[實(shí)用新型]氫氣再提取系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202222220994.0 | 申請(qǐng)日: | 2022-08-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN217996790U | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-12-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王士軍;柳艷青;榮若貞;張劍敏;王春光;孫芳武;徐金文;鄧彬;燕海龍;崔建新 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 正和集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C01B3/50 | 分類號(hào): | C01B3/50;B01D46/00 |
| 代理公司: | 青島聯(lián)智專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 37101 | 代理人: | 楊春芳 |
| 地址: | 257342*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氫氣 提取 系統(tǒng) | ||
1.一種氫氣再提取系統(tǒng),其特征在于,包括:
多組前處理裝置,各所述前處理裝置包括依次連接的分離器、壓縮機(jī)以及冷卻器;
制氫裝置,其連接在所述前處理裝置下游;
后處理裝置,其連接在所述制氫裝置的下游,各所述后處理裝置也包括依次連接的分離器、壓縮機(jī)以及冷卻器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氫氣再提取系統(tǒng),其特征在于,
所述前處理裝置和所述制氫裝置之間還設(shè)置有一個(gè)分離器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氫氣再提取系統(tǒng),其特征在于,
所述后處理裝置下游連接有一個(gè)氣液分離器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氫氣再提取系統(tǒng),其特征在于,
所述前處理裝置的數(shù)量為兩組,分別為第一前處理裝置和第二前處理裝置;
所述第一前處理裝置包括沿著氣體流動(dòng)方向依次連接的第一分離器、第一壓縮機(jī)和第一冷卻器;
所述第二前處理裝置包括沿著氣體流動(dòng)方向依次連接的第二分離器、第二壓縮機(jī)以及第二冷卻器。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氫氣再提取系統(tǒng),其特征在于,
所述第二分離器的輸出端還連接有瓦斯管網(wǎng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氫氣再提取系統(tǒng),其特征在于,
所述第二分離器和所述瓦斯管網(wǎng)之間設(shè)置有第二開(kāi)關(guān)閥,用于控制與所述瓦斯管網(wǎng)的通斷。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氫氣再提取系統(tǒng),其特征在于,
所述第二分離器和所述第二壓縮機(jī)之間還設(shè)置有第三開(kāi)關(guān)閥,用于控制與所述第二壓縮機(jī)的通斷。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氫氣再提取系統(tǒng),其特征在于,
所述后處理裝置包括第三分離器、第三壓縮機(jī)和第三冷卻器,所述第三冷卻器的輸出端也連接所述瓦斯管網(wǎng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的氫氣再提取系統(tǒng),其特征在于,
所述第三冷卻器和所述瓦斯管網(wǎng)之間設(shè)置有第四開(kāi)關(guān)閥。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氫氣再提取系統(tǒng),其特征在于,
所述制氫裝置為PSA裝置,其上連接有氫氣輸送管路。
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