[實用新型]一種半導體光電探測器有效
| 申請號: | 202223400526.8 | 申請日: | 2022-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN219286423U | 公開(公告)日: | 2023-06-30 |
| 發明(設計)人: | 鄭志明;林智聰 | 申請(專利權)人: | 江蘇聯格科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0232 | 分類號: | H01L31/0232;H01L31/09;H01L31/0216 |
| 代理公司: | 南京鐘山專利代理有限公司 32252 | 代理人: | 陸敏杰 |
| 地址: | 226000 江蘇省南通市開發區*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 半導體 光電 探測器 | ||
1.一種半導體光電探測器,其特征在于:包括襯底,襯底上設有波導下包層,波導下包層上設有光波導層,光波導層上沿信號光進入方向依次設有入射光耦合器、光吸收層、出射光耦合器和DBR反射鏡,光吸收層吸收信號光,產生光生載流子,并在電場作用下輸運到電極,輸出電信號。
2.根據權利要求1所述的一種半導體光電探測器,其特征在于:所述襯底為硅層,波導下包層為二氧化硅層。
3.根據權利要求1或2所述的一種半導體光電探測器,其特征在于:光電探測器外表面有鈍化層覆蓋。
4.根據權利要求1或2所述的一種半導體光電探測器,其特征在于:所述光波導層為硅層。
5.根據權利要求4所述的一種半導體光電探測器,其特征在于:所述DBR反射鏡包括光波導層上刻蝕出的光柵。
6.根據權利要求4所述的一種半導體光電探測器,其特征在于:所述波導下包層厚度為2微米,光波導層厚度220nm。
7.根據權利要求1所述的一種半導體光電探測器,其特征在于:所述光吸收層是鍺、鍺硅、鍺量子點、鍺錫、鍺鉛、鍺錫鉛中的一種異質結構材料層。
8.根據權利要求4所述的一種半導體光電探測器,其特征在于:所述入射光耦合器和出射光耦合器皆包括鍺層和鍺層下方的硅層。
9.根據權利要求8所述的一種半導體光電探測器,其特征在于:所述鍺層為三維錐狀,且外端小內端大。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





