[實用新型]一種真空磁控濺射鍍膜靶材加工用固定裝置

有效

• 申請號: 202222960500.2
• 申請日: 2022-11-08
• 公開（公告）號: CN218989379U
• 公開（公告）日: 2023-05-09
• 發明（設計）人: 吳昊堃;吳擁軍
• 申請（專利權）人: 湖南中正鑫源新材料有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 長沙和雅知識產權代理事務所(普通合伙) 43238
• 代理人: 林傳貴

本實用新型涉及鍍膜靶材加工技術領域的一種真空磁控濺射鍍膜靶材加工用固定裝置，包括底座和固定連接在底座上表面的支撐座，兩個所述支撐座相對的一側表面均固定連接有固定筒，兩個所述固定筒相對的一端均固定連接有鍍膜箱，兩個所述固定筒的內部均通過軸承轉動連接有電動推桿，兩個所述電動推桿相對的一端均穿設于鍍膜箱的內部并固定連接有固定板。通過固定筒、鍍膜箱、電動推桿、固定板、限位組件、一號擋板、二號擋板、磁控濺射設備和驅動電機的配合使用，從而可便于對不同尺寸的鍍膜靶材進行夾持固定，可對鍍膜靶材的另外兩側進行位置限位，避免在翻轉時，靶材位置錯位，影響通過磁控濺射設備對靶材表面的鍍膜效果。

技術領域

本實用新型涉及鍍膜靶材加工技術領域，特別是涉及一種真空磁控濺射鍍膜靶材加工用固定裝置。

背景技術

鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應，而真空磁控濺射技術是指一種利用陰極表面配合的磁場形成電子陷阱，使在E×B的作用下電子緊貼陰極表面飄移。設置一個與靶面電場正交的磁場，濺射時產生的快電子在正交的電磁場中作近似擺線運動，增加了電子行程，提高了氣體的離化率，同時高能量粒子與氣體碰撞后失去能量，基體溫度較低，在不耐溫材料上可以完成鍍膜。

如授權公告號為CN216473457U所公開的一種真空鍍膜用靶材固定裝置，其雖然通過靶材固定裝置安裝了兩塊靶材，當其中一塊靶材鍍膜處理完成后，可以通過翻轉電機帶動冷卻背板的翻轉，便于對另一塊靶材進行鍍膜處理，這樣有助于減少開腔清理次數，提高工作生產效率，但現有技術中在對鍍膜靶材固定的過程中，由于鍍膜靶材的形狀一般都是圓形，在翻轉鍍膜時，圓形的鍍膜靶材在沒有限位的作用下時，靶材本體容易翻轉時位置滑動，導致靶材滑落，影響對靶材鍍膜的問題，為此我們提出一種真空磁控濺射鍍膜靶材加工用固定裝置。

實用新型內容

針對上述問題，本實用新型提供了一種真空磁控濺射鍍膜靶材加工用固定裝置，具有在夾持鍍膜靶材翻轉時，可對鍍膜靶材進行位置限位的作用。

本實用新型的技術方案是：一種真空磁控濺射鍍膜靶材加工用固定裝置，包括底座和固定連接在底座上表面的支撐座，兩個所述支撐座相對的一側表面均固定連接有固定筒，兩個所述固定筒相對的一端均固定連接有鍍膜箱，兩個所述固定筒的內部均通過軸承轉動連接有電動推桿，兩個所述電動推桿相對的一端均穿設于鍍膜箱的內部并固定連接有固定板，兩個所述固定板的內部設有限位組件，所述限位組件的兩端均固定連接有一號擋板和二號擋板，所述鍍膜箱的內部安裝有磁控濺射設備。

在進一步的技術方案中，所述底座的上表面轉動連接有固定螺筒，所述固定螺筒的內部螺紋連接有固定螺桿，所述固定螺桿的頂端固定連接有支撐板，所述支撐板的形狀呈弧形狀，所述固定筒的一側放置在支撐板的內部。

在進一步的技術方案中，所述限位組件包括開設在固定板內部的固定槽，所述固定槽的內部滑動連接有兩個滑板，兩個所述滑板相對的一側表面均固定連接有強力拉伸彈簧，兩個所述滑板不相對的一側表面分別固定連接有一號拉桿和二號拉桿，所述一號拉桿和二號拉桿的一端分別與一號擋板和二號擋板。

在進一步的技術方案中，其中一個支撐座的內部固定連接有驅動電機，所述驅動電機的輸出軸通過聯軸器與其中一個電動推桿固定連接。

在進一步的技術方案中，所述鍍膜箱的一側通過螺栓固定連接有頂蓋，所述頂蓋的上表面安裝有真空機。

在進一步的技術方案中，兩個所述固定板相對的一側表面均固定連接有防滑墊，且所述防滑墊的材質為橡膠材質，且所述固定板和防滑墊的形狀呈弧形狀。

本實用新型的有益效果是：