[實用新型]一種用于延長氣相生長基座內(nèi)熱場壽命的結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202223233887.8 | 申請日: | 2022-12-05 |
| 公開(公告)號: | CN218860956U | 公開(公告)日: | 2023-04-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉鵬;徐文立;沈磊 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波恒普真空科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C30B25/10 | 分類號: | C30B25/10;C30B25/14;C23C16/46;C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務(wù)所 11569 | 代理人: | 鄭粟文 |
| 地址: | 315300 浙江省寧波市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 延長 相生 基座 內(nèi)熱 壽命 結(jié)構(gòu) | ||
本實用新型公開一種用于延長氣相生長基座內(nèi)熱場壽命的結(jié)構(gòu),涉及半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,包括進氣室、反應(yīng)室和基座;進氣室底部設(shè)置有反應(yīng)室,且進氣室與反應(yīng)室相連通;基座位于反應(yīng)室內(nèi)下部,且基座位于進氣室正下方;基座頂部用于承托晶片;基座內(nèi)設(shè)置有基座熱場,基座熱場用于對晶片加熱;反應(yīng)室底部設(shè)置有排氣口;還包括頂端伸入基座的進氣管,進氣管的底端與一供氣機構(gòu)相連通;基座的底部設(shè)置有出氣口。橫向開口進氣管和縱向開口進氣管,分別對石墨電極和石英固定板的連接處以及發(fā)熱體進行吹掃,降低基座內(nèi)發(fā)熱體受到外部氣體影響并延長使用壽命,同時保證成膜過程中熱場的穩(wěn)定性,降低更換頻率可提高生產(chǎn)效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種用于延長氣相生長基座內(nèi)熱場壽命的結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
立式成膜裝置被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè),制備晶片時具有高效的生產(chǎn)速率和較好的成膜質(zhì)量。成膜時晶片位于反應(yīng)室下部隨基座高速旋轉(zhuǎn),基座內(nèi)外熱場加熱晶片至反應(yīng)溫度且成膜過程中穩(wěn)定供給原料氣體。
成膜裝置生產(chǎn)半導(dǎo)體晶片通常為連續(xù)成膜工藝,確保成膜過程中各項部件穩(wěn)定可靠。成膜工藝過程中反應(yīng)室內(nèi)呈常壓或負壓狀態(tài),晶片放置于基座上,隨基座高速旋轉(zhuǎn),加熱晶片同時朝晶片襯底通入反應(yīng)氣體。該過程中反應(yīng)氣體擴散進入基座內(nèi)部于熱場發(fā)熱體表面沉積。
為提高成膜質(zhì)量及效率,部分成膜裝置具備反應(yīng)室內(nèi)蝕刻功能,升溫并通入蝕刻氣體去除基板表面沉積。蝕刻氣體可能腐蝕發(fā)熱體。
發(fā)明內(nèi)容
為解決以上技術(shù)問題,本實用新型提供一種用于延長氣相生長基座內(nèi)熱場壽命的結(jié)構(gòu),降低基座內(nèi)發(fā)熱體受到外部氣體影響并延長使用壽命,同時保證成膜過程中熱場的穩(wěn)定性,降低更換頻率可提高生產(chǎn)效率。
為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提供了如下方案:
本實用新型提供一種用于延長氣相生長基座內(nèi)熱場壽命的結(jié)構(gòu),包括進氣室、反應(yīng)室和基座;所述進氣室底部設(shè)置有所述反應(yīng)室,且所述進氣室與所述反應(yīng)室相連通;所述基座位于所述反應(yīng)室內(nèi)下部,且所述基座位于所述進氣室正下方;所述基座頂部用于承托晶片;所述基座內(nèi)設(shè)置有基座熱場,所述基座熱場用于對所述晶片加熱;所述反應(yīng)室底部設(shè)置有排氣口;還包括頂端伸入所述基座的進氣管,所述進氣管的底端與一供氣機構(gòu)相連通;所述基座的底部設(shè)置有出氣口。
可選的,所述進氣管包括橫向開口進氣管和縱向開口進氣管;所述橫向開口進氣管的頂端為封口設(shè)置,所述橫向開口進氣管的頂端側(cè)壁上設(shè)置有橫向開口;所述縱向開口進氣管的頂端為開口設(shè)置;所述橫向開口進氣管和所述縱向開口進氣管的底端與所述供氣機構(gòu)相連通。
可選的,所述基座頂部設(shè)置有基板,所述基板用于承托所述晶片。
可選的,所述基座熱場包括發(fā)熱體,所述發(fā)熱體設(shè)置于所述基板下方。
可選的,所述發(fā)熱體通過石墨電極與石英固定板相連接,所述石英固定板設(shè)置于所述基座內(nèi)底部;所述橫向開口進氣管和所述縱向開口進氣管均貫穿所述石英固定板。
可選的,所述橫向開口進氣管用于吹掃所述石墨電極與所述石英固定板的連接處,所述縱向開口進氣管用于吹掃所述發(fā)熱體。
可選的,所述基座底部設(shè)置有下轉(zhuǎn)臺,所述出氣口設(shè)置于所述下轉(zhuǎn)臺上。
可選的,所述下轉(zhuǎn)臺與一旋轉(zhuǎn)軸相連接,所述旋轉(zhuǎn)軸為空心軸,所述進氣管設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)軸內(nèi)。
本實用新型相對于現(xiàn)有技術(shù)取得了以下技術(shù)效果:
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