[實(shí)用新型]一種真空鍍膜設(shè)備用檢測真空壓力的裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202222218731.6
• 申請日: 2022-08-23
• 公開（公告）號(hào): CN218470071U
• 公開（公告）日: 2023-02-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 謝廷偉;劉維松;彭學(xué)實(shí)
• 申請（專利權(quán)）人: 赫得納米科技重慶有限公司
• 主分類號(hào): G01L21/00
• 分類號(hào): G01L21/00;C23C14/54
• 代理公司: 重慶志一加誠專利代理事務(wù)所(普通合伙) 50278
• 代理人: 鄧波

1.一種真空鍍膜設(shè)備用檢測真空壓力的裝置，包括檢測殼體(1)和固定殼體(2)，其特征在于，所述檢測殼體(1)內(nèi)活動(dòng)連接有圓盤(10)，圓盤(10)的頂部固定連接有刻度表?xiàng)U(12)，且刻度表?xiàng)U(12)穿過檢測殼體(1)，所述圓盤(10)的上表面固定連接有強(qiáng)力彈簧(11)，且強(qiáng)力彈簧(11)與檢測殼體(1)相固定，所述檢測殼體(1)的外側(cè)開設(shè)有兩個(gè)卡槽(13)，所述固定殼體(2)內(nèi)固定連接有透氣盤(19)，所述固定殼體(2)內(nèi)活動(dòng)連接有滑環(huán)(18)，滑環(huán)(18)的底部固定連接有多個(gè)輔助彈簧(21)，輔助彈簧(21)的底端固定連接有固定環(huán)(20)，且固定環(huán)(20)與固定殼體(2)相固定，所述固定殼體(2)的外側(cè)開設(shè)有兩個(gè)滑槽(16)，滑槽(16)內(nèi)活動(dòng)連接有楔形架(15)，且楔形架(15)與滑環(huán)(18)相接觸并與卡槽(13)可卡接，所述固定殼體(2)的外側(cè)固定連接有多個(gè)復(fù)位彈簧(17)，且相鄰的兩個(gè)復(fù)位彈簧(17)與楔形架(15)相固定。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜設(shè)備用檢測真空壓力的裝置，其特征在于，所述固定殼體(2)的頂部設(shè)有防護(hù)蓋(3)，且檢測殼體(1)與防護(hù)蓋(3)相接觸，所述防護(hù)蓋(3)的一側(cè)固定連接有拉手(4)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜設(shè)備用檢測真空壓力的裝置，其特征在于，所述檢測殼體(1)的頂部開設(shè)有多個(gè)透氣孔(9)，且透氣孔(9)均勻分布。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜設(shè)備用檢測真空壓力的裝置，其特征在于，所述滑環(huán)(18)的上表面固定連接有密封墊(22)，且密封墊(22)與滑環(huán)(18)等長。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空鍍膜設(shè)備用檢測真空壓力的裝置，其特征在于，所述拉手(4)的一側(cè)設(shè)有多個(gè)防滑紋(5)，且防滑紋(5)均勻分布。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空鍍膜設(shè)備用檢測真空壓力的裝置，其特征在于，所述固定殼體(2)的底部固定連接有安裝板(7)，安裝板(7)的上表面固定連接有兩個(gè)固定塊(6)，且固定塊(6)與固定殼體(2)相固定。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種真空鍍膜設(shè)備用檢測真空壓力的裝置，其特征在于，所述檢測殼體(1)的外側(cè)固定連接有橡膠套(8)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種真空鍍膜設(shè)備用檢測真空壓力的裝置，其特征在于，所述檢測殼體(1)的外側(cè)開設(shè)有兩個(gè)避位槽(14)，且避位槽(14)對稱分布。