[實用新型]一種可減少沉積大顆粒膜層的電弧離子真空鍍膜機

有效

• 申請號: 202222538562.4
• 申請日: 2022-09-25
• 公開（公告）號: CN219586166U
• 公開（公告）日: 2023-08-25
• 發明（設計）人: 應世強;李文
• 申請（專利權）人: 南京丙辰表面技術有限公司
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32;C23C14/50;C23C14/56
• 代理公司: 南京普睿益思知識產權代理事務所(普通合伙) 32475
• 代理人: 王萍

1.一種可減少沉積大顆粒膜層的電弧離子真空鍍膜機，包括支架(17)、固定架(1)和真空控制組件，其特征在于，所述固定架(1)內壁之間固定連接有殼體(2)，殼體(2)側邊固定安插有多個電弧靶(3)，且爐內電弧靶(3)前面爐壁上通過絕緣支架固定安裝有多個環架(5)，環架(5)為臺階型環狀結構，環架(5)的最外側固定安裝有圓形柵板(6)。

2.根據權利要求1所述的一種可減少沉積大顆粒膜層的電弧離子真空鍍膜機，其特征在于，所述殼體(2)頂部固定連接有電機，電機輸出端穿過殼體(2)，且電機輸出端固定連接有轉動軸(7)，轉動軸(7)底端固定連接有轉動盤(8)。

3.根據權利要求2所述的一種可減少沉積大顆粒膜層的電弧離子真空鍍膜機，其特征在于，所述轉動盤(8)底部固定連接有放置桿(9)，放置桿(9)的底端固定連接有底盤(10)。

4.根據權利要求3所述的一種可減少沉積大顆粒膜層的電弧離子真空鍍膜機，其特征在于，所述殼體(2)頂部固定插接有放氣管，放氣管一側設置有放氣閥。

5.根據權利要求1所述的一種可減少沉積大顆粒膜層的電弧離子真空鍍膜機，其特征在于，所述殼體(2)一側轉動連接有開關門(11)，開關門(11)一側固定連接有把手(12)，且開關門(11)內壁上嵌接有密封墊。

6.根據權利要求1所述的一種可減少沉積大顆粒膜層的電弧離子真空鍍膜機，其特征在于，所述真空控制組件包括固定在支架(17)上的維持泵(18)、羅茨泵(19)和機械泵(20)，機械泵(20)與羅茨泵(19)之間相密封連接，羅茨泵(19)與殼體(2)之間密封設置有帶有粗抽閥的第二連接管。

7.根據權利要求6所述的一種可減少沉積大顆粒膜層的電弧離子真空鍍膜機，其特征在于，所述殼體(2)一側固定連接有支撐塊(14)，支撐塊(14)上固定有分子泵(15)，分子泵(15)和殼體(2)之間密封插接固定有帶有高閥的抽氣管(16)。

8.根據權利要求7所述的一種可減少沉積大顆粒膜層的電弧離子真空鍍膜機，其特征在于，所述分子泵(15)與維持泵(18)之間密封設置有帶有維持閥的第一連接管，第一連接管與第二連接管之間密封設置有帶有前級閥的第三連接管。