[實用新型]cvd金剛石制備反應腔冷卻結構有效
| 申請號: | 202223191764.2 | 申請日: | 2022-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN219099303U | 公開(公告)日: | 2023-05-30 |
| 發明(設計)人: | 劉小利 | 申請(專利權)人: | 常州寶頤金剛石科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/27;F25D17/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 213000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | cvd 金剛石 制備 反應 冷卻 結構 | ||
1.一種cvd金剛石制備反應腔冷卻結構,其特征在于:包括外層圓柱腔(1)、內層反應腔(6)、第一隔水板(81)和第二隔水板(82),所述內層反應腔(6)置于外層圓柱腔(1)內,所述內層反應腔(6)的外壁上呈環形陣列設置有縱向條狀凹槽(7),所述外層圓柱腔(1)上設置有第一進水口(2)、第二進水口(3)、第一回水口(4)、第二回水口(5),所述第一隔水板(81)和第二隔水板(82)對稱且固定安裝在外層圓柱腔(1)的內壁上,所述第一隔水板(81)和第二隔水板(82)將外層圓柱腔(1)、內層反應腔(6)之間的區域分隔為第一冷卻區域(11)和第二冷卻區域(12),所述第一進水口(2)、第一回水口(4)連通至第一冷卻區域(11),所述第二進水口(3)、第二回水口(5)連通至第二冷卻區域(12)。
2.根據權利要求1所述的cvd金剛石制備反應腔冷卻結構,其特征在于:所述縱向條狀凹槽(7)的深度設置為3mm-4mm。
3.根據權利要求1所述的cvd金剛石制備反應腔冷卻結構,其特征在于:所述第一隔水板(81)和第二隔水板(82)的內端與內層反應腔(6)的外壁之間存在5mm-8mm的間隙。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于常州寶頤金剛石科技有限公司,未經常州寶頤金剛石科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202223191764.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種化妝品乳化設備
- 下一篇:一種碳化硅生產加工用干燥倉
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





