[實用新型]一種精準恒溫恒壓控制的溶銅銅箔供液生產(chǎn)線

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202223407131.0
• 申請日: 2022-12-19
• 公開（公告）號: CN218989433U
• 公開（公告）日: 2023-05-09
• 發(fā)明（設計）人: 魏火波
• 申請（專利權）人: 上海昊正機電設備有限公司
• 主分類號: C25D1/04
• 分類號: C25D1/04
• 代理公司: 上海索源知識產(chǎn)權代理有限公司 31431
• 代理人: 溫轉萍

本實用新型涉及銅箔生產(chǎn)技術領域，尤其涉及一種精準恒溫恒壓控制的溶銅銅箔供液生產(chǎn)線。其技術方案包括：包括底座、生箔機和儲存罐，生箔機固定在底座上端中間位置，生箔機內設置有電解槽，儲存罐固定在底座上端且位于生箔機前側，底座上端且位于生箔機后側安裝有卷料機，電解槽內安裝有陽極輥和陰極輥。本實用新型根據(jù)電解液的液位高度，對單向電控閥進行打開和閉合控制，從而可以保證電解液液位始終處于適當?shù)母叨龋瑫r利用加熱器的自動加熱，可以保證電解液在適當?shù)臏囟龋罱K實現(xiàn)精準控制電解液恒溫恒壓的目的，保證電解反應速度穩(wěn)定，從而使得生產(chǎn)處的銅箔厚度均勻。

技術領域

本實用新型涉及銅箔生產(chǎn)技術領域，尤其涉及一種精準恒溫恒壓控制的溶銅銅箔供液生產(chǎn)線。

背景技術

銅箔生產(chǎn)是以溶銅、生箔、后處理及分切為主要步驟的加工過程，其主要的工作原理是通過電解，在生箔機電解槽中，硫酸銅電解液在直流電的作用下，銅離子獲得電子，并于陰極輥表面電沉積制成原箔，經(jīng)過陰極輥和剝離輥的連續(xù)轉動、酸洗、水洗、烘干、剝離等工序，銅箔被連續(xù)剝離。

在電解反應的電解液供液過程中，常用的方法是直接向電解槽內注入電解液，并且保證電解液處于循環(huán)流動的過程中，從而保證電解液中存在充足的銅離子，所以需要向電解槽內注入新的電解液，同時將原有的電解液部分排出，然而在電解液的排出或者注入過程中，經(jīng)常會出現(xiàn)電解液的液位下降，并且無法及時注入新的電解液，由于陰極輥和陽極輥位于電解槽內指定位置，無法根據(jù)液位的高度變化而改變，因此液位下降，會導致陰極輥和陽極輥處的壓力將發(fā)生變化，對于電解反應的反應速度發(fā)生改變，因此產(chǎn)生的原箔沉積速度將發(fā)生變化，最終導致制作的銅箔存在厚度不均的情況，并且由于電解屬于吸熱反應，如果沒有對電解液溫度進行檢測且及時加熱的情況下，其電解液的溫度將不斷降低，同樣會對電解反應的反應速度產(chǎn)生影響。

實用新型內容

本實用新型的目的是針對背景技術中存在的問題，提出一種精準恒溫恒壓控制的溶銅銅箔供液生產(chǎn)線。

本實用新型的技術方案：一種精準恒溫恒壓控制的溶銅銅箔供液生產(chǎn)線，包括底座、生箔機和儲存罐，所述生箔機固定在底座上端中間位置，所述生箔機內設置有電解槽，所述儲存罐固定在底座上端且位于生箔機前側，所述底座上端且位于生箔機后側安裝有卷料機，可以對剝離的銅箔進行收卷，所述電解槽內安裝有陽極輥和陰極輥，所述電解槽內且位于陰極輥側壁安裝有剝離輥，所述生箔機側壁且與陽極輥和陰極輥相對應位置分別安裝有電極接頭，所述儲存罐與生箔機之間設置有供液機構，所述電解槽到底部固定連接有加熱板。

優(yōu)選的，所述供液機構包括輸液管和液位管，所述輸液管固定在生箔機與儲存罐之間，且儲存罐上安裝有驅動泵進行液體輸送，所述輸液管位于生箔機內一端插入電解槽內，所述輸液管上安裝有單向電控閥，所述液位管固定在電解槽底部，所述電解槽上端側壁與液位管相對應位置安裝有觸壓開關，所述觸壓開關與單向電控閥電連接。

優(yōu)選的，所述液位管內活動連接有空心球，所述空心球上端固定連接有連接桿，所述連接桿上端固定穿過液位管上端開口且固定連接有頂塊，所述頂塊位于觸壓開關下方。

優(yōu)選的，所述頂塊直徑大于液位管上端開口直徑，所述液位管上端固定連接有限位板，所述連接桿穿過限位板且與限位板滑動連接，限位板可以保證連接桿始終保持直立。

優(yōu)選的，所述液位管底部側壁開設有底槽，所述底槽為直立長條結構且位于液位管上均勻分布。

優(yōu)選的，所述電解槽底部固定連接有一對溫度傳感器，所述生箔機外側壁固定連接有控制器，所述控制器與溫度傳感器以及加熱板電連接。

與現(xiàn)有技術相比，本實用新型具有如下有益的技術效果：根據(jù)電解液的液位高度，對單向電控閥進行打開和閉合控制，從而可以保證電解液液位始終處于適當?shù)母叨龋瑫r利用加熱器的自動加熱，可以保證電解液在適當?shù)臏囟龋罱K實現(xiàn)精準控制電解液恒溫恒壓的目的，保證電解反應速度穩(wěn)定，從而使得生產(chǎn)處的銅箔厚度均勻。

附圖說明