[實用新型]磁珠清洗裝置及化學發光免疫分析儀有效
| 申請號: | 202223213517.8 | 申請日: | 2022-12-01 |
| 公開(公告)號: | CN218797755U | 公開(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發明(設計)人: | 左岬;覃伯奇 | 申請(專利權)人: | 中元匯吉生物技術股份有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/10 | 分類號: | B08B3/10;B08B13/00;G01N21/76 |
| 代理公司: | 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287 | 代理人: | 關向蘭 |
| 地址: | 400000 重慶市大渡口區*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 清洗 裝置 化學 發光 免疫 分析 | ||
本實用新型公開一種磁珠清洗裝置及化學發光免疫分析儀,磁珠清洗裝置包括吸附結構、清洗結構、注液結構和吸液結構,吸附結構包括第一磁體和第二磁體,第二磁體的高度小于第一磁體;清洗結構包括鍋體、鍋蓋和清洗盤,清洗盤可轉動地安裝于安裝腔內,鍋蓋沿清洗盤的轉動方向依次設置有清洗區和吸附區,吸液工位對應設置有第一磁體,吸附區設置有第二磁體;注液結構包括相連接的第一驅動件和注液針,注液針對應注液工位設置;吸液結構包括相連接的第二驅動件和吸液針,吸液針對應吸液工位設置。本實用新型的第二磁體的高度小于第一磁體的高度,第二磁體用于降低磁珠的吸附高度,使其更易與底物或第二步試劑混勻。
技術領域
本實用新型涉及免疫分析儀領域,具體涉及一種磁珠清洗裝置及化學發光免疫分析儀。
背景技術
化學發光免疫分析技術是將化學發光與免疫反應相結合,建立起來的一種超微量分析技術。該技術利用化學或者生物發光系統作為抗原抗體反應的指示劑,根據發光物的發光強度,可以定量檢測抗原或抗體的濃度。該方法兼顧了化學發光分析的高靈敏性和抗體抗原反應的特異性。在實際應用中,一般是利用技術手段將抗原或抗體包被于磁珠上,與待檢測樣本反應,同時發光物標記的另一種抗原或抗體也與待測樣本反應,就完成了待測樣本的標記。磁珠清洗的目的就是將未結合到磁珠上的物質(待測樣本中的非目標抗體抗原,未參與反應的發光物標記的抗體抗原等)洗去,從而保證檢測結果不受其他物質干擾。
現有的磁珠清洗裝置中,一般是在反應杯側面放置磁鐵組件來設置外部磁場,但是磁鐵組件設置的高度卻是一致的。為了防止丟磁,磁鐵組件中心高度都會設置在相對于反應杯底較高的位置。這樣將導致磁珠在反應杯中吸附高度過高的現象,不但會影響兩步法測試中第二步試劑與磁珠及其復合物的混勻效果,還會影響一步法測試中底物與磁珠及其復合物的混勻效果,進而影響檢測結果的準確性。
實用新型內容
本實用新型的主要目的是提供一種磁珠清洗裝置及化學發光免疫分析儀,以解決傳統磁珠清洗裝置中磁珠在反應杯中吸附高度過高的問題。
為實現上述目的,本實用新型提出的磁珠清洗裝置包括吸附結構、清洗結構、注液結構和吸液結構所述吸附結構包括第一磁體和第二磁體,所述第二磁體的高度小于所述第一磁體;所述清洗結構包括鍋體、鍋蓋和清洗盤,所述鍋蓋和所述鍋體圍成有安裝腔,所述清洗盤可轉動地安裝于所述安裝腔內,所述清洗盤形成有用于取放反應杯的孔位,所述鍋蓋沿所述清洗盤的轉動方向依次設置有清洗區和吸附區,所述清洗區包括注液工位和吸液工位,所述吸液工位對應設置有所述第一磁體,所述吸附區設置有所述第二磁體;所述注液結構包括相連接的第一驅動件和注液針,所述第一驅動件用于帶動所述注液針沿第一方向移動以穿過所述鍋蓋伸入所述安裝腔內,所述注液針對應所述注液工位設置;所述吸液結構包括相連接的第二驅動件和吸液針,所述第二驅動件用于帶動所述吸液針沿所述第一方向移動以穿過所述鍋蓋伸入所述安裝腔內,所述吸液針對應所述吸液工位設置。
可選地,所述清洗區的數量為至少兩個,至少兩個所述清洗區沿所述清洗盤的轉動方向依次間隔設置。
可選地,所述第一磁體的高度為H1,所述第二磁體的高度為H2,H2≤2/3H1。
可選地,所述注液結構還包括注液混勻平臺、混勻驅動組件和混勻抓手,所述第一驅動件、所述混勻驅動組件、所述混勻抓手和所述注液針均與所述注液混勻平臺連接,所述第一驅動件用于帶動所述注液混勻平臺沿所述第一方向移動,所述混勻驅動組件用于帶動所述混勻抓手轉動,所述混勻抓手用于抓取所述反應杯。
可選地,所述混勻驅動組件包括混勻電機、傳動輪和同步帶,所述混勻電機與所述注液混勻平臺連接,所述傳動輪可轉動地安裝在所述注液混勻平臺上,所述傳動輪與所述混勻抓手連接,所述同步帶繞設于所述混勻電機的輸出軸和所述傳動輪外。
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