[實用新型]儲水機構、基站及清潔系統

有效

• 申請號: 202222389371.6
• 申請日: 2022-09-08
• 公開（公告）號: CN218773831U
• 公開（公告）日: 2023-03-31
• 發明（設計）人: 王加南;許超;陳冠洋
• 申請（專利權）人: 追覓創新科技（蘇州）有限公司
• 主分類號: A47L11/40
• 分類號: A47L11/40
• 代理公司: 北京子焱知識產權代理事務所(普通合伙) 11932
• 代理人: 胡晨琛

1.一種儲水機構，適配于基站，其特征在于，包括：

殼體(100)，所述殼體(100)具有安裝槽(110)；

水箱(200)，可拆卸設置在所述安裝槽(110)中；以及

壓力傳感器(300)，設置在所述安裝槽(110)的底部，所述壓力傳感器(300)被配置為所述水箱(200)在所述安裝槽(110)中安裝到位時發出第一信息，所述水箱(200)在所述安裝槽(110)中未安裝到位時發出第二信息。

2.根據權利要求1所述的儲水機構，其特征在于，所述壓力傳感器包括：

壓力感應件；以及

控制件，與所述壓力感應件電連接，所述控制件內設置有第一壓力值和第二壓力值，所述控制件被配置為將所述壓力感應件傳輸的壓力值與所述第一壓力值和所述第二壓力值進行對比，以提供所述第一信息和所述第二信息，所述第一壓力值為所述安裝槽(110)中未放置所述水箱(200)時，所述壓力感應件的數值，所述第二壓力值為所述安裝槽(110)中放置所述水箱(200)但所述水箱(200)中未加液體時，所述壓力感應件的數值。

3.根據權利要求1所述的儲水機構，其特征在于，所述殼體(100)上設有位于所述安裝槽(110)底部的安裝口，所述壓力傳感器(300)設置在所述安裝口中，至少部分所述壓力傳感器(300)的局部超出所述安裝槽(110)的底部的平面。

4.根據權利要求1所述的儲水機構，其特征在于，所述水箱(200)具有自底部向上凹陷形成的凹陷腔，所述殼體(100)的安裝槽(110)內設有與所述凹陷腔配合的凸臺，且所述壓力傳感器(300)避開凸臺分布。

5.根據權利要求1所述的儲水機構，其特征在于，所述安裝槽(110)包括：

第一容納區域(111)和第二容納區域(112)，所述水箱(200)包括第一水箱和第二水箱，所述第一容納區域(111)和所述第二容納區域(112)分別適于容納所述第一水箱和所述第二水箱，且所述第一容納區域(111)和所述第二容納區域(112)的底部均設置所述壓力傳感器(300)。

6.根據權利要求1所述的儲水機構，其特征在于，所述儲水機構還包括：

至少一個液位檢測組件(400)，所述液位檢測組件(400)被配置為檢測所述水箱(200)中的液位。

7.根據權利要求6所述的儲水機構，其特征在于，所述液位檢測組件(400)為浮力閥組件，所述浮力閥組件設置在所述水箱(200)中。

8.根據權利要求7所述的儲水機構，其特征在于，所述液位檢測組件(400)還包括超聲波液位感應件，所述超聲波液位感應件設置在所述水箱(200)的底部。

9.一種基站，其特征在于，包括如權利要求1～8任一項所述的儲水機構。

10.一種清潔系統，其特征在于，包括清潔機器人和如權利要求9所述的基站。