[實用新型]一種水冷系統及PECVD設備有效
| 申請號: | 202222543971.3 | 申請日: | 2022-09-26 |
| 公開(公告)號: | CN218232570U | 公開(公告)日: | 2023-01-06 |
| 發明(設計)人: | 郭玉雷;林佳繼;劉群;張武 | 申請(專利權)人: | 深圳市拉普拉斯能源技術有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/50 | 分類號: | C23C16/50 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 潘登 |
| 地址: | 518122 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 水冷 系統 pecvd 設備 | ||
1.一種水冷系統,其特征在于,包括:
冷卻結構(100),所述冷卻結構(100)設置爐體(200)上,所述冷卻結構(100)包括前爐門組件(110)和后爐門組件(120),所述前爐門組件(110)設置在所述爐體(200)的爐口處,所述后爐門組件(120)設置在所述爐體(200)的爐尾處,所述前爐門組件(110)內設有第一冷卻流道,所述后爐門組件(120)內設有第二冷卻流道,所述第一冷卻流道的一端與進液管路(300)連通,所述第一冷卻流道的另一端與所述第二冷卻流道連通,所述第二冷卻流道與出液管路(400)連通。
2.根據權利要求1所述的水冷系統,其特征在于,所述前爐門組件(110)包括依次設置第一法蘭(111)、第二法蘭(112)和第三法蘭(113),所述第一法蘭(111)內設有第一水道(1113),所述第二法蘭(112)內設有第二水道(1123),所述第三法蘭(113)內設有第三水道(1133),所述第一水道(1113)、所述第二水道(1123)與所述第三水道(1133)之間連通,所述第一水道(1113)與所述進液管路(300)連通,所述第三水道(1133)與所述第二冷卻流道連通。
3.根據權利要求2所述的水冷系統,其特征在于,包括以下至少一種構造:所述第一法蘭(111)上設有第一環形槽和第一密封環(1114),所述第一環形槽和所述第一密封環(1114)密封連接形成所述第一水道(1113);
所述第二法蘭(112)上設有第二環形槽和第二密封環,所述第二環形槽和所述第二密封環密封連接形成所述第二水道(1123);
所述第三法蘭(113)上設有第三環形槽和第三密封環,所述第三環形槽和所述第三密封環密封連接形成所述第三水道(1133)。
4.根據權利要求2所述的水冷系統,其特征在于,所述第一法蘭(111)包括相鄰設置的第一進口(1111)和第一出口(1112),所述第一水道(1113)呈環形,所述第一進口(1111)和所述第一出口(1112)均與所述第一水道(1113)連通,所述第一進口(1111)和所述第一出口(1112)通過第一隔板(1115)分隔,所述第一進口(1111)與所述進液管路(300)連通;
所述第二法蘭(112)包括相鄰設置的第二進口(1121)和第二出口(1122),所述第二水道(1123)呈環形,所述第二進口(1121)和所述第二出口(1122)均與所述第二水道(1123)連通,所述第二進口(1121)和所述第二出口(1122)之間通過第二隔板分隔,所述第一出口(1112)與所述第二進口(1121)連通;
所述第三法蘭(113)包括相鄰設置的第三進口(1131)和第三出口(1132),所述第三水道(1133)呈環形,所述第三進口(1131)和所述第三出口(1132)均與所述第三水道(1133)連通,所述第三進口(1131)和所述第三出口(1132)之間通過第三隔板分隔,所述第三進口(1131)與所述第二出口(1122)連通,所述第三出口(1132)與所述第二冷卻流道連通。
5.根據權利要求4所述的水冷系統,其特征在于,第一進口(1111)、所述第二進口(1121)和所述第三進口(1131)之間錯位設置。
6.根據權利要求1所述的水冷系統,其特征在于,所述前爐門組件(110)包括第四法蘭(114)和第一密封套,所述第四法蘭(114)上設有第一螺旋槽,所述第一密封套環設于所述第四法蘭(114)上,所述第一密封套與所述第一螺旋槽之間形成第四水道(1141),所述第四水道(1141)的兩端分別與所述進液管路(300)和所述第二冷卻流道連通。
7.根據權利要求1所述的水冷系統,其特征在于,所述前爐門組件(110)包括第一密封套,所述爐體(200)的外側壁上設有第一螺旋槽,所述第一密封套環設于所述第一螺旋槽上,所述第一密封套與所述第一螺旋槽之間形成第四水道(1141),所述第四水道(1141)的兩端分別與所述進液管路(300)和所述第二冷卻流道連通。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





