[實用新型]一種真空鍍膜機用濺鍍室軌道導向結構

有效

• 申請號: 202222556281.1
• 申請日: 2022-09-27
• 公開（公告）號: CN218262715U
• 公開（公告）日: 2023-01-10
• 發明（設計）人: 王啟勝;陳哲;吳志軍;方健
• 申請（專利權）人: 寧波晶創科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/56
• 代理公司: 杭州知見專利代理有限公司 33295
• 代理人: 楊劍

1.一種真空鍍膜機用濺鍍室軌道導向結構，包括傳動架，其特征在于：所述的傳動架上水平方向均勻排列設有若干個傳動輪，傳動輪的兩側對稱設有若干個可以輔助傳動的導向座，導向座包括縱向排列的下防塵塊與上防塵塊，下防塵塊內設有底部導向輪，底部導向輪的一側凸出于下防塵塊，上防塵塊內設有頂部導向輪，上防塵塊可以將頂部導向輪罩住，頂部導向輪的一側凸出于上防塵塊露出。

2.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜機用濺鍍室軌道導向結構，其特征在于：所述的上防塵塊靠近傳動輪的一側開設有轉動槽，頂部導向輪的一側通過導向槽裸露在上防塵塊外側用于頂部的轉動導向。

3.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜機用濺鍍室軌道導向結構，其特征在于：所述的下防塵塊靠近傳動輪的一側開設有轉動腔，底部轉動輪在轉動腔內轉動，底部導向輪的一側通過轉動腔裸露在下防塵塊外側用于底部的轉動導向。

4.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜機用濺鍍室軌道導向結構，其特征在于：所述的頂部導向輪的裸露部分小于等于頂部導向輪體積的三分之一，底部導向輪的裸露部分小于等于底部導向輪體積的三分之一。

5.根據權利要求4所述的一種真空鍍膜機用濺鍍室軌道導向結構，其特征在于：所述的頂部導向輪與底部導向輪位于同一縱向線上，且頂部導向輪與底部導向輪的裸露部分體積相同。

6.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜機用濺鍍室軌道導向結構，其特征在于：所述的導向座頂部安裝有防塵板，防塵板的形狀與上防塵塊的形狀一致。

7.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜機用濺鍍室軌道導向結構，其特征在于：所述的傳動輪兩側的傳動架上對稱設有2個安裝板，導向座均勻分布在2個安裝板上。