[實用新型]吸附裝置和拋光設備有效
| 申請號： | 202223115261.7 | 申請日： | 2022-11-23 |
| 公開（公告）號： | CN218984400U | 公開（公告）日： | 2023-05-09 |
| 發明（設計）人： | 蔣仁付;李輝;何小明;劉曉東 | 申請（專利權）人： | 四川旭虹光電科技有限公司;東旭科技集團有限公司 |
| 主分類號： | B24B41/06 | 分類號： | B24B41/06;B24B29/00 |
| 代理公司： | 北京鼎佳達知識產權代理事務所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 張瑩瑩;劉鐵生 |
| 地址： | 621099 四川*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 吸附 裝置 拋光 設備 | ||
1.一種吸附裝置，其特征在于，包括：
吸附板(11)，所述吸附板(11)具有第一表面(111)，所述第一表面(111)設置有真空凹槽(12)和環繞所述真空凹槽(12)的環形凹槽(13)，且所述環形凹槽(13)與所述真空凹槽(12)間隔設置；
所述吸附板(11)上還設置有真空孔(14)，所述真空孔(14)第一端與所述真空凹槽(12)連通，第二端與外界連通；
密封圈(15)，所述密封圈(15)與所述環形凹槽(13)相適配，所述密封圈(15)設置在所述環形凹槽(13)內。
2.根據權利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，
所述密封圈(15)的厚度大于所述環形凹槽(13)的深度。
3.根據權利要求2所述的吸附裝置，其特征在于，
所述密封圈(15)的厚度與所述環形凹槽(13)的深度的差值為h，1mm≤h≤1.5mm。
4.根據權利要求3所述的吸附裝置，其特征在于，
所述環形凹槽(13)的深度為d，2mm≤d≤2.5mm。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的吸附裝置，其特征在于，
所述密封圈(15)為橡膠圈。
6.根據權利要求1至4中任一項所述的吸附裝置，其特征在于，
所述第一表面(111)為平面。
7.根據權利要求1至4中任一項所述的吸附裝置，其特征在于，
所述真空凹槽(12)為圓柱狀槽體。
8.根據權利要求1至4中任一項所述的吸附裝置，其特征在于，
所述真空孔(14)的第二端設置在所述吸附板(11)的第二表面(112)上，所述第二表面(112)與所述第一表面(111)相鄰設置。
9.根據權利要求8所述的吸附裝置，其特征在于，
所述真空孔(14)包括第一部分(141)和第二部分(142)，所述第一部分(141)與所述真空凹槽(12)連通，且垂直于所述第一表面(111)，所述第二部分(142)一端與所述第一部分(141)連通，另一端延伸至所述第二表面(112)，且所述第二部分(142)與所述第二表面(112)垂直設置。
10.一種拋光設備，其特征在于，包括如權利要求1至9中任一項所述的吸附裝置。
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