[實用新型]一種上蠟機自動真空吸盤

有效

• 申請號: 202222254237.5
• 申請日: 2022-08-25
• 公開（公告）號: CN218173872U
• 公開（公告）日: 2022-12-30
• 發明（設計）人: 鄭金龍;楊小麗;周鐵軍;馬金峰
• 申請（專利權）人: 廣東先導微電子科技有限公司
• 主分類號: B65G47/91
• 分類號: B65G47/91
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 胡靜

本實用新型涉及磷化銦襯底材料制造技術領域，公開了一種上蠟機自動真空吸盤，包括基盤、真空吸盤、轉軸、第一傳動件、驅動件、第二傳動件及真空發生件；所述真空吸盤的數量為多個；所述真空吸盤的底部具有所述轉軸，所述吸附孔由上至下依次貫穿所述真空吸盤及所述轉軸；所述轉軸具有所述第一傳動件；所述驅動件固定于所述基盤上，所述驅動件能夠驅動所述真空吸盤繞自身中心軸進行轉動；所述驅動件具有所述第二傳動件；所述真空發生件與所述轉軸轉動連接，所述真空發生件通過所述轉軸與所述吸附孔連通；本實用新型能夠對多個晶片進行吸附并轉動，便于滴蠟裝置同時對多個晶片進行滴蠟操作，提高晶片的生產效率。

技術領域

本實用新型涉及磷化銦襯底材料制造技術領域，特別是上蠟機自動真空吸盤。

背景技術

在100GHz以上的帶寬水平，使用磷化銦基射頻器件在回程網絡和點對點通信網絡的無線傳輸方面具有明顯優勢，未來在6G通信甚至7G通信無線傳輸網絡中，磷化銦襯底將有望成為射頻器件的主流襯底材料。

目前磷化銦襯底晶片上蠟工序，大多都是通過真空吸盤固定晶片并帶動晶片進行轉動，再把蠟液滴落至晶片的表面上，利用離心力的作用使蠟液均勻鋪滿晶片表面；由于真空吸盤需要固定晶片并帶動晶片進行轉動，使得目前使用的上蠟機真空吸盤只可以對單個晶片進行吸附并轉動，不可以對多個晶片進行吸附并轉動，從而不便于滴蠟裝置同時對多個晶片進行滴蠟操作，降低了晶片的生產效率。

中國專利[公開號：CN210778534U]公開了一種用于多個晶片吸附的真空陶瓷吸盤，包括主支桿、把手、橡膠墊、第一連接桿、第二連接桿、第三連接桿、第四連接桿、豎桿、套筒、橡膠墊塊、吸盤體、吸附槽和吸附孔；雖然該專利可以對多個晶片進行吸附；但是該專利并不可以對多個晶片進行吸附并轉動。

實用新型內容

本實用新型的目的是：提供一種上蠟機自動真空吸盤，其能夠對多個晶片進行吸附并轉動，便于滴蠟裝置同時對多個晶片進行滴蠟操作，提高晶片的生產效率。

為了實現上述目的，本實用新型一種上蠟機自動真空吸盤，包括基盤、具有吸附孔的真空吸盤、轉軸、第一傳動件、驅動件、第二傳動件及真空發生件。

所述真空吸盤的數量為多個，多個所述真空吸盤均位于所述基盤的上方；一個所述真空吸盤的底部具有一個所述轉軸，所述吸附孔由上至下依次貫穿所述真空吸盤及所述轉軸；一個所述轉軸具有一個所述第一傳動件；所述驅動件固定于所述基盤上，一個所述真空吸盤對應一個所述驅動件，所述驅動件能夠驅動所述真空吸盤繞自身中心軸進行轉動；一個所述驅動件具有一個所述第二傳動件，所述第二傳動件與所述第一傳動件對應配合；所述真空發生件與所述轉軸轉動連接，且所述真空發生件通過所述轉軸與所述吸附孔連通。

優選地，所述真空發生件包括一個真空發生器、一個連接主管、多個連接支管、及多個旋轉接頭；所述真空發生器與所述連接主管連接并連通，所述連接主管與所有所述連接支管連接并連通，一個所述連接支管通過一個所述旋轉接頭與一個所述轉軸連接并與這個所述轉軸的所述吸附孔連通；多個所述真空吸盤、轉軸、第一傳動件、驅動件、第二傳動件、連接支管、旋轉接頭一一對應。

更優地，所述連接支管的內部安裝有電磁閥。

更優地，所述旋轉接頭固定于所述基盤的上表面，所述旋轉接頭在所述基盤和所述真空吸盤之間起到支撐及定位的作用，以使得所述第一傳動件可以所述第二傳動件進行良好的對應配合。

需要說明的是，所述旋轉接頭不固定于所述基盤的上表面，也不會導致所述第一傳動件與第二傳動件不能進行對應配合，而是兩者的配合效果較差。

作為另一優選，所述真空發生件包括多個真空發生器、多個連接支管及多個旋轉接頭；一個所述真空發生器與一個所述連接支管連接并連通，一個所述連接支管通過一個所述旋轉接頭與一個所述轉軸連接并與這個所述轉軸的所述吸附孔連通。

優選地，多個所述真空吸盤繞所述基盤的中心呈環形陣列分布。