置，所述流入通道與所述流出通道通過所述流體空間相連通。

在一些實(shí)施方式中，還包括密封件，該密封件密封連接于所述第一層板和第二層板之間并與第一層板和第二層板形成所述腔室；所述活動構(gòu)件連接于密封件之間。

在一些實(shí)施方式中，所述第一層板靠近第二層板的板面包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述第一區(qū)域凹設(shè)于第二區(qū)域內(nèi)，所述活動構(gòu)件朝向所述第一區(qū)域設(shè)置。

在一些實(shí)施方式中，還包括第三層板及設(shè)于第三層板上的接頭，所述接頭與流入通道或流出通道連接。

在一些實(shí)施方式中，所述流入通道、流出通道、平衡流道、腔室及活動構(gòu)件形成壓力控制單元，所述第一層板和第二層板之間設(shè)有至少兩個(gè)壓力控制單元；所述第一層板和第二層板還開設(shè)有共用通道，該共用通道包括一設(shè)置于所述第一層板或第二層板的入口，各所述壓力控制單元的平衡流道以并聯(lián)的形式連接于共用通道。