[實用新型]一種檢測設備有效
| 申請號: | 202223005378.X | 申請日: | 2022-11-11 |
| 公開(公告)號: | CN219391853U | 公開(公告)日: | 2023-07-21 |
| 發明(設計)人: | 辛自強;黃有為;陳魯;張嵩 | 申請(專利權)人: | 深圳中科飛測科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/956 | 分類號: | G01N21/956;G01N21/01 |
| 代理公司: | 深圳鼎合誠知識產權代理有限公司 44281 | 代理人: | 劉志海;彭家恩 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市龍華區觀瀾*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 檢測 設備 | ||
一種檢測設備,包括用于獲取被測件上預定特征的預掃描組件和獲取被測件的檢測信息的檢測組件,預掃描組件被配置成優先于檢測組件掃描被測件,以在檢測組件掃描到預定特征的位置時,檢測設備自第一狀態切換至第二狀態;在第一狀態下,被測件接收到具有第一預設參數的檢測光;在第二狀態下,被測件接收到具有不同于第一預設參數的第二預設參數的檢測光。通過配置的預掃描組件,可優先于檢測組件對被測件進行掃描,以探測和收集被測件上預定特征的相關信息;當檢測組件掃描到預定特征的位置時,通過調節被測件接收到的檢測光,能夠使得檢測光低功率掃過或精確略過預定特征,從而有效避免因預定特征炸裂而污染被測件,為提高檢測精度提供保障。
技術領域
本實用新型涉及檢測技術領域,具體涉及一種檢測設備。
背景技術
在半導體光學檢測設備領域,隨著檢測設備靈敏度的提升與吞吐量的提高,采用更大功率、更短波長的深紫外工業級激光器作為檢測光源,已經成為半導體光學檢測設備的首選。
以晶圓缺陷檢測設備為例,激光器出射的光束照明在晶圓缺陷上會產生散射信號,借助預先設定在預設角度位置的探測器接收散射信號,通過對信號的處理即可完成晶圓缺陷的檢測。然而,由于激光束的波長短、能量高、功率大,在激光束照射在晶圓上后,有可能會將晶圓上的某些特殊缺陷(例如疏松的大尺寸有機物顆粒缺陷)炸開,從而對晶圓造成污染,影響檢測精度。
實用新型內容
本實用新型主要解決的技術問題是提供一種檢測設備,能夠避免發生晶圓污染等問題。
一種實施例中提供一種檢測設備,所述檢測設備被配置成可控地在第一狀態與第二狀態之間切換,所述檢測設備包括:
預掃描組件,用于向被測件出射探測光,以獲取被測件的預定特征的信息;以及
檢測組件,用于向被測件出射檢測光,以獲取被測件的檢測信息;所述檢測組件與預掃描組件配合設置,且所述預掃描組件被配置成優先于檢測組件掃描被測件,以在所述檢測組件掃描到預定特征的位置時,所述檢測設備自第一狀態切換至第二狀態;
在所述第一狀態下,所述檢測設備使被測件接收到具有第一預設參數的檢測光;在所述第二狀態下,所述檢測設備使被測件接收到具有第二預設參數的檢測光;其中,所述第一預設參數不同于第二預設參數。
一個實施例中,所述預掃描組件包括預掃描光源裝置和第一探測通道,所述預掃描光源裝置用于向被測件出射可見光波長的探測光;所述第一探測通道與預掃描光源裝置配合設置,用于探測所述探測光在被測件上形成的第一光斑,以獲取預定特征的信息;
所述檢測組件包括檢測光源裝置和第二探測通道,所述檢測光源裝置用于向被測件出射紫外光波長的檢測光;所述第二探測通道與檢測光源裝置配合設置,用于探測所述檢測光在被測件上形成的第二光斑,以獲取被測件的檢測信息。
一個實施例中,所述預掃描光源裝置被配置成產生線光束形式的探測光,以使得形成于被測件上的所述第一光斑呈線光斑;所述檢測光源裝置被配置成產生線光束形式的檢測光,以使得形成于被測件上的所述第二光斑呈線光斑;其中,當所述預掃描組件與檢測組件同時掃描被測件時,所述第一光斑和第二光斑于被測件上平行分布。
一個實施例中,所述預掃描光源裝置包括光源件、光路轉向件和光束整形件;其中,所述光源件被配置成產生點光束形式的探測光;所述光路轉向件設置于光源件的光出射側,用于將接收到的探測光沿預設路徑輸出至所述光束整形件;所述光束整形件與第一探測通道配合設置,用于將接收的探測光整形為線光束輸出至被測件。
一個實施例中,還包括控制裝置,所述預掃描組件和檢測組件分別與控制裝置信號連接,當所述檢測組件掃描到預定特征的位置時,所述控制裝置能夠關閉檢測光源裝置,或控制檢測光源裝置調節檢測光的參數,從而使得所述檢測設備自第一狀態切換至第二狀態。
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