[實用新型]一種高鹽廢水的多步法除氟除硅的裝置

有效

• 申請號: 202223324717.0
• 申請日: 2022-12-12
• 公開（公告）號: CN219259763U
• 公開（公告）日: 2023-06-27
• 發明（設計）人: 張淳;彭文博;程軍軍;周明;吳正雷;莊力;趙宏亮;董凱
• 申請（專利權）人: 江蘇久吾高科技股份有限公司
• 主分類號: C02F9/00
• 分類號: C02F9/00;C02F1/66;C02F1/52;C02F1/00;C02F101/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型涉及一種高鹽廢水的多步法除氟除硅的裝置，包括：包括：初步除氟反應池，用于對廢水進行除氟反應處理；第一偏鋁酸鈉投加罐，連接于初步除氟反應池；酸投加罐，連接于初步除氟反應池；深度除氟反應池，連接于初步除氟反應池；第二偏鋁酸鈉投加罐，連接于深度除氟反應池；堿投加罐，連接于深度除氟反應池，調節反應中廢水的pH值至4.5?6.0；除硅反應池，連接于深度除氟反應池；第三偏鋁酸鈉投加罐，連接于除硅反應池；第一堿投加罐，連接于除硅反應池；過濾器，連接于除硅反應池。本實用新型使用單一藥劑偏鋁酸鈉，通過除氟劑投加器、除硅劑投加器、控酸器和控堿器的協同作用實現中氟離子和硅的高效去除。

技術領域

本實用新型涉及一種高鹽廢水的多步法除氟除硅的裝置，尤其涉及高鹽類廢水的多步法除氟除硅方法，屬于水處理技術領域。

背景技術

在工業高鹽類廢水治理工藝中，常規考慮鈣法或鎂法進行除氟，由于水中鹽含量較高，通常受鹽效應影響，除氟除硅效果不佳，藥劑使用量增加，出水鈣離子或鎂離子濃度較高，導致水硬度增加，進入膜系統濃縮時，易使膜發生結垢和堵塞的現象，這些雜質離子進入蒸發系統后還會影響結晶鹽的品質，剩余的氟還會與氫離子結合腐蝕蒸發裝置，影響設備的安全性。現有研究中很少針對高鹽廢水進行除氟除硅處理，類似專利如CN113480045A公開了一種反滲透濃水的除氟除硅方法，使用兩級軟化澄清步驟，使用鋁劑除氟和偏鋁酸鈉除硅，除此之外還有使用聚丙烯酰胺(PAM)，該實用新型除氟除硅藥劑種類較多，且聚丙烯酰胺會影響后端反滲透膜的性能。

發明內容

本實用新型所要解決的技術問題是：對于高鹽廢水進行除氟除硅處理時所需要的藥劑種類多、操作步驟多的問題。

本實用新型提供一種高鹽廢水的多步法除氟除硅工藝和裝置，使用單一藥劑，在不過多增加出水鹽種類的基礎上實現高鹽廢水中氟和硅的高去除率，使處理后的氟離子小于等于2ppm，硅小于等于0.5ppm。本實用新型所提出的高效除氟除硅工藝中，初步除氟的藥劑投加量不受初始氟含量的影響，在預設酸性條件下即可完成初步除氟，初步除氟后的水質中氟含量可穩定在8-12ppm，初步除氟后的水樣無需過濾，在工程應用上可減少過濾裝置或澄清池，可在原有基礎上繼續完成深度除氟操作，深度除氟步驟結束后，出水在pH為7.5-8.5條件下進行除硅操作。

技術方案是：

一種高鹽廢水的多步法除氟除硅的方法，包括如下步驟：

步驟1，初步除氟：調節高鹽廢水pH至3.5-4.5，按質量比NaAlO₂:F＝10-20:1投加偏鋁酸鈉進行初步除氟；

步驟2，深度除氟：步驟1的產水按質量比NaAlO₂:F＝15-20:1投加偏鋁酸鈉后，再調節pH至4.5-6.0進行深度除氟；

步驟3，除硅：步驟2的產水按質量比NaAlO₂:Si＝5-10-:1投加偏鋁酸鈉后，調節pH至7.5-8.5，除硅；

步驟4，步驟3的產水進行過濾去除沉淀。

調節pH過程中采用鹽酸、硫酸、氫氧化鈉的一種或多種進行調節。

所述的步驟2中，深度除氟完成后，調節pH至中性，并加入絮凝劑，再去除絮凝沉淀物。

步驟1中，初步除氟的反應時間是30-60min。

步驟2中，深度除氟的反應時間是30-60min。

步驟3中，除硅的反應時間是15-30min。

所述的步驟4中，過濾采用分離膜過濾處理，分離膜的平均孔徑20-200nm。

一種高鹽廢水的多步法除氟除硅的裝置，包括：

初步除氟反應池，用于對廢水進行除氟反應處理；