[實用新型]一種基膜生產用加熱裝置

有效

• 申請號: 202222353638.6
• 申請日: 2022-09-05
• 公開（公告）號: CN218429471U
• 公開（公告）日: 2023-02-03
• 發明（設計）人: 周永南;龐澤濤;盛增;潘恩超
• 申請（專利權）人: 江蘇慧智新材料科技有限公司
• 主分類號: B29C35/10
• 分類號: B29C35/10
• 代理公司: 無錫堅恒專利代理事務所(普通合伙) 32348
• 代理人: 杜興

1.一種基膜生產用加熱裝置，其特征在于，包括分設于走膜通道上方和下方的膜加熱器（1），所述膜加熱器（1）包括至少兩個加熱單元（100），所述加熱單元（100）包括光輻射加熱件（110），所述光輻射加熱件（110）的加熱光線朝向所述走膜通道，至少兩個所述加熱單元（100）設置有驅動加熱光線聚攏或分散的角度調節機構（2）。

2.根據權利要求1所述的基膜生產用加熱裝置，其特征在于，所述膜加熱器（1）與走膜通道之間間距可調。

3.根據權利要求1或2所述的基膜生產用加熱裝置，其特征在于，所述光輻射加熱件（110）的加熱光線在所述走膜通道上的投影與所述走膜通道的寬幅方向相平行。

4.根據權利要求2所述的基膜生產用加熱裝置，其特征在于，所述加熱單元（100）包括固定加熱單元（101）和活動加熱單元（102），所述活動加熱單元（102）沿走膜方向及反方向分設于所述固定加熱單元（101）的兩側，所述固定加熱單元（101）和活動加熱單元（102）之間轉動連接。

5.根據權利要求4所述的基膜生產用加熱裝置，其特征在于，所述走膜通道的上方和下方均設置有基座（3），所述膜加熱器（1）夾設于所述基座（3）和走膜通道之間，所述固定加熱單元（101）通過間距調節件（4）與所述基座（3）連接。

6.根據權利要求5所述的基膜生產用加熱裝置，其特征在于，所述角度調節機構（2）為與所述活動加熱單元（102）一一對應的伸縮件（21），所述伸縮件（21）的一端與所述活動加熱單元（102）轉動連接，另一端與所述基座（3）固定連接。

7.根據權利要求5所述的基膜生產用加熱裝置，其特征在于，所述角度調節機構（2）為與所述活動加熱單元（102）一一對應的連桿（22），所述連桿（22）的一端與所述活動加熱單元（102）轉動連接，另一端與所述基座（3）通過齒輪相嚙合。

8.根據權利要求4所述的基膜生產用加熱裝置，其特征在于，所述固定加熱單元（101）和/或活動加熱單元（102）朝向走膜通道的表面為弧面，所述弧面的凹槽延伸方向與所述走膜通道的寬幅方向相平行。

9.根據權利要求1所述的基膜生產用加熱裝置，其特征在于，所述膜加熱器（1）對稱分設于所述走膜通道的上方和下方。

10.根據權利要求1所述的基膜生產用加熱裝置，其特征在于，所述膜加熱器（1）設置有保溫罩（5）。