[實用新型]探測盤及金屬探測儀有效
| 申請號: | 202223049621.8 | 申請日: | 2022-11-16 |
| 公開(公告)號: | CN218917663U | 公開(公告)日: | 2023-04-25 |
| 發明(設計)人: | 曹楠 | 申請(專利權)人: | 上海天巡電子設備有限公司 |
| 主分類號: | G01V3/10 | 分類號: | G01V3/10 |
| 代理公司: | 上海弼興律師事務所 31283 | 代理人: | 胡美強 |
| 地址: | 201799 上海市青浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 探測 金屬 探測儀 | ||
1.一種探測盤,所述探測盤用于金屬探測儀,其特征在于,所述探測盤包括:
發射線圈,所述發射線圈的形狀為D形;
接收線圈,所述接收線圈的形狀為D形;
盤體,所述盤體具有容置腔,所述發射線圈及所述接收線圈疊設于所述容置腔內,所述發射線圈的弧線部分與所述接收線圈的弧線部分相背離,所述發射線圈的直線部分與所述接收線圈的直線部分相重疊。
2.如權利要求1所述的探測盤,其特征在于,所述發射線圈的上側面與所述接收線圈的上側面相平行,所述發射線圈與所述接收線圈在垂直于所述探測盤的盤面方向位于不同的層面。
3.如權利要求1所述的探測盤,其特征在于,所述容置腔包括左腔體及右腔體,所述發射線圈與所述接收線圈分別設于所述左腔體及所述右腔體中的一個,所述左腔體的底部設有若干凸起部。
4.如權利要求1所述的探測盤,其特征在于,所述盤體包括相匹配的盤蓋與盤底,所述盤蓋與所述盤底之間形成所述容置腔。
5.如權利要求1所述的探測盤,其特征在于,所述盤體整體呈橢圓形,所述盤體的內部鏤空。
6.如權利要求5所述的探測盤,其特征在于,所述盤體還包括若干加強件,若干所述加強件設于所述鏤空處。
7.如權利要求1所述的探測盤,其特征在于,所述探測盤的上側面還具有兩個間隔設置的耳板,所述耳板用于連接所述金屬探測儀的連接桿。
8.如權利要求7所述的探測盤,其特征在于,所述耳板的內側面設有若干凹槽。
9.如權利要求1所述的探測盤,其特征在于,所述容置腔內還用于灌注環氧樹脂;
和/或,所述探測盤還包括出線口,所述接收線圈及所述發射線圈均自所述出線口伸出;
和/或,所述發射線圈及所述接收線與所述容置腔之間均具有移動間隙。
10.一種金屬探測儀,其特征在于,所述金屬探測儀包括如權利要求1-9中任意一項所述的探測盤,所述金屬探測儀還包括:
連接桿;
主機,所述主機與所述探測盤分別設于所述連接桿的兩端,所述主機與所述探測盤通信連接;
彎桿,所述彎桿與所述連接桿相連接;
托架,所述托架設于所述彎桿。
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