[實用新型]一種高濃度廢酸資源化工藝裝置

有效

• 申請號: 202222671707.8
• 申請日: 2022-10-11
• 公開（公告）號: CN218232124U
• 公開（公告）日: 2023-01-06
• 發明（設計）人: 王振宇;朱海杰;郭鵬飛;王臣;彭帥帥
• 申請（專利權）人: 安徽浩悅環境科技有限責任公司
• 主分類號: C02F9/00
• 分類號: C02F9/00;C01F11/46;C02F1/66;C02F1/38;C02F1/52
• 代理公司: 合肥正則元起專利代理事務所(普通合伙) 34160
• 代理人: 朱明里

本實用新型公開了一種高濃度廢酸資源化工藝裝置，本實用新型涉及廢酸資源化處理技術領域，包括依次設置的廢酸儲槽、稀釋調節器、轉晶反應器、中和沉淀器、離心機和污水處理箱，所述廢酸儲槽與稀釋調節器的進料口連接，稀釋調節器的出料口通過籃式過濾器與轉晶反應器的進料口連接，轉晶反應器的上部還連接有第一加藥裝置，本實用新型有效處理高濃度廢酸的同時，可制備資源化產品二水石膏，不僅可以解決硫酸的處置問題，也實現了廢酸的資源化利用，通過穩定反應速率和反應器外部物理冷卻來控制體系溫度，用多級反應的工藝來實現硫酸同氫氧化鈣形成硫酸鈣沉淀物的反應過程，在反應全程對體系三廢進行有效的收集和處理。

技術領域

本實用新型涉及廢酸資源化處理技術領域，具體為一種高濃度廢酸資源化工藝裝置。

背景技術

硫酸在化工行業、染料行業、醫藥行業中有著重要的應用。特別是硫酸的使用在半導體行業中占據了主要的作用，隨著人工智能、物聯網、5G、智能駕駛等新應用爆發，將驅使全球半導體產業持續增長，隨著集成電路產業的發展，廢酸產生量將會逐年增加，目前半導體行業中產生的廢酸主要以96％的硫酸和2％的過氧化氫浸蝕氧化液晶電路板工藝所產生。

硫酸雖然參與了整個生產過程，但它并沒有被全部利用，目前對于廢硫酸的資源化利用技術比較落后，加上處理廢酸的成本也比較高，所以并沒有對廢酸進行很好的利用，甚至直接排放，這樣做嚴重危害環境，因此找到合理利用廢酸的資源化利用方式，提高資源化利用水平和能力成為當前生產的迫切需求。

實用新型內容

本實用新型的目的是為了解決現有技術中存在的缺點，而提出的一種高濃度廢酸資源化工藝裝置。

本實用新型可以通過以下技術方案實現：一種高濃度廢酸資源化工藝裝置，包括依次設置的廢酸儲槽、稀釋調節器、轉晶反應器、中和沉淀器、離心機和污水處理箱，所述廢酸儲槽與稀釋調節器的進料口連接，稀釋調節器的出料口連接有籃式過濾器，籃式過濾器與轉晶反應器的進料口連接，轉晶反應器的上部還連接有第一加藥裝置，第一加藥裝置包括石灰乳進口槽和轉晶劑進口槽，轉晶反應器的出料口與中和沉淀器的進料口連接，中和沉淀器的上部連接有第二加藥裝置，第二加藥裝置包括氫氧化鈉進口槽，中和沉淀器的出料口與離心機連接，離心機的出水口與污水處理箱連接。

本實用新型的進一步技術改進在于：稀釋調節器、轉晶反應器和中和沉淀器的上部外接排氣管路，排氣管路上連接廢氣處理機構，廢氣處理機構包括自排氣管路出氣口向外依次設置的硫酸溶液吸收箱、氫氧化鈉溶液吸收箱、活性炭吸收箱和真空泵。

本實用新型的進一步技術改進在于：稀釋調節器的頂面通過管道連接有回用水進口槽，且稀釋調節器的外壁上設置第一冷卻水循環機構，第一冷卻水循環機構包括設置在稀釋調節器的中部外壁至其下部外壁上的第一冷卻水循環腔，第一冷卻水循環腔的側部開設第一冷卻液進口，第一冷卻水循環腔的底面中部開設第一冷卻液出口。

本實用新型的進一步技術改進在于：轉晶反應器的外壁上設置第二冷卻水循環機構，第二冷卻水循環機構包括設置在轉晶反應器中部外壁至其下部外壁上的第二冷卻水循環腔，第二冷卻水循環腔的側部開設第二冷卻液進口，第二冷卻水循環腔的底面中部開設第二冷卻液出口。

本實用新型的進一步技術改進在于：中和沉淀器的外壁上設置第三冷卻水循環機構，第三冷卻水循環機構包括設置在中和沉淀器中部外壁至其下部外壁上的第三冷卻水循環腔，第三冷卻水循環腔的側部開設第三冷卻液進口，第三冷卻水循環腔的底面中部開設第三冷卻液出口。

本實用新型的進一步技術改進在于：廢酸儲槽與稀釋調節器之間的連接管路上設置第一抽泵，稀釋調節器與轉晶反應器之間的連接管路上設置第二抽泵，轉晶反應器與中和沉淀器之間的連接管路上設置第三抽泵，中和沉淀器與離心機之間的連接管路上設置第四抽泵。

與現有技術相比，本實用新型具備以下有益效果：