[實(shí)用新型]一種自修正的基坑位移監(jiān)測裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202222674950.5 | 申請日: | 2022-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN218469781U | 公開(公告)日: | 2023-02-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 方圓;尤偉軍;周煒;張江雄;陳嘉錫;丁振軒 | 申請(專利權(quán))人: | 中建三局第一建設(shè)工程有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | G01B11/02 | 分類號: | G01B11/02;G01C5/00;E02D33/00 |
| 代理公司: | 武漢世躍專利代理事務(wù)所(普通合伙) 42273 | 代理人: | 鄔麗明 |
| 地址: | 430040 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 修正 基坑 位移 監(jiān)測 裝置 | ||
本申請涉及基坑監(jiān)測技術(shù)領(lǐng)域,提供一種自修正的基坑位移監(jiān)測裝置,包括立桿、設(shè)置在立桿上的攝像頭、分布在基坑待測區(qū)域的與攝像頭配合的紅外靶標(biāo)、與攝像頭數(shù)據(jù)連接的數(shù)據(jù)處理系統(tǒng),立桿的下端設(shè)置有基座,立桿內(nèi)設(shè)置有豎立的通道,通道內(nèi)設(shè)置有測斜儀;立桿上還設(shè)置有安裝腔,安裝腔內(nèi)固定設(shè)置有沉降監(jiān)測儀;測斜儀和沉降監(jiān)測儀分別與數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)數(shù)據(jù)連接,基座設(shè)置在基坑的外圍。通過對立桿的空間利用,在其內(nèi)部設(shè)置通道,并在通道內(nèi)設(shè)置測斜儀,以及在立桿的安裝腔內(nèi)設(shè)置沉降監(jiān)測儀,可確定攝像頭的位置變化,從而實(shí)現(xiàn)對基坑位移變化的自動(dòng)修正,有效保證基坑位移監(jiān)測數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性,提升監(jiān)測效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于基坑監(jiān)測技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種自修正的基坑位移監(jiān)測裝置。
背景技術(shù)
隨著城市發(fā)展進(jìn)程的推進(jìn),為提升土地資源的利用率,加大對地下空間的開發(fā),深基坑項(xiàng)目越來越多。做好基坑監(jiān)測,能有效的減少基坑事故的風(fēng)險(xiǎn)。但是傳統(tǒng)的人工監(jiān)測,受人為因素較大,監(jiān)測頻率受限,時(shí)效性也較慢;因而,基坑監(jiān)測已逐步向自動(dòng)化,智能化發(fā)展。以公開號為CN205712221U的專利為例,其在激光測距儀與變形測量系統(tǒng)頂點(diǎn)和基準(zhǔn)點(diǎn)的配合下,實(shí)現(xiàn)對基坑土體的位移和沉降的實(shí)時(shí)監(jiān)測。現(xiàn)有的攝影測量技術(shù)可以同時(shí)對多點(diǎn)位位置的位移進(jìn)行自動(dòng)監(jiān)測,因此,應(yīng)用至基坑監(jiān)測項(xiàng)目,可實(shí)現(xiàn)對基坑位移非接觸式自動(dòng)監(jiān)測。故上述已知專利技術(shù)中的激光測距儀也可以被攝影測量技術(shù)中的攝像頭替代,利用攝像頭與設(shè)置在基坑上的紅外靶標(biāo)配合,實(shí)現(xiàn)基坑位移的非接觸式自動(dòng)監(jiān)測。但是,由于攝影測量的攝像頭裝置,安裝在基坑周邊,會受到基坑開挖的影響,從而引起攝像頭的位置變化,導(dǎo)致監(jiān)測的基坑位移值出現(xiàn)偏差,導(dǎo)致監(jiān)測位移數(shù)據(jù)不準(zhǔn)確,存在較大安全風(fēng)險(xiǎn)。該問題在上述已知專利中也同樣存在,其激光測距儀設(shè)置在基坑一側(cè),基坑的位移會導(dǎo)致激光測距儀自身偏移,而影響監(jiān)測結(jié)果。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于解決現(xiàn)有基坑位移監(jiān)測裝置的監(jiān)測設(shè)備受基坑位移影響而發(fā)生偏移,導(dǎo)致監(jiān)測基坑位移數(shù)據(jù)不準(zhǔn)確的問題。
本實(shí)用新型提供一種自修正的基坑位移監(jiān)測裝置,包括立桿、設(shè)置在立桿上的攝像頭、分布在基坑待測區(qū)域的與所述攝像頭配合的紅外靶標(biāo)、與所述攝像頭數(shù)據(jù)連接的數(shù)據(jù)處理系統(tǒng),所述立桿的下端設(shè)置有基座,所述立桿內(nèi)設(shè)置有豎立的通道,所述通道內(nèi)設(shè)置有測斜儀;所述立桿上還設(shè)置有安裝腔,所述安裝腔內(nèi)固定設(shè)置有沉降監(jiān)測儀;所述測斜儀和所述沉降監(jiān)測儀分別與所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)數(shù)據(jù)連接,所述基座設(shè)置在基坑的外圍。
進(jìn)一步地,所述測斜儀包括導(dǎo)輪式雙向測斜儀,所述導(dǎo)輪式雙向測斜儀通過吊繩與所述立桿的所述通道的頂端連接。
進(jìn)一步地,所述立桿的通道的頂端設(shè)置有水平的頂蓋,所述吊繩與所述頂蓋連接。
進(jìn)一步地,所述基座包括混凝土基礎(chǔ),所述混凝土基礎(chǔ)的上端預(yù)埋有連接螺栓,所述連接螺栓與所述立桿的下端固定連接。
進(jìn)一步地,所述立桿上設(shè)置有橫桿,所述攝像頭設(shè)置在所述橫桿上。
進(jìn)一步地,所述橫桿包括固定端和懸挑端,所述攝像頭安裝在所述懸挑端,所述固定端設(shè)置有夾頭,所述夾頭與所述立桿夾持固定連接。
進(jìn)一步地,所述基坑待測區(qū)域包括設(shè)置在基坑的支護(hù)結(jié)構(gòu)的上端的冠梁的表面。
進(jìn)一步地,所述紅外靶標(biāo)有多個(gè),沿所述冠梁的長度方向間隔設(shè)置在所述冠梁的上端面。
本實(shí)用新型的有益效果是:通過攝像頭、紅外靶標(biāo)和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)的相互配合,實(shí)現(xiàn)對基坑待測區(qū)域多點(diǎn)位置的位移全天候非接觸式定頻監(jiān)測,提升監(jiān)測時(shí)效性;同時(shí),通過對立桿的空間利用,在其內(nèi)部設(shè)置通道,并在通道內(nèi)設(shè)置測斜儀,以及在立桿的安裝腔內(nèi)設(shè)置沉降監(jiān)測儀,可確定攝像頭的位置變化,從而實(shí)現(xiàn)對基坑位移變化的自動(dòng)修正,有效保證基坑位移監(jiān)測數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性,提升監(jiān)測效果,極大的減小的基坑安全風(fēng)險(xiǎn),為基坑施工安全保駕護(hù)航。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型自修正的基坑位移監(jiān)測裝置使用狀態(tài)下的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
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