[實(shí)用新型]一種流動(dòng)式光譜電化學(xué)薄層池

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202223272947.7
• 申請(qǐng)日: 2022-12-05
• 公開（公告）號(hào): CN219104805U
• 公開（公告）日: 2023-05-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉長宇;郟建波;徐曉龍;龍文昌
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江門市藍(lán)達(dá)環(huán)保科技有限公司
• 主分類號(hào): G01N27/28
• 分類號(hào): G01N27/28;G01N27/30
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本實(shí)用新型涉及一種流動(dòng)式光譜電化學(xué)薄層池，涉及光譜電化學(xué)領(lǐng)域。本實(shí)用新型的流動(dòng)式光譜電化學(xué)薄層池包括主體基座，其上設(shè)置有電解液進(jìn)口、電解液出口、參比電極、工作電極、對(duì)電極和螺絲固定孔；硅膠墊片，其中部開有孔且還設(shè)置有螺絲固定孔；基座，其上設(shè)置有與石英光窗且還設(shè)置有螺絲固定孔。本實(shí)用新型的流動(dòng)式光譜電化學(xué)薄層池，利用硅膠墊片的大小和厚度來調(diào)整反應(yīng)池的體積和厚度。通過四角的螺絲固定孔，用螺絲固定光譜電化學(xué)薄層池基座與硅膠墊片，通過外界蠕動(dòng)泵或注射泵施加動(dòng)力，使溶液流動(dòng)通過光譜電化學(xué)薄層池。通過雙層基座固定硅膠墊片，電解液不易泄露、穩(wěn)定性好。且易于清洗，使用方便。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及光譜電化學(xué)領(lǐng)域，具體涉及一種流動(dòng)式光譜電化學(xué)薄層池。

背景技術(shù)

光譜分析是根據(jù)物質(zhì)的光譜來鑒別物質(zhì)及確定它的化學(xué)組成和相對(duì)含量的方法，電分析化學(xué)是應(yīng)用電化學(xué)的基本原理和實(shí)驗(yàn)技術(shù)，依據(jù)物質(zhì)的電化學(xué)性質(zhì)來測(cè)定物質(zhì)組成及含量的分析方法。而光譜電化學(xué)是將紫外或紅外等光譜技術(shù)應(yīng)用于電化學(xué)電池的現(xiàn)場(chǎng)研究，可以從中得到有關(guān)反應(yīng)中間體、電極表面的性質(zhì)和覆蓋度等信息，是研究相關(guān)反應(yīng)機(jī)理的重要手段之一，也是當(dāng)今電化學(xué)研究中最活躍的領(lǐng)域之一。

光譜電化學(xué)法應(yīng)用的關(guān)鍵在于光譜電化學(xué)池的設(shè)計(jì)，一個(gè)性能優(yōu)良的反應(yīng)池對(duì)獲取電極過程反應(yīng)信息具有重要意義，而基于流動(dòng)式光譜電化學(xué)薄層池對(duì)于在線研究反應(yīng)機(jī)理等至關(guān)重要。目前的光譜電化學(xué)反應(yīng)池大多是常量反應(yīng)池，試樣消耗量大，與檢測(cè)儀的匹配程度還有待于改進(jìn)。而且，電解池與電極之間通常會(huì)由于結(jié)合不緊密導(dǎo)致流動(dòng)時(shí)電解液滲漏，影響分析結(jié)果的準(zhǔn)確性等。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型要解決現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)問題，提供一種流動(dòng)式光譜電化學(xué)薄層池，本實(shí)用新型的光譜電化學(xué)薄層池能有效克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，且易于清洗，使用方便。

為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的技術(shù)方案具體如下：

本實(shí)用新型提供一種流動(dòng)式光譜電化學(xué)薄層池，包括主體基座；

所述主體基座上設(shè)置有電解液進(jìn)口、電解液出口、參比電極、工作電極、對(duì)電極和螺絲固定孔；

設(shè)置在所述主體基座上的硅膠墊片，所述硅膠墊片中部開有孔，通過所述孔可以看到所述參比電極、工作電極和對(duì)電極；所述硅膠墊片上還設(shè)置有與所述主體基座相適應(yīng)的螺絲固定孔；

設(shè)置在所述硅膠墊片上的基座，所述基座上設(shè)置有與所述硅膠墊片中部的孔相適應(yīng)的石英光窗；所述基座上還設(shè)置有與所述主體基座相適應(yīng)的螺絲固定孔；

從所述電解液進(jìn)口注入電解液，然后流過所述硅膠墊片中部的孔經(jīng)電解液出口排出；外界光源所發(fā)射的光通過石英光窗照射到所述硅膠墊片中部的孔構(gòu)成的反應(yīng)池，電化學(xué)工作站施加電壓于所述參比電極、所述工作電極、所述對(duì)電極上，即可記錄光照帶來的影響，從而獲取相關(guān)反應(yīng)信息。

在上述技術(shù)方案中，所述主體基座、所述硅膠墊片、所述基座的形狀均為長寬相同的長方形。

在上述技術(shù)方案中，所述主體基座、所述硅膠墊片和所述基座的四個(gè)角的位置均設(shè)置有螺絲固定孔。

在上述技術(shù)方案中，所述主體基座、所述硅膠墊片和所述基座通過所述螺絲固定孔使用螺絲固定。

在上述技術(shù)方案中，所述硅膠墊片中部開的孔的形狀為長方形。

在上述技術(shù)方案中，所述硅膠墊片的厚度為50～500μm。

在上述技術(shù)方案中，所述電解液進(jìn)口、電解液出口的孔徑均為1.0～3.0mm。

在上述技術(shù)方案中，所述電解液由蠕動(dòng)泵或注射泵通過電解液進(jìn)口泵入。

本實(shí)用新型的有益效果是：

本實(shí)用新型的流動(dòng)式光譜電化學(xué)薄層池具有的優(yōu)點(diǎn)為：