[實用新型]一種臺面清潔機構

有效

• 申請號: 202223322482.1
• 申請日: 2022-12-12
• 公開（公告）號: CN218854925U
• 公開（公告）日: 2023-04-14
• 發明（設計）人: 梁猛;林海濤;趙凱;李彬;石洋
• 申請（專利權）人: 上海世禹精密設備股份有限公司
• 主分類號: B08B1/00
• 分類號: B08B1/00;B08B13/00;B24B55/06
• 代理公司: 上海遠同律師事務所 31307
• 代理人: 張堅

本實用新型公開了一種臺面清潔機構，設有真空吸臺上方，包括安裝板、水管、擦拭海綿以及升降件，安裝板底面兩端設有相對的兩固定塊，其中一固定塊上設有安裝孔；水管穿設過安裝孔延伸至兩固定塊之間，水管上開設有多個出水孔；擦拭海綿設于兩固定塊之間，且套設在水管上，出水孔位于擦拭海綿內腔中；升降件與安裝板連接，驅動擦拭海綿上下升降調整高度，使擦拭海綿可對真空吸臺的臺面快速清潔，且在不需要清潔時，通過抬升高度避免對真空吸臺的移動造成干涉。

技術領域

本實用新型涉及芯片加工設備技術領域，具體涉及一種臺面清潔機構。

背景技術

半導體硅晶圓是制造半導體器件的基礎性原材料。高純度的半導體經過拉晶、切片等工序制備成為晶圓，晶圓經過一系列半導體制造工藝形成極微小的電路結構，再經減薄、切割、封裝、測試成為芯片，廣泛應用到各類電子設備中，其中基板減薄就是很重要的一環。

基板減薄是將芯片裝貼在基板上，打線封裝完成后，通過真空吸臺將基板吸附固定，將芯片移至研磨機下方進行研磨減薄芯片表面的塑封材料，然而，長期的研磨會導致真空吸臺上殘留粉塵，堵塞吸孔，影響真空吸臺的吸附力，需要定期對臺面進行清潔，但現有的清潔機構結構復雜，容易對真空吸臺的移動造成干涉，不便于對真空吸臺的臺面進行清潔。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種臺面清潔機構，解決現有技術中的清潔機構結構復雜，容易對真空吸臺的移動造成干涉的問題。

本實用新型的目的可以通過以下技術方案實現：

一種臺面清潔機構，設有真空吸臺上方，包括：

安裝板，所述安裝板底面兩端設有相對的兩固定塊，其中一所述固定塊上設有安裝孔；

水管，穿設過所述安裝孔延伸至兩所述固定塊之間，所述水管上開設有多個出水孔；

擦拭海綿，設于兩所述固定塊之間，且套設在所述水管上，所述出水孔位于所述擦拭海綿內腔中；

升降件，與所述安裝板連接，驅動所述擦拭海綿上下升降調整高度。

通過本申請的結構設置，可使擦拭海綿對真空吸臺的臺面快速清潔，且在不需要清潔時，通過抬升擦拭海綿高度避免對真空吸臺的移動造成干涉。

作為本實用新型進一步的方案：多個所述出水孔沿軸向間隔設置。

作為本實用新型進一步的方案：所述水管與所述安裝孔過盈配合。

作為本實用新型進一步的方案：所述水管一端連接有接頭。

作為本實用新型進一步的方案：所述升降件為升降氣缸。

作為本實用新型進一步的方案：所述擦拭海綿呈圓管狀。

作為本實用新型進一步的方案：至少其中一固定塊與安裝板之間可拆卸連接。

本實用新型的有益效果：通過設置擦拭海綿，使擦拭海綿套設在所述水管上，水管通過出水孔為擦拭海綿緩慢供水使其保持濕潤但又不會讓水從擦拭海綿上滴落，使擦拭海綿可對真空吸臺的臺面快速清潔的同時避免設備上產生積水，擦拭海綿在升降件的帶動下可調整高度，在不需要清潔時，通過抬升高度避免對真空吸臺的移動造成干涉。

附圖說明

下面結合附圖對本實用新型作進一步的說明。

圖1是本實用新型中臺面清潔機構與真空吸臺配合的結構示意圖；

圖2是本實用新型中臺面清潔機構的整體示意圖；

圖3是本實用新型中臺面清潔機構的部分結構示意圖。

具體實施方式