[實(shí)用新型]一種方形凹槽拋光裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202223168627.7
• 申請(qǐng)日: 2022-11-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN219131812U
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-06-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉國(guó)淦
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海現(xiàn)代先進(jìn)超精密制造中心有限公司
• 主分類號(hào): B24B19/02
• 分類號(hào): B24B19/02;B24B41/04;B24B41/02
• 代理公司: 上海申浩律師事務(wù)所 31280
• 代理人: 陸葉

本實(shí)用新型涉及光學(xué)零件加工領(lǐng)域。一種方形凹槽拋光裝置，包括研磨機(jī)構(gòu)，研磨機(jī)構(gòu)包括電機(jī)以及拋光盤組件，其特征在于，電機(jī)通過(guò)萬(wàn)向聯(lián)軸器與拋光盤組件聯(lián)動(dòng)；拋光盤組件包括從上至下順序連接的旋轉(zhuǎn)軸、勒洛三角形導(dǎo)向塊、彈性連接結(jié)構(gòu)以及三爪拋光盤；三爪拋光盤的外邊緣的截面為三角形或者與勒洛三角形導(dǎo)向塊的角部截面相匹配；還包括支撐架，支撐架上安裝有電機(jī)支撐橫梁，電機(jī)支撐框架用于安裝電機(jī)；支撐架上還安裝有限位架；限位架上開(kāi)設(shè)有限位槽，限位槽包括用于旋轉(zhuǎn)軸活動(dòng)的圓孔以及用于勒洛三角形導(dǎo)向塊活動(dòng)的方孔，圓孔與方孔上下對(duì)接導(dǎo)通。本實(shí)用新型解決傳統(tǒng)拋光方法無(wú)法對(duì)凹槽底部均勻拋光的問(wèn)題。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及光學(xué)零件的加工領(lǐng)域，具體涉及拋光裝置。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中，光刻機(jī)需要將掩模版和硅片進(jìn)行精確的位置對(duì)準(zhǔn)，以確保光刻機(jī)的套刻精度，對(duì)準(zhǔn)需要將掩模版和工件臺(tái)上對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)，工件臺(tái)上對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)掩模版制作工藝制造，稱之為基準(zhǔn)版，基準(zhǔn)版上面是特殊標(biāo)記，圖形下面需要放置光探測(cè)器，基準(zhǔn)版通常的厚度為6.35mm，隨著光刻機(jī)套刻精度越來(lái)越高，探測(cè)器到基準(zhǔn)版上方標(biāo)記的距離就越小，這時(shí)需要在基準(zhǔn)版上開(kāi)不同的凹槽孔，凹槽中放置光探測(cè)器，以使得探測(cè)器離標(biāo)記距離更近，為了透光和放置光路誤差，凹槽的底部需要進(jìn)行高精度拋光，由于結(jié)構(gòu)形式的需要，很多凹槽為方形，面型精度控制在1um以內(nèi)，拋光的粗糙度需要控制在Ra小于1nm，并且要求表面不能由劃痕；

傳統(tǒng)拋光方法，拋光工件在一個(gè)旋轉(zhuǎn)的平臺(tái)上，拋光盤在水平面上擺動(dòng)，這種拋光方式可以實(shí)現(xiàn)很高的表面精度，而凹槽底部拋光則無(wú)法使用這種方式進(jìn)行拋光。

還有一種傳統(tǒng)的柱面拋光方法，拋光工件在一個(gè)XY方向平移臺(tái)上，拋光盤也在上方進(jìn)行擺動(dòng)，這種拋光方法應(yīng)用在凹槽拋光的時(shí)候，由于拋光盤不能擺出凹槽，導(dǎo)致凹槽底靠近凹槽壁的地方去除率低，拋光不均勻產(chǎn)生較大的邊緣效應(yīng)，導(dǎo)致底部的平面度較差，同時(shí)拋光的效率非常低。

目前缺乏一種適用于方形凹槽的拋光裝置。

實(shí)用新型內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種方形凹槽拋光裝置，以解決以上至少一個(gè)技術(shù)問(wèn)題。

為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供了一種方形凹槽拋光裝置，包括研磨機(jī)構(gòu)，所述研磨機(jī)構(gòu)包括電機(jī)以及拋光盤組件，其特征在于，所述電機(jī)通過(guò)萬(wàn)向聯(lián)軸器與所述拋光盤組件聯(lián)動(dòng)；

所述拋光盤組件包括從上至下順序連接的旋轉(zhuǎn)軸、勒洛三角形導(dǎo)向塊、彈性連接結(jié)構(gòu)以及三爪拋光盤；

所述三爪拋光盤的外邊緣的截面為三角形或者與勒洛三角形導(dǎo)向塊的角部截面相匹配；

還包括支撐架，所述支撐架上安裝有電機(jī)支撐橫梁，所述電機(jī)支撐框架用于安裝所述電機(jī)；

所述支撐架上還安裝有限位架，所述限位架與所述支撐架縱向滑動(dòng)連接，且所述限位架與所述支撐架通過(guò)第一鎖緊機(jī)構(gòu)相對(duì)固定；

所述限位架上開(kāi)設(shè)有限位槽，所述限位槽包括用于旋轉(zhuǎn)軸活動(dòng)的圓孔以及用于勒洛三角形導(dǎo)向塊活動(dòng)的方孔，所述圓孔與所述方孔上下對(duì)接導(dǎo)通。

本實(shí)用新型通過(guò)優(yōu)化拋光裝置的結(jié)構(gòu)，利用勒洛三角形的等寬特性，實(shí)現(xiàn)方形拋光軌跡；同時(shí)利用三爪拋光盤實(shí)現(xiàn)凹槽底面的均勻去除，解決傳統(tǒng)拋光方法無(wú)法對(duì)凹槽底部均勻拋光的問(wèn)題，同時(shí)顯著降低凹槽底部拋光的劃痕風(fēng)險(xiǎn)。

通過(guò)限位架的上下位置的調(diào)節(jié)以及彈性連接結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)拋光壓力的調(diào)節(jié)。

進(jìn)一步優(yōu)選的，所述電機(jī)支撐橫梁與所述支撐架縱向滑動(dòng)連接，且，所述電機(jī)支撐橫梁與所述支撐架通過(guò)第二鎖緊機(jī)構(gòu)相對(duì)固定。

便于實(shí)現(xiàn)電機(jī)高度的調(diào)節(jié)。

進(jìn)一步優(yōu)選的，還包括基座，所述基座與所述支撐架相連；

所述基座上安裝有工件擺放機(jī)構(gòu)。