[實用新型]一種反射率光學測量裝置及半導體成膜設備

有效

• 申請號: 202223385933.6
• 申請日: 2022-12-16
• 公開（公告）號: CN219038821U
• 公開（公告）日: 2023-05-16
• 發明（設計）人: 馬法君;吳怡;劉明軍;劉雷;鄭冬;周慧娟
• 申請（專利權）人: 楚赟科技（紹興）有限公司
• 主分類號: G01N21/55
• 分類號: G01N21/55;C23C14/54;C23C16/52;H01L21/67
• 代理公司: 上海恒銳佳知識產權代理事務所(普通合伙) 31286
• 代理人: 張磊

1.一種反射率光學測量裝置，其特征在于，包括：設于光學視窗上方的面光源、光學組件和光探測模塊；

所述面光源用于發射入射探測光，所述入射探測光為非平行光；

所述光學組件位于所述面光源和所述光學視窗之間，用于使所述入射探測光經過所述光學組件后通過所述光學視窗投射至待測對象的被測面上，并使被所述被測面反射且通過所述光學視窗射出的出射探測光被所述光探測模塊接收；

其中，所述面光源通過所述光學組件形成所述面光源的像，所述面光源的像的尺寸/面積大于等于所述光學視窗的尺寸/面積。

2.根據權利要求1所述的反射率光學測量裝置，其特征在于，所述面光源的像位于所述光學視窗和所述光學組件之間，所述面光源的像構成所述入射探測光的發光面。

3.根據權利要求2所述的反射率光學測量裝置，其特征在于，所述發光面上每一處的入射探測光在所述發光面的法向的立體角內的強度分布均勻，且所述發光面上各處在所述立體角內的強度分布一致，定義所述立體角在任意方向上張開的角度的一半為β，所述β＞0。

4.根據權利要求3所述的反射率光學測量裝置，其特征在于，所述β大于等于所述光學視窗的中心在所述待測對象所在平面上的投影與所述光學視窗之間形成的錐體的半頂角α。

5.根據權利要求4所述的反射率光學測量裝置，其特征在于，所述β/α的范圍為1～2。

6.根據權利要求2所述的反射率光學測量裝置，其特征在于，所述面光源的像位于所述光學視窗所在位置。

7.根據權利要求1所述的反射率光學測量裝置，其特征在于，所述面光源的像在水平方向上的尺寸A與所述光學視窗在水平方向上的尺寸B之間滿足：

A/B≥H/h

其中，H為所述面光源的像到所述被測面的距離，h為所述光學視窗到所述被測面的距離。

8.根據權利要求1所述的反射率光學測量裝置，其特征在于，所述光學組件包括透鏡和分光鏡，所述透鏡用于對來自所述面光源的所述入射探測光進行透射和聚光，所述分光鏡用于將所述入射探測光朝向所述光學視窗進行透射/反射，并將由所述待測對象反射且通過所述光學視窗射出的所述出射探測光朝向所述光探測模塊進行相應的反射/透射。

9.根據權利要求8所述的反射率光學測量裝置，其特征在于，所述面光源的尺寸C與所述光學視窗的尺寸B之間滿足：

C/B≥f/(v-f)

其中，f為所述透鏡的焦距，v為所述面光源的像到所述透鏡的距離。

10.根據權利要求1所述的反射率光學測量裝置，其特征在于，所述面光源包括LED面光源，或者，所述面光源由點光源或激光照射毛玻璃形成，或者所述面光源包括具有朗伯輻射體性質的光源。

11.一種半導體成膜設備，其特征在于，含有如權利要求1至10任意一項所述的反射率光學測量裝置，所述反射率光學測量裝置設于所述半導體成膜設備的反應腔外部，所述反應腔內設有晶片載盤，所述晶片載盤上承載若干晶片，所述反應腔上設有光學視窗；所述反射率光學測量裝置用于通過所述光學視窗將入射探測光投射至所述晶片表面上，并使被所述晶片表面反射且通過所述光學視窗射出的出射探測光被所述光探測模塊接收，從而獲得所述晶片的反射率。