[實用新型]一種高層紀念塔

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202223049521.5
• 申請日: 2022-11-16
• 公開（公告）號: CN218541753U
• 公開（公告）日: 2023-02-28
• 發(fā)明（設計）人: 陳麗
• 申請（專利權）人: 陳麗
• 主分類號: E04H13/00
• 分類號: E04H13/00;A01G9/02;A01G25/00
• 代理公司: 上海弼興律師事務所 31283
• 代理人: 胡美強

1.一種高層紀念塔，其特征在于，其包括斜坡式結構體、土壤、若干個墓位和若干個支撐立柱，若干個所述墓位由上至下呈退臺式布設于所述斜坡式結構體的外表面并形成多層的臺階式墓位，多層所述臺階式墓位組成紀念塔，若干個所述支撐立柱用于支撐上下相鄰兩層所述臺階式墓位，所述土壤填充于所述斜坡式結構體的外表面與若干個所述墓位之間，所述墓位包括墓穴和樹穴，所述墓穴位于所述樹穴的頂部，所述樹穴的底部連接于所述土壤，所述斜坡式結構體的頂部具有雨水收集部，所述雨水收集部內(nèi)的水用于澆灌所述土壤和所述樹穴。

2.如權利要求1所述的一種高層紀念塔，其特征在于，所述斜坡式結構體內(nèi)具有內(nèi)部空間，所述墓位還包括有背景墻和靈窗，所述背景墻開設有通風通道，所述通風通道自所述背景墻的外側(cè)面向內(nèi)貫穿所述土壤和所述斜坡式結構體并與所述內(nèi)部空間相連通，所述靈窗連接于所述背景墻并嵌入至所述通風通道內(nèi)。

3.如權利要求2所述的一種高層紀念塔，其特征在于，所述靈窗為花格窗。

4.如權利要求2所述的一種高層紀念塔，其特征在于，所述一種高層紀念塔還包括中央墓壇，所述中央墓壇設置于所述內(nèi)部空間內(nèi)；

和/或，所述一種高層紀念塔還包括雕像塔，所述雕像塔設置于所述內(nèi)部空間內(nèi)。

5.如權利要求1所述的一種高層紀念塔，其特征在于，所述墓位包括追思臺和行走臺，所述追思臺和所述行走臺均位于所述樹穴中背向所述斜坡式結構體的一端，且所述追思臺的兩端分別連接于所述行走臺和所述樹穴，所述支撐立柱的底部連接于所述墓位的所述追思臺，所述支撐立柱的頂部連接于上方所述墓位的所述行走臺，每一層所述墓位通過多個所述行走臺形成有公共通道。

6.如權利要求5所述的一種高層紀念塔，其特征在于，所述墓位還包括安全護欄，所述安全護欄連接于所述行走臺中背向所述追思臺的一端。

7.如權利要求1所述的一種高層紀念塔，其特征在于，所述墓位還包括墓碑，所述墓碑連接于所述墓穴上。

8.如權利要求1所述的一種高層紀念塔，其特征在于，所述一種高層紀念塔還包括若干個地宮，若干個所述地宮沿高度方向多層布設于所述斜坡式結構體的下方，每一個所述地宮具有多個地宮墓位。

9.如權利要求1所述的一種高層紀念塔，其特征在于，所述紀念塔的平面造型為方形、圓形或者多邊形；

和/或，所述紀念塔設有多個垂直交通核。

10.如權利要求1所述的一種高層紀念塔，其特征在于，所述樹穴與所述土壤之間設有篦網(wǎng)。