[實用新型]負壓面陣除塵模塊、鋰電卷繞機及除塵裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202223371519.X | 申請日: | 2022-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN218741044U | 公開(公告)日: | 2023-03-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳偉;陳利權(quán);蘇斌;李維波 | 申請(專利權(quán))人: | 湖北億緯動力有限公司 |
| 主分類號: | B01D49/00 | 分類號: | B01D49/00;H01M6/00;H01M10/04;B65H18/00;B65H16/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 448000 湖北省荊*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 負壓面陣 除塵 模塊 卷繞 裝置 | ||
本實用新型提供一種負壓面陣除塵模塊、鋰電卷繞機及除塵裝置,所述負壓面陣除塵模塊,包括空壓層、蓋板層、以及密接層,所述密接層密接所述負壓面陣控壓層和所述蓋板層;所述空壓層包括負壓空腔,所述蓋板層設(shè)于所述負壓空腔的開口側(cè),所述密接層位于所述空壓層和所述蓋板層之間,所述密接層設(shè)于所述開口側(cè),以密接所述空壓層和所述蓋板層,所述蓋板層開設(shè)有多個均勻分布的第一除塵孔,所述第一除塵孔與所述負壓空腔連通。改善了鋰電卷繞機設(shè)備內(nèi)部清潔度差的技術(shù)問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及電池技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種負壓面陣除塵模塊、鋰電卷繞機及除塵裝置。
背景技術(shù)
為了保證鋰電卷繞機設(shè)備內(nèi)部的清潔度,相關(guān)技術(shù)的鋰電卷繞機主要依靠風(fēng)機過濾單元對設(shè)備內(nèi)部的空氣進行過濾。風(fēng)機過濾單元的吹氣口通常位于鋰電卷繞機的頂部,通過風(fēng)機過濾單元從設(shè)備的頂部向設(shè)備內(nèi)部源源不斷地吹入干凈的空氣,并排出設(shè)備內(nèi)的原始氣體,使設(shè)備內(nèi)部保持相對潔凈,從而減少因粉塵對電池品質(zhì)、安全的影響。
然而,由于風(fēng)機過濾單元位于卷繞機設(shè)備的頂部,一定程度上限制了對卷繞機設(shè)備的下半部分的清潔,無法有效保證設(shè)備內(nèi)部的整體清潔度。若是為了提高設(shè)備內(nèi)部的清潔度,加大風(fēng)機過濾單元的風(fēng)力等級,則會對電池極片的糾偏及張力控制產(chǎn)生影響,從而影響卷繞芯包的品質(zhì)。另外,電池的正負極片在進行放卷時容易掉粉,掉落的粉塵會進一步影響設(shè)備內(nèi)部的清潔度,而鋰電卷繞機為了換卷方便,一般將放卷機構(gòu)設(shè)置在鋰電卷繞機的下半部分,這又進一步加大了風(fēng)機過濾單元對設(shè)備內(nèi)部除塵的難度。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的實施例提供了一種負壓面陣除塵模塊、鋰電卷繞機及除塵裝置,可以改善鋰電卷繞機設(shè)備內(nèi)部清潔度差的技術(shù)問題。
第一方面,本實用新型的實施例提供了一種負壓面陣除塵模塊,所述負壓面陣除塵模塊包括空壓層、蓋板層、以及密接層,所述密接層密接所述負壓面陣控壓層和所述蓋板層;
所述空壓層包括負壓空腔,所述蓋板層設(shè)于所述負壓空腔的開口側(cè),所述密接層位于所述空壓層和所述蓋板層之間,所述密接層設(shè)于所述開口側(cè),以密接所述空壓層和所述蓋板層,所述蓋板層開設(shè)有多個均勻分布的第一除塵孔,所述第一除塵孔與所述負壓空腔連通。
在一實施例中,所述負壓面陣除塵模塊還包括粘塵膠層,所述粘塵膠層設(shè)于所述蓋板層背離所述空壓層的一側(cè),且與所述蓋板層粘連;所述粘塵膠層包括均勻分布的第二除塵孔,所述第二除塵孔與所述第一除塵孔一一對應(yīng)且連通。
在一實施例中,所述粘塵膠層為撕除型粘塵膠。
在一實施例中,所述空壓層包括底板、第一環(huán)形側(cè)臺和第二環(huán)形側(cè)臺,所述第一環(huán)形側(cè)臺環(huán)繞所述第二環(huán)形側(cè)臺設(shè)置,所述第二環(huán)形側(cè)臺和所述底板圍成所述負壓空腔;
所述密接層包括第一密接圈和第二密接圈,所述第一密接圈環(huán)繞所述第二密接圈設(shè)置,所述第一密接圈設(shè)置于所述第一環(huán)形側(cè)臺上,以用于密接所述第一環(huán)形側(cè)臺和所述蓋板層,所述第二密接圈設(shè)置于所述第二環(huán)形側(cè)臺上,以密封所述第二環(huán)形側(cè)臺和所述蓋板層;
所述負壓面陣除塵模塊還包括多個螺栓,所述底板上開設(shè)有多個螺孔,各所述螺孔設(shè)置于所述第一環(huán)形側(cè)臺和第二環(huán)形側(cè)臺之間,且各所述螺孔間隔設(shè)置,各所述螺栓用于將所述蓋板層固定于所述底板上。
在一實施例中,所述空壓層還包括多個擋臺,所述擋臺設(shè)于所述第二環(huán)形側(cè)臺內(nèi),且所述擋臺與所述第二環(huán)形側(cè)臺間隔設(shè)置,多個所述擋臺沿第一方向延伸,且多個所述擋臺沿第二方向排列;
所述密接層還包括多個密接條,多個所述密接條與多個所述擋臺一一對應(yīng)設(shè)置,且密接所述蓋板層和對應(yīng)的所述擋臺。
在一實施例中,多個所述第一除塵孔均勻分布于所述擋臺和所述第二環(huán)形側(cè)臺之間,和/或相鄰的兩個所述擋臺之間。
在一實施例中,所述負壓面陣除塵模塊還包括多個氣動接頭,所述氣動接頭貫通所述蓋板層且與所述負壓空腔連通。
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