[實用新型]一種2-氯乙胺鹽酸鹽合成用離心機

有效

• 申請號: 202222541734.3
• 申請日: 2022-09-26
• 公開（公告）號: CN218167375U
• 公開（公告）日: 2022-12-30
• 發明（設計）人: 劉文龍
• 申請（專利權）人: 杭州盛弗泰新材料科技有限公司
• 主分類號: B04B5/04
• 分類號: B04B5/04;B04B7/00;B04B15/00
• 代理公司: 北京挺立專利事務所(普通合伙) 11265
• 代理人: 郭磊

1.一種2-氯乙胺鹽酸鹽合成用離心機，其特征在于，包括外置增穩機構(100)以及重心調控機構(200)；

所述外置增穩機構(100)包括豎向放置的基座(110)、安裝在基座(110)內壁上的限位夾環(120)、安裝在基座(110)內部的伺服電機(130)、安裝在伺服電機(130)頂端的防護底座(140)、利用套管活動安裝在防護底座(140)內的多個傳動軸桿(150)、安裝在防護底座(140)內腔底部的立柱(160)、活動安裝在立柱(160)內的墊件(170)以及圓周安裝在墊件(170)內的多個伸縮組件(180)；

所述重心調控機構(200)安裝在外置增穩機構(100)內，包括安裝在立柱(160)外部的多個滑桿(210)、安裝在防護底座(140)內腔底部的定位件(220)、活動安裝在滑桿(210)外部的束位組件(230)、連接在束位組件(230)內的兩組夾持墊圈(240)、安裝在束位組件(230)上的齒條板(250)和限位橫板(260)、活動安裝在束位組件(230)和防護底座(140)之間的限位端桿(270)以及活動放置于束位組件(230)內的收納筒(280)。

2.根據權利要求1所述的一種2-氯乙胺鹽酸鹽合成用離心機，其特征在于，所述基座(110)底部的一側開設有對伺服電機(130)進行散熱的氣槽，且基座(110)的內壁開設有適配約束于限位夾環(120)的弧槽。

3.根據權利要求1所述的一種2-氯乙胺鹽酸鹽合成用離心機，其特征在于，所述防護底座(140)的底部安裝有圓環形負重墊盤，所述傳動軸桿(150)的中部活動安裝有套圈，且防護底座(140)的頂部開設有圓周分布且適配夾持于套環的凹孔。

4.根據權利要求1所述的一種2-氯乙胺鹽酸鹽合成用離心機，其特征在于，所述立柱(160)整體呈T字形，且立柱(160)頂部豎管的內部連接有可對墊件(170)底端導桿進行彈性增壓的彈簧。

5.根據權利要求1所述的一種2-氯乙胺鹽酸鹽合成用離心機，其特征在于，所述伸縮組件(180)是由伸縮母桿、伸縮子桿以及安裝在伸縮子桿外端的柱形塞墊組成。

6.根據權利要求1所述的一種2-氯乙胺鹽酸鹽合成用離心機，其特征在于，所述束位組件(230)是由置頂墊環和置底墊環以及安裝在置頂墊環外的橫槽組成，且置底墊環的底部開設有約束于滑桿(210)的滑塊。