[實用新型]一種等離子表面處理儀的氣流導流結構

有效

• 申請號: 202223550673.3
• 申請日: 2022-12-29
• 公開（公告）號: CN218855064U
• 公開（公告）日: 2023-04-14
• 發明（設計）人: 左如峰
• 申請（專利權）人: 深圳三和波達機電科技有限公司
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00
• 代理公司: 河北冀獅專利代理事務所(特殊普通合伙) 13174
• 代理人: 王成霞

1.一種等離子表面處理儀的氣流導流結構，包括渦輪外殼(1)，其特征在于：所述渦輪外殼(1)的上方活動連接有轉動室(2)，所述轉動室(2)的內部固定連接有長轉軸(3)，所述渦輪外殼(1)的內部活動連接有轉動塊(4)，所述轉動塊(4)的外壁固定安裝有弧扇葉(17)，所述轉動室(2)的上方活動連接有第一導氣室(6)和第二導氣室(7)，所述第二導氣室(7)的內部安裝有制冷室(16)，所述制冷室(16)的內部固定安裝有制冷機(10)；

所述渦輪外殼(1)的一側固定連接有固定桿(8)，所述固定桿(8)的頂部活動連接有三叉塊(15)，所述三叉塊(15)的一端分別固定安裝有第一噴頭(12)、第二噴頭(13)和第三噴頭(14)。

2.根據權利要求1所述的一種等離子表面處理儀的氣流導流結構，其特征在于：所述固定桿(8)的頂端設置有轉動軸(9)，所述轉動軸(9)的頂端固定連接有限位塊(11)，所述限位塊(11)位于三叉塊(15)的內部。

3.根據權利要求1所述的一種等離子表面處理儀的氣流導流結構，其特征在于：所述長轉軸(3)的一端貫穿固定轉動塊(4)，所述長轉軸(3)的一端連接有電機(18)。

4.根據權利要求1所述的一種等離子表面處理儀的氣流導流結構，其特征在于：所述第一導氣室(6)和第二導氣室(7)為固定連接，所述長轉軸(3)的外壁固定連接有擋風板(5)。

5.根據權利要求1所述的一種等離子表面處理儀的氣流導流結構，其特征在于：所述渦輪外殼(1)的上方設置有L型塊，所述第一導氣室(6)和第二導氣室(7)的底端也設置有L型塊。

6.根據權利要求1所述的一種等離子表面處理儀的氣流導流結構，其特征在于：所述轉動室(2)的內部上端和下端都設置有連接L型塊的凸塊。

7.根據權利要求1所述的一種等離子表面處理儀的氣流導流結構，其特征在于：所述第一噴頭(12)的下方是第二導氣室(7)，所述第三噴頭(14)的下方是第一導氣室(6)。