[發(fā)明專利]一種顯示面板及其制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202310004799.0
• 申請(qǐng)日: 2023-01-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN116056499A
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-05-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王云浩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號(hào): H10K59/12
• 分類號(hào): H10K59/12;H10K71/00;H01L23/544;G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京眾達(dá)德權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11570
• 代理人: 查薇

本發(fā)明公開(kāi)了一種顯示面板及其制備方法，顯示面板包括：顯示區(qū)和圍繞所述顯示區(qū)的周邊區(qū)；所述周邊區(qū)上設(shè)置有凸起的平臺(tái)結(jié)構(gòu)，所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)上設(shè)置有對(duì)位標(biāo)記，所述對(duì)位標(biāo)記在所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)上表面的正投影位于所述上表面內(nèi)，且所述上表面的面積大于所述正投影的面積。通過(guò)本發(fā)明提供了一種對(duì)位準(zhǔn)確度高的顯示面板及其制備方法。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示面板及其制備方法。

背景技術(shù)

顯示面板為多功能層堆疊的膜層結(jié)構(gòu)，在其制備過(guò)程中，往往需要進(jìn)行多次曝光顯影來(lái)實(shí)現(xiàn)各功能層的圖形化。然而，曝光顯影需要通過(guò)對(duì)位標(biāo)記來(lái)對(duì)準(zhǔn)，以避免各功能層的錯(cuò)位。

以彩色濾光片工藝(Color?Filter?on?Encapsulation，COE)技術(shù)制備的顯示面板為例。雖然COE技術(shù)能增加出光量，節(jié)約了大量的生產(chǎn)成本，但其像素定義層和黑色矩陣層的對(duì)位精度急需提高。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于上述問(wèn)題，提出了本發(fā)明以便提供一種克服上述問(wèn)題或者至少部分地解決上述問(wèn)題的顯示面板及其制備方法。

第一方面，提供一種顯示面板，包括：

顯示區(qū)和圍繞所述顯示區(qū)的周邊區(qū)；

所述周邊區(qū)上設(shè)置有凸起的平臺(tái)結(jié)構(gòu)，所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)上設(shè)置有對(duì)位標(biāo)記，所述對(duì)位標(biāo)記在所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)上表面的正投影位于所述上表面內(nèi)，且所述上表面的面積大于所述正投影的面積。

可選的，所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)的高度為1.0～5.0μm；所述對(duì)位標(biāo)記的厚度為0.1～0.5μm。

可選的，所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)的材料為有機(jī)可固化材料。

可選的，所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)的材料為光敏聚酰亞胺或亞克力。

可選的，所述襯底基板上依次設(shè)置有源漏層和平坦層，所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)與所述平坦層同層；或者，所述襯底基板上依次設(shè)置有晶體管層和像素定義層，所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)與所述像素定義層同層。

可選的，所述襯底基板上設(shè)置有源漏層，所述對(duì)位標(biāo)記與所述源漏層同層；或者，所述襯底基板上設(shè)置有金屬電極層，所述對(duì)位標(biāo)記與所述金屬電極層同層。

可選的，所述正投影的邊緣與所述上表面的邊緣均間隔。第二方面，提供一種顯示面板的制備方法，包括：

提供襯底基板；

在所述襯底基板上形成凸起的平臺(tái)結(jié)構(gòu)；

在所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)上制備對(duì)位標(biāo)記，所述對(duì)位標(biāo)記在所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)上表面的正投影位于所述上表面內(nèi)，且所述上表面的面積大于所述正投影的面積；

基于所述對(duì)位標(biāo)記，進(jìn)行對(duì)位曝光工藝以制備功能層。

可選的，所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)的高度為1.0～5.0μm；所述對(duì)位標(biāo)記的厚度為0.1～0.5μm。

可選的，所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)的材料為有機(jī)可固化材料。

可選的，所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)的材料為光敏聚酰亞胺或亞克力。

可選的，所述在所述襯底基板上形成凸起的平臺(tái)結(jié)構(gòu)，包括：在所述襯底基板上形成源漏層，并在所述源漏層上形成平坦層；圖形化所述平坦層形成所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)；或者，在所述襯底基板上形成晶體管層，并在所述晶體管層上形成像素定義層；圖形化所述像素定義成層形成所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)。

可選的，所述在所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)上制備對(duì)位標(biāo)記，包括：在形成有所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)的所述襯底基板上形成源漏層；圖形化所述源漏層形成所述對(duì)位標(biāo)記；或者，在形成有所述平臺(tái)結(jié)構(gòu)的所述襯底基板上形成金屬電極層；圖形化所述金屬電極層形成所述對(duì)位標(biāo)記。

可選的，所述正投影的邊緣與所述上表面的邊緣均間隔。