[實用新型]一種用于平片清洗的清洗裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202222129984.6
• 申請日: 2022-08-12
• 公開（公告）號: CN218282770U
• 公開（公告）日: 2023-01-13
• 發(fā)明（設計）人: 蘇鵬;田曉強;林冠宏;范紳鉞;崔思遠;文國昇;金從龍
• 申請（專利權(quán)）人: 江西兆馳半導體有限公司
• 主分類號: B08B1/00
• 分類號: B08B1/00;B08B3/04
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 王建宇

1.一種用于平片清洗的清洗裝置，包括操作平臺，其特征在于，還包括設于所述操作平臺上的水槽、用于容置平片的平片清洗槽及用于清洗平片的清洗結(jié)構(gòu)；

所述平片清洗槽內(nèi)設有用于支撐所述平片的支撐板；

所述清洗結(jié)構(gòu)包括刷頭、用于驅(qū)動所述刷頭旋轉(zhuǎn)的刷頭驅(qū)動件、轉(zhuǎn)動臂、用于驅(qū)動所述轉(zhuǎn)動臂升降和旋轉(zhuǎn)的升降旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件以及供水單元，所述刷頭與所述轉(zhuǎn)動臂連接；

所述刷頭內(nèi)設有出水通道，所述出水通道與所述供水單元相連通。

2.如權(quán)利要求1所述的用于平片清洗的清洗裝置，其特征在于，所述水槽內(nèi)設有用于清洗所述刷頭的清洗刷。

3.如權(quán)利要求2所述的用于平片清洗的清洗裝置，其特征在于，所述水槽內(nèi)還設有用于鼓泡的爆氣管，所述爆氣管設于所述清洗刷的外周，所述爆氣管上設有若干出氣孔；

所述水槽外設有用于給所述爆氣管提供氣體的供氣機構(gòu)，所述供氣機構(gòu)與所述爆氣管連接。

4.如權(quán)利要求2所述的用于平片清洗的清洗裝置，其特征在于，所述水槽外設有溢流槽，所述溢流槽用于容置從所述水槽中溢流出的水。

5.如權(quán)利要求4所述的用于平片清洗的清洗裝置，其特征在于，所述溢流槽的高度大于所述水槽的高度。

6.如權(quán)利要求4所述的用于平片清洗的清洗裝置，其特征在于，所述溢流槽設有與所述溢流槽活動連接的上蓋，所述上蓋上設有與所述清洗結(jié)構(gòu)配合的通孔。

7.如權(quán)利要求1所述的用于平片清洗的清洗裝置，其特征在于，所述支撐板上設有用于固定所述平片的固定機構(gòu)。

8.如權(quán)利要求7所述的用于平片清洗的清洗裝置，其特征在于，所述固定機構(gòu)包括用于固定所述平片的夾具氣缸組件，所述夾具氣缸組件包括至少兩個夾具氣缸單元，所述夾具氣缸單元對稱設置于所述支撐板的兩端。

9.如權(quán)利要求1所述的用于平片清洗的清洗裝置，其特征在于，所述平片清洗槽的頂部設有傾斜設置的擋板。

10.如權(quán)利要求9所述的用于平片清洗的清洗裝置，其特征在于，所述擋板與所述平片清洗槽的夾角為30°～60°。