[實(shí)用新型]一種氣浮式精密CVD鍍膜設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202222843288.1
• 申請(qǐng)日: 2022-10-27
• 公開（公告）號(hào): CN218620631U
• 公開（公告）日: 2023-03-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李西平;周鵬華;舒尊啟;梅芳;王大鵬;陶奎任
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 宸亞（蘭考縣）科技有限公司
• 主分類號(hào): C03C17/00
• 分類號(hào): C03C17/00
• 代理公司: 鄭州立格知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 41126
• 代理人: 田云紅

本實(shí)用新型涉及CVD鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種氣浮式精密CVD鍍膜設(shè)備，包括加熱爐，所述加熱爐內(nèi)設(shè)置有鍍膜區(qū)，所述鍍膜區(qū)內(nèi)設(shè)置有與外部氣源導(dǎo)通的氣浮裝置，所述氣浮裝置的頂部設(shè)置有噴氣孔，所述氣浮裝置的兩側(cè)沿設(shè)置有傳動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述氣浮裝置的上方設(shè)置有鍍膜器；本實(shí)用新型，能夠在無載片的狀態(tài)下實(shí)現(xiàn)對(duì)玻璃基板的鍍膜操作，對(duì)鍍膜器噴射出的化學(xué)原料氣體進(jìn)行密封，維持鍍膜工藝的穩(wěn)定性，保證鍍膜效果；同時(shí)避免了利用載片帶來的諸多不利影響。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及CVD鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種氣浮式精密CVD鍍膜設(shè)備。

背景技術(shù)

現(xiàn)有玻璃鍍膜技術(shù)多種多樣，有在線CVD鍍膜工藝；也有離線鍍膜玻璃工藝；由于離線鍍膜玻璃工藝相對(duì)而言更有優(yōu)勢，因此離線CVD技術(shù)越來越受到業(yè)內(nèi)重視。但是離線CVD技術(shù)一個(gè)很大的難題就是CVD工藝過程中，化學(xué)前驅(qū)體在經(jīng)過加工設(shè)備噴嘴噴向玻璃載片時(shí)如何密封；如果鍍膜前驅(qū)體氣體密封失敗將造成薄膜厚度失控、性能不穩(wěn)、空間污染等問題，使鍍膜工藝過程難以持續(xù)進(jìn)行。

現(xiàn)有離線CVD技術(shù)有通常采用尺寸稍大的石英類、高硼硅玻璃、微晶玻璃、或石墨類板材作為待鍍膜基板玻璃的載片，將玻璃基板放置在載片上面，一起加熱后再進(jìn)行CVD鍍膜，之后再同時(shí)退火，最后與載片分離從而獲得鍍膜玻璃產(chǎn)品。

而現(xiàn)有載片玻璃鍍膜工藝中，CVD鍍膜設(shè)備因?yàn)楸仨毷褂幂d片才能維持CVD鍍膜過程中的化學(xué)前驅(qū)體密封，存在以下固有缺陷：一是載片反復(fù)裝載所造成的工作效率大幅度下降；二是載片與玻璃基板之間存在黏連風(fēng)險(xiǎn)，當(dāng)鍍膜溫度偏高時(shí)會(huì)造成玻璃基板與載片之間的黏連或者是玻璃基板表面光潔度、平整度的破壞；三是能耗因反復(fù)加熱冷卻載片而大幅度提高；四是玻璃基板因?yàn)槭茌d片影響往往不能均勻受熱，經(jīng)常造成邊部應(yīng)力超標(biāo)引發(fā)開裂破片，影響成品率；五是玻璃基板容易受到載片影響造成玻璃基板受熱不均勻，影響鍍膜均勻性；六是載片的反復(fù)加熱、冷卻極易造成載片破損，成本上升明顯。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是提供一種氣浮式精密CVD鍍膜設(shè)備，能夠在無載片的狀態(tài)下實(shí)現(xiàn)對(duì)玻璃基板的鍍膜操作，對(duì)鍍膜器噴射出的化學(xué)原料氣體進(jìn)行密封，維持鍍膜工藝的穩(wěn)定性，保證鍍膜效果；同時(shí)避免了利用載片帶來的諸多不利影響。

本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案：

一種氣浮式精密CVD鍍膜設(shè)備，包括加熱爐，所述加熱爐內(nèi)設(shè)置有鍍膜區(qū)，所述鍍膜區(qū)內(nèi)設(shè)置有與外部氣源導(dǎo)通的氣浮裝置，所述氣浮裝置的頂部設(shè)置有噴氣孔，所述氣浮裝置的兩側(cè)沿設(shè)置有傳動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述氣浮裝置的上方設(shè)置有鍍膜器。

優(yōu)選地，所述的氣浮裝置包括氣體容置腔，所述氣體容置腔頂部設(shè)置有氣浮臺(tái)，所述噴氣孔設(shè)置在所述氣浮臺(tái)上；所述氣體容置腔底部設(shè)置有空氣加熱器。

優(yōu)選地，所述的噴氣孔沿所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的運(yùn)行方向傾斜向上設(shè)置。

優(yōu)選地，所述的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在所述氣浮裝置兩側(cè)的邊部靠輪，所述邊部靠輪下方設(shè)置有差速器。

優(yōu)選地，所述的鍍膜區(qū)兩側(cè)的所述加熱爐內(nèi)導(dǎo)通設(shè)置有加熱區(qū)及退火區(qū)；所述加熱區(qū)及退火區(qū)內(nèi)均設(shè)置有輸送機(jī)構(gòu)。

優(yōu)選地，所述的加熱爐內(nèi)部的所述加熱區(qū)及所述鍍膜區(qū)內(nèi)均設(shè)置有加熱器。

優(yōu)選地，所述的鍍膜區(qū)內(nèi)的所述加熱器呈邊部密集中部稀疏的分布結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選地，所述的退火區(qū)內(nèi)部設(shè)置有與外界冷源導(dǎo)通的冷氣管。

優(yōu)選地，所述的輸送機(jī)構(gòu)為由陶瓷輥組成的輸送帶。

優(yōu)選地，所述的加熱爐上設(shè)置有保溫層。